[實用新型]檢測裝置及處理設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202222510142.5 | 申請日: | 2022-09-21 |
| 公開(公告)號: | CN218158369U | 公開(公告)日: | 2022-12-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙成偉;鄔文波 | 申請(專利權(quán))人: | 西實顯示高新材料(沈陽)有限公司 |
| 主分類號: | G01V8/14 | 分類號: | G01V8/14 |
| 代理公司: | 華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 黃鴻華 |
| 地址: | 110170 遼寧*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢測 裝置 處理 設(shè)備 | ||
1.一種檢測裝置,其特征在于,包括:
發(fā)射件,用于產(chǎn)生檢測光線;
第一反射件,用于反射所述檢測光線;
第二反射件,與所述第一反射件之間設(shè)有間隙;及
接收件,與所述發(fā)射件處于預(yù)定平面的一側(cè);所述第一反射件及所述第二反射件處于所述預(yù)定平面的另一側(cè);所述接收件用于接收至少經(jīng)所述第一反射件及所述第二反射件反射的所述檢測光線。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置,其特征在于,包括導光件,所述導光件用于對檢測光線進行傳導;所述導光件至少一部分設(shè)置于所述發(fā)射件與所述第一反射件之間,及/或,所述導光件至少一部分設(shè)置于所述第二反射件與所述接收件之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測裝置,其特征在于,所述導光件沿周向包圍所述檢測光線。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測裝置,其特征在于,所述導光件包括設(shè)置于所述發(fā)射件與所述第一反射件之間的第一管部及設(shè)置于所述第二反射件與所述接收件之間的第二管部;所述導光件還包括對接部,所述對接部連接于所述第一管部與所述第二管部之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的檢測裝置,其特征在于,所述對接部呈中空設(shè)置;所述對接部的一側(cè)設(shè)置安裝孔;所述對接部的另一側(cè)設(shè)置位置對應(yīng)于所述安裝孔的通槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測裝置,其特征在于,還包括連接于所述導光件的承托片;其中,
所述承托片設(shè)有用于貼合所述第一反射件或所述第二反射件的側(cè)斜面;或,
所述承托片上形成有至少三個抵持于所述第一反射件或所述第二反射件底側(cè)的支點。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢測裝置,其特征在于,所述導光件在所述承托片的一側(cè)設(shè)置取件槽,所述取件槽用于供所述第一反射件或所述第二反射件通過。
8.一種處理設(shè)備,其特征在于,包括如權(quán)利要求1至7任意一項所述的檢測裝置。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的處理設(shè)備,其特征在于,還包括箱體裝置;所述箱體裝置用于形成內(nèi)腔;所述第一反射件及所述第二反射件設(shè)置于所述內(nèi)腔中;所述發(fā)射件及所述接收件設(shè)置于所述內(nèi)腔外側(cè);其中,
所述內(nèi)腔為真空腔,所述箱體裝置還設(shè)有能夠讓檢測光線透過的透射窗,所述透射窗具有透光性及氣密性,所述發(fā)射件及所述接收件均對應(yīng)于所述透射窗;和/或,所述處理設(shè)備還包括設(shè)置于所述內(nèi)腔外側(cè)的支架;所述發(fā)射件及所述接收件通過所述支架連接于所述箱體裝置。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的處理設(shè)備,其特征在于,多個所述檢測裝置沿平行于預(yù)定路徑的方向分布。
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