[實用新型]磁體系統、濺射設備和殼體蓋

有效

• 申請號: 202222849956.1
• 申請日: 2022-10-27
• 公開（公告）號: CN218932278U
• 公開（公告）日: 2023-04-28
• 發明（設計）人: T·桑德;K·施耐德;F·梅斯納;G·格羅斯;S·莫沙默
• 申請（專利權）人: 馮·阿登納資產股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54;H05H1/30;H05H1/34;H05H1/46
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務所 11313
• 代理人: 王珺;李文穎

涉及一種磁體系統、濺射設備和殼體蓋。根據各種實施方式，磁體系統(100)可以包括：殼體(406g)，殼體具有殼體內部空間(406h)；磁體載體(102)，磁體載體設置在殼體內部空間(406h)中并且借助于殼體(406g)優選地相對于殼體位置固定地支承；殼體蓋(406d)，殼體蓋以與殼體(406g)拼接在一起的方式形成流體密封的腔室；其中殼體蓋(406d)具有變速器級(804)、發電機(308)和將變速器級(804)與發電機(308)聯接的轉動饋通件(850)。

技術領域

各種實施例涉及磁體系統、濺射設備和殼體蓋。

背景技術

一般而言，工件或基板可以被工藝處理，例如機加工、覆層、加熱、蝕刻和/或結構改變。用于對基板覆層的方法例如是陰極原子化(所謂的濺射)，陰極原子化是物理氣相沉積(PVD)類型的。例如，一個或多個層可以借助于濺射(即通過濺射工藝)沉積在基板上。為此，可以借助于陰極將形成等離子體的氣體離子化，其中可以借助于在此形成的等離子體將待沉積的材料(靶材料)原子化。然后可以將原子化的靶材料引導至基板，靶材料可以在基板處沉積并且形成層。

對陰極原子化的修改是借助于磁控管進行濺射，即所謂的磁控濺射，或所謂的反應磁控濺射。在此，可以借助于磁場來支持等離子體的形成。磁場可以由磁體系統產生并且穿透陰極(也稱為磁控管陰極)，使得在靶材料表面(靶表面)處可以構成環形等離子體通道，即所謂的軌道，在該等離子體通道中可以形成等離子體。

等離子體的空間分布和與之相關的原子化速率非常敏感地取決于磁場的空間分布。因此，磁體系統對于各種工藝特性，諸如工藝穩定性、再現性、靶利用率和均勻性方面具有特別重要的意義。在此背景下，存在對改進，比如簡化磁體系統和/或減少干擾性影響的基本需求。

發明內容

各種實施方式的一個方面可以直觀地在于：提供可調節的磁場。借助對磁場的調節，可以影響靶材料的霧化，例如使得可以進行盡可能均勻的分子化濺射和/或覆層。

與之相關，已經直觀的認識到：用于通信(例如信號傳輸或驅動控制)的以及功率供應(例如功率產生或功率傳輸)的、為此使用的部件放大了磁體系統的結構復雜性，這使其維護變難并且降低了其可靠性。

根據各種實施方式，提供呈殼體蓋形式的連貫組件，該組件具有變速器級、發電機和轉動饋通件以及可選地具有通信接口。這實現：用于能量產生和可選地用于傳遞信號的部件作為結構單元來提供，該結構單元可以整體地被更換。

變速器級和發電機用于在內部產生能量，而通信接口用于將信號傳遞給調節裝置(其例如具有馬達控制裝置)。除了在運行期間的可靠功能實現之外，殼體蓋在維護情況下可以作為完整的組件取下或更換，而不必影響或改變磁體系統的其余部件。

附圖說明

附圖示出

圖1、圖2以及圖3a、圖5和圖6分別以各種視圖示出根據各種實施方式的磁體系統；

圖4和圖7分別示出根據各種實施方式的濺射設備，并且圖3b示出濺射設備的磁體系統；

圖8和圖9分別以各種視圖示出根據各種實施方式的殼體蓋；

圖10以類似的示意立體圖示出根據各種實施方式的殼體蓋的信號傳遞鏈；

圖11以示意立體圖示出根據各種實施方式的殼體蓋的動力學鏈的發電機側的部分；和

圖12以示意立體圖示出根據各種實施方式的變速器級的驅動側的變速器輪。

具體實施方式