[實用新型]一種基于疊落燒制的陶瓷淋釉設備

有效

• 申請號: 202222528644.0
• 申請日: 2022-09-23
• 公開（公告）號: CN218138785U
• 公開（公告）日: 2022-12-27
• 發明（設計）人: 葛本祥;王長青;王立霞;孫玉婷;李吉友
• 申請（專利權）人: 淄博中強瓷業有限公司
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04
• 代理公司: 青島恒昇眾力知識產權代理事務所(普通合伙) 37332
• 代理人: 劉敏

1.一種基于疊落燒制的陶瓷淋釉設備，其特征在于：包括

支撐結構，所述支撐結構包括復合支柱(1)和支撐柱(2)，所述復合支柱和支撐柱(2)下端固定連接有固定底板(3)，所述固定底板(3)上開設有固定孔，所述固定孔內連接固定螺栓，并通過固定螺栓將復合支柱(1)和支撐柱(2)位置固定，所述復合支柱(1)上固定連接有撐桿(4)和立柱(12)，所述支撐柱(2)上端固定連接撐桿(4)，兩側所述撐桿(4)上端外側設置有相對設置的斜撐桿(6)，所述斜撐桿(6)端部支撐設置淋釉結構；及

下料結構，所述下料結構包括立柱(12)上端外側緊固連接的托放架(14)，所述托放架(14)前端中間插接托放有加料罐(15)，所述加料罐(15)下端設置有下料管(17)，所述下料管(17)下端貼近淋釉結構上端中間。

2.根據權利要求1所述的一種基于疊落燒制的陶瓷淋釉設備，其特征在于：所述撐桿(4)上端外側緊固連接有連接套(5)，所述連接套(5)一側固定連接有斜撐桿(6)，所述斜撐桿(6)端部傾斜向上，兩側所述斜撐桿(6)相對設置，所述斜撐桿(6)端部設置有淋釉結構。

3.根據權利要求2所述的一種基于疊落燒制的陶瓷淋釉設備，其特征在于：所述淋釉結構包括落釉盤(7)，所述落釉盤(7)呈橢圓頂狀，所述落釉盤(7)下端中間支撐設置有支撐塊(19)，所述斜撐桿(6)支撐固定連接在支撐塊(19)兩側將支撐塊(19)及落釉盤(7)支撐定位。

4.根據權利要求1所述的一種基于疊落燒制的陶瓷淋釉設備，其特征在于：所述復合支柱(1)和支撐柱(2)一側設置有對應的固定桿(8)，兩側所述固定桿(8)之間設置有可拆卸連接的連接架(9)，所述連接架(9)端部固定連接放置架(10)，所述放置架(10)上端放置固定有托盤(11)，所述托盤(11)與上端的落釉盤(7)一側邊對應。

5.根據權利要求1所述的一種基于疊落燒制的陶瓷淋釉設備，其特征在于：所述立柱(12)上端外側通過緊固螺栓緊固連接緊固套(13)，所述緊固套(13)前后兩側一體成形的設置有托放架(14)，兩側所述托放架(14)呈U形分布，所述托放架(14)前端中間插放有下料結構。

6.根據權利要求5所述的一種基于疊落燒制的陶瓷淋釉設備，其特征在于：所述下料結構包括加料罐(15)，所述加料罐(15)前后兩側固定連接有掛板(18)，所述掛板(18)掛接定位在托放架(14)上，所述加料罐(15)下端連通截止閥(16)，所述截止閥(16)一側設置有開關把手，所述截止閥(16)下端連通下料管(17)，所述下料管(17)下端貼近淋釉裝置中落釉盤(7)的上端中間。