[實用新型]一種輔熱型PECVD管式鍍膜爐

有效

• 申請號: 202222210469.0
• 申請日: 2022-08-19
• 公開（公告）號: CN218435947U
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發明（設計）人: 蔡新興;張飛;孫鐵囤
• 申請（專利權）人: 常州億晶光電科技有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50;C23C16/46
• 代理公司: 常州市英諾創信專利代理事務所(普通合伙) 32258
• 代理人: 王美華

1.一種輔熱型PECVD管式鍍膜爐，包括爐體(4)，承載有硅片的石墨舟(3)送入爐體(4)內進行PECVD工藝，其特征在于：還包括爐管和輔助加熱裝置，所述的爐管沿爐體(4)內壁環向間隔分布，所述的輔助加熱裝置包括單行硅片加熱裝置(5)和單列硅片加熱裝置(1)，所述的單行硅片加熱裝置(5)沿石墨舟(3)單行硅片方向布置在爐體(4)內壁上；所述的爐體(4)內壁沿石墨舟(3)單行硅片方向開有滑槽(2)，所述的單列硅片加熱裝置(1)包括可移動加熱電阻絲，該可移動加熱電阻絲長度與石墨舟(3)單列硅片寬度一致并平行于石墨舟(3)單列硅片方向，所述的可移動加熱電阻絲滑動設置在滑槽(2)上。

2.如權利要求1所述的一種輔熱型PECVD管式鍍膜爐，其特征在于：所述的單行硅片加熱裝置(5)包括若干根紅外加熱絲，每根加熱絲均沿石墨舟(3)單向方向布置。

3.如權利要求1所述的一種輔熱型PECVD管式鍍膜爐，其特征在于：所述的輔助加熱裝置還包括控制器和供電裝置，所述的控制器與供電裝置分別與單行硅片加熱裝置(5)和單列硅片加熱裝置(1)線路連接并單獨控制。

4.如權利要求1所述的一種輔熱型PECVD管式鍍膜爐，其特征在于：所述的可移動加熱電阻絲徑向截面呈劣弧型，所述的爐體(4)內腔為圓柱形，則該劣弧與爐體(4)內壁同心。