[實用新型]高效率半導體芯片等離子清洗設備

有效

• 申請號: 202222206004.8
• 申請日: 2022-08-22
• 公開（公告）號: CN217857785U
• 公開（公告）日: 2022-11-22
• 發明（設計）人: 萬華億;韋太球
• 申請（專利權）人: 深圳市震華等離子體智造有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;B08B13/00
• 代理公司: 北京智行陽光知識產權代理事務所(普通合伙) 11738
• 代理人: 吳鳴

本實用新型涉及等離子清洗技術領域，尤其涉及高效率半導體芯片等離子清洗設備。其技術方案包括：柜體，柜體內部的中央位置處固定安裝有傳輸架，且傳輸架內部的兩側皆轉動安裝有滾輪，滾輪的外部轉動安裝有傳輸帶，且傳輸帶上設有多組定位框，傳輸架頂部的一側固定連接有清灰罩，且清灰罩的內部固定連接多組清灰噴嘴，柜體的內部固定安裝有空壓機，柜體內部的上方固定連接有兩組電動滑軌。本實用新型通過各種結構的組合使得本設備可以對傳輸帶上的半導體進行傳輸移動，便于設備對半導體進行連續清洗作業，且本設備可以在設備對半導體清洗前的表面上附著的塵灰進行清潔處理，增加了設備對半導體清潔的方式，擴大了適用范圍。

技術領域

本實用新型涉及等離子清洗技術領域，具體為高效率半導體芯片等離子清洗設備。

背景技術

等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果，現有的等離子清洗機的結構較為簡單，在使用時不具備對物品進行連續清洗的功能，因此我們提出高效率半導體芯片等離子清洗設備。

經檢索，專利公告號為CN216161704U公開了一種等離子噴頭及半導體用大氣等離子清洗設備，涉及半導體加工技術領域。等離子噴頭包括外殼、管狀電極和絕緣體。外殼內部具有容納腔，管狀電極設置于容納腔內，管狀電極的兩側與外殼的內壁間填充有絕緣體且將容納腔分隔成第一腔室和第二腔室，外殼的進氣口與第一腔室連通，外殼的噴氣口與第二腔室連通，第一腔室與第二腔室通過管狀電極的內部通道連通，管狀電極的出氣口與外殼的內壁之間具有間隙現有的技術中CN216161704U在使用的過程中的結構較為簡單，在使用時多數需要工作人員手動對設備進行上料，不具備連續自動對半導體清洗的功能；同時功能較為單一，不具備對半導體表面附著的塵灰進行清理的功能，鑒于此我們提出高效率半導體芯片等離子清洗設備來解決現有的問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供高效率半導體芯片等離子清洗設備，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：高效率半導體芯片等離子清洗設備，包括柜體，所述柜體內部的中央位置處固定安裝有傳輸架，且傳輸架內部的兩側皆轉動安裝有滾輪，所述滾輪的外部轉動安裝有傳輸帶，且傳輸帶上設有多組定位框，所述傳輸架頂部的一側固定連接有清灰罩，且清灰罩的內部固定連接多組清灰噴嘴，所述柜體的內部固定安裝有空壓機，所述柜體內部的上方固定連接有兩組電動滑軌，且電動滑軌上皆滑動安裝有電動推桿，所述電動推桿的輸出端固定連接等離子噴槍，所述柜體的內部固定安裝有等離子主機。

使用本技術方案的高效率半導體芯片等離子清洗設備，傳輸帶可以對半導體進行支撐，同時滾輪通過轉動可以帶動傳輸帶進行轉動，從而可以對半導體進行傳輸移動，傳輸架可以對滾輪與傳輸帶進行安裝支撐，定位框可以對半導體放置時的位置進行定位，等離子噴槍與等離子主機配合可以對傳輸帶上的半導體通過等離子進行清洗，同時通過電動滑軌可以對等離子噴槍進行前后移動調節，電動推桿通過伸展可以對等離子噴槍進行下降，清灰噴嘴與空壓機配合可以在設備對半導體等離子清洗前表面的灰塵進行清理作業，增加了設備對半導體清潔的方式，提高了實用性。

優選的，所述柜體正面的上方活動安裝有密封門，且密封門上鑲嵌安裝有觀察窗，所述密封門的正面設有拉槽。密封門可以對設備作業時的正面進行閉合密封，同時通過觀察窗便于工作人員在密封門閉合情況下對內部的作業情況進行觀察，拉槽便于工作人員對密封門開啟時的操作。

優選的，所述柜體內部的頂部固定連接有定位攝像頭，且傳輸帶上設有多組感應圈，所述空壓機的一側固定安裝有控制主機。定位攝像頭可以對感應圈進行拍攝，同時通過控制主機可以對定位攝像頭拍攝的感應圈進行識別確定，從而當傳輸帶上的半導體移動到指定位置后進行確定，從而便于設備對傳輸帶上的半導體進行精確清洗。