[實用新型]一種用于活性印花工藝中去除印花糊料的超聲波退糊系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202222567488.9 | 申請日: | 2022-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN219280255U | 公開(公告)日: | 2023-06-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 于付才;張楚良;許魯;孫振 | 申請(專利權(quán))人: | 高密市富美特印花有限公司 |
| 主分類號: | D06B13/00 | 分類號: | D06B13/00;D06P5/20 |
| 代理公司: | 濟南方宇專利代理事務所(普通合伙) 37251 | 代理人: | 史長敏 |
| 地址: | 261500 山東省濰坊市高*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 活性 印花 工藝 去除 糊料 超聲波 系統(tǒng) | ||
1.一種用于活性印花工藝中去除印花糊料的超聲波退糊系統(tǒng),其特征在于:按照印花布料運行次序包括:浸軋機構(gòu)、臥式超聲波退糊機構(gòu)和立式超聲波退糊機構(gòu);所述浸軋機構(gòu)包括浸洗池(2)和固定在浸洗池(2)尾部的第一軋車(31);所述浸洗池(2)的前端頂部固定安裝有上布架(1);所述臥式超聲波退糊機構(gòu)包括臥式水洗槽(4),所述臥式水洗槽(4)內(nèi)從前到后均分為若干個臥式水洗槽單元(41),每個臥式水洗槽單元(41)內(nèi)均設(shè)置有臥式超聲波發(fā)生器(43);所述所述立式超聲波退糊機構(gòu)包括立式水洗槽(5),所述立式水洗槽(5)內(nèi)從前到后均分為若干個立式水洗槽單元(51),每個立式水洗槽單元(51)內(nèi)都設(shè)置有立式超聲波機構(gòu),所述立式超聲波機構(gòu)包括超聲波反射板(53)和對稱設(shè)置在超聲波反射板(53)兩側(cè)的立式超聲波發(fā)生器(52);所述臥式水洗槽(4)與立式水洗槽(5)之間固定有第二軋車(32)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述用于活性印花工藝中去除印花糊料的超聲波退糊系統(tǒng),其特征在于:所述浸洗池(2)內(nèi)設(shè)置有用于驅(qū)動布料上下運行的導布輥組和第一噴淋裝置(21)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述用于活性印花工藝中去除印花糊料的超聲波退糊系統(tǒng),其特征在于:每個臥式水洗槽單元(41)內(nèi)均設(shè)有堆置網(wǎng)帶(44),所述堆置網(wǎng)帶(44)的上行網(wǎng)帶與下行網(wǎng)帶之間均勻固定有若干個向上發(fā)射超聲波的臥式超聲波發(fā)生器(43),上行網(wǎng)帶的上方設(shè)置有第二噴淋裝置(42)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述用于活性印花工藝中去除印花糊料的超聲波退糊系統(tǒng),其特征在于:各個立式水洗槽單元(51)的上方和立式超聲波機構(gòu)的下方均設(shè)置有導布輥組,每個立式水洗槽單元(51)上方的導布輥組分別對應設(shè)置有第三噴淋裝置(54)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述用于活性印花工藝中去除印花糊料的超聲波退糊系統(tǒng),其特征在于:每個臥式水洗槽單元(41)的堆置網(wǎng)帶(44)前端的上方都安裝有八角輪(45),每個八角輪(45)的上方都安裝有六角輪(46)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述用于活性印花工藝中去除印花糊料的超聲波退糊系統(tǒng),其特征在于:所述第二噴淋裝置(42)的噴淋管連接有循環(huán)泵(47)。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述用于活性印花工藝中去除印花糊料的超聲波退糊系統(tǒng),其特征在于:每個立式水洗槽單元(51)的底部均固定安裝有加熱管(55)。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述用于活性印花工藝中去除印花糊料的超聲波退糊系統(tǒng),其特征在于:所述立式水洗槽(5)的尾部固定安裝有第三軋車(33)。
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