[實用新型]熱處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202222992404.6
• 申請日: 2022-11-10
• 公開（公告）號: CN219085937U
• 公開（公告）日: 2023-05-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 久我恭弘;大島和彥
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;G03F7/16;G03F7/38;G03F7/40
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種熱處理裝置，其特征在于，

該熱處理裝置包括：

加熱部，其支承形成有處理液的膜的基板并對其進(jìn)行加熱；

腔室，其以包圍支承于所述加熱部的所述基板的方式配置；

排氣部，其從所述腔室內(nèi)的空間經(jīng)由位于所述加熱部的周圍的排出口排出氣體；

分隔部，其將所述腔室內(nèi)的空間分隔為所述加熱部上的所述基板暴露的第1空間和位于所述第1空間的上方的第2空間；以及

切換部，其切換利用所述排氣部經(jīng)由所述第1空間使氣體排出的第1狀態(tài)和利用所述排氣部經(jīng)由所述第2空間使氣體排出的第2狀態(tài)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于，

所述熱處理裝置還包括控制部，該控制部在所述加熱部對所述基板的加熱的執(zhí)行過程中控制所述切換部，以從所述第2狀態(tài)切換至所述第1狀態(tài)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的熱處理裝置，其特征在于，

所述排出口包括向所述第1空間開口的第1排出口和向所述第2空間開口的第2排出口，

所述切換部具有封堵構(gòu)件，該封堵構(gòu)件構(gòu)成為在所述第1狀態(tài)下開放與所述第1排出口連接的第1流路且封堵與所述第2排出口連接的第2流路，并構(gòu)成為在所述第2狀態(tài)下封堵所述第1流路且開放所述第2流路。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的熱處理裝置，其特征在于，

所述熱處理裝置還包括流路調(diào)整部，該流路調(diào)整部具有內(nèi)壁，該內(nèi)壁配置在所述第1空間的所述加熱部的周圍，將所述第1空間分隔為包含所述加熱部的容納空間和包含所述排出口的調(diào)整空間，

在所述內(nèi)壁形成有連接所述容納空間和所述調(diào)整空間并沿著所述內(nèi)壁延伸的方向排列的多個排出孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的熱處理裝置，其特征在于，

所述流路調(diào)整部還具有第2內(nèi)壁，該第2內(nèi)壁將所述調(diào)整空間分隔為包含所述內(nèi)壁的緩沖空間和包含所述排出口的排出空間，

在所述第2內(nèi)壁形成有連接所述緩沖空間和所述排出空間并沿著所述第2內(nèi)壁延伸的方向排列的多個第2排出孔。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的熱處理裝置，其特征在于，

在從上方觀察所述加熱部時，在與連結(jié)所述加熱部的中心和所述排出口的中心的方向正交的寬度方向上，所述內(nèi)壁的長度大于所述加熱部上的所述基板的長度。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的熱處理裝置，其特征在于，

在從上方觀察所述加熱部時，所述多個排出孔分別形成為沿著連結(jié)所述加熱部的中心和所述排出口的中心的方向貫穿所述內(nèi)壁。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的熱處理裝置，其特征在于，

在從上方觀察所述加熱部時，所述內(nèi)壁形成為沿著繞所述加熱部的中心的周向延伸。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的熱處理裝置，其特征在于，

所述排出口包括向所述第1空間開口的第1排出口和向所述第2空間開口的第2排出口，

在從上方觀察所述加熱部時，在與連結(jié)所述加熱部的中心和所述第2排出口的中心的方向正交的寬度方向上，所述第2排出口的長度小于所述加熱部的長度，

所述第2空間包括第1流路和第2流路，該第1流路包含將所述第2空間與所述第1空間連接的連接口，該第2流路的所述寬度方向上的大小小于所述第1流路的所述寬度方向上的大小，

所述第2流路的至少局部設(shè)于與所述加熱部重疊的位置。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的熱處理裝置，其特征在于，

在所述腔室的側(cè)壁設(shè)有所述基板的送入送出口，

所述熱處理裝置還包括閘構(gòu)件，該閘構(gòu)件在其與所述側(cè)壁之間設(shè)有間隙地配置，切換從側(cè)方覆蓋所述送入送出口的閉狀態(tài)和開放所述送入送出口的開狀態(tài)，

在所述閉狀態(tài)下，所述側(cè)壁和所述閘構(gòu)件之間的間隙大于在所述閘構(gòu)件的下方形成的間隙。