[實用新型]一種晶圓平移機構及反應裝置有效
| 申請號: | 202220482263.0 | 申請日: | 2022-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN216862855U | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發明(設計)人: | 徐鑫;肖蘊章;楊方;陳炳安;鐘國仿 | 申請(專利權)人: | 深圳市納設智能裝備有限公司 |
| 主分類號: | B65G47/74 | 分類號: | B65G47/74;B65G47/82 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 賈耀斌 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市光明區鳳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 平移 機構 反應 裝置 | ||
本申請提供了一種晶圓平移機構及反應裝置,涉及晶圓移動領域。所述晶圓平移機構包括:第一連接板、第一連接部、第一滑動組件、第二滑動組件、托盤、無桿氣缸、第一惰輪組件、第二惰輪組件和過渡室,所述第一連接板上安裝所述第一滑動組件,所述第一連接板上安裝所述第二滑動組件,所述第二滑動組件上安裝所述第一連接部,所述第一連接部上設置所述托盤,所述無桿氣缸安裝在所述過渡室內,所述無桿氣缸的移動體與所述第一連接板相連,所述第一惰輪組件和所述第二惰輪組件均安裝在所述第一連接板上。所述反應裝置包括所述晶圓平移機構。通過第一惰輪組件和第二惰輪組件能將晶圓輸送到更遠的位置,提高晶圓輸送效率。
技術領域
本申請涉及晶圓移動領域,尤其涉及一種晶圓平移機構及反應裝置。
背景技術
在原有的MOCVD(金屬有機化合物化學氣相沉淀)的技術中需要用到真空機械手加傳輸腔來完成晶圓的搬運動作,一般的傳片模式是配置過渡腔與傳輸腔來使用,本身的過渡腔不具備傳片功能,由于真空機械手的成本過高,且使用頻率不高,因此需要一種平移搬運機構來代替機械手取放晶圓的功能。
傳統的金屬有機化合物化學氣相沉淀設備難以通過一套簡單且小型的驅動結構增大晶圓移動的距離,不利于提高晶圓的輸送效率,因此需要一種平移機構能將晶圓輸送到更遠的位置,提高晶圓輸送效率。
實用新型內容
有鑒于此,本實用新型的目的是為了克服現有技術中的不足,提供一種晶圓平移機構及反應裝置。
本實用新型提供如下技術方案:
第一方面,提供一種晶圓平移機構,包括:第一連接板、第一連接部、第一滑動組件、第二滑動組件、托盤、無桿氣缸、第一惰輪組件、第二惰輪組件和過渡室,所述第一連接板上安裝所述第一滑動組件,所述第一滑動組件端部穿設在所述過渡室內,所述第一連接板上安裝所述第二滑動組件,所述第二滑動組件上安裝所述第一連接部,所述第一連接部上設置所述托盤,所述無桿氣缸安裝在所述過渡室內,所述無桿氣缸的移動體與所述第一連接板相連,所述第一惰輪組件和所述第二惰輪組件均安裝在所述第一連接板上,所述第一惰輪組件和所述第二惰輪組件均與所述第一連接部和所述過渡室相連,所述第一惰輪組件用于在所述無桿氣缸驅動所述第一連接板移動靠近所述過渡室時,帶動所述第一連接部和所述托盤向靠近所述過渡室的一側移動;所述第二惰輪組件用于在所述無桿氣缸驅動所述第一連接板移動遠離所述過渡室時,帶動所述第一連接部和所述托盤向遠離所述過渡室的一側移動。
結合第一方面,在一種可能的實施方式中,所述第一惰輪組件包括第一惰輪、第一皮帶、第一固定塊和第二固定塊,所述第一固定塊設于所述過渡室內,所述第一惰輪設于所述第一連接板上且位于所述第一固定塊遠離所述過渡室開口的一側,所述第二固定塊設于所述第一連接部上遠離所述過渡室的一側,所述第一惰輪上繞設所述第一皮帶,所述第一皮帶的兩端分別固定在所述第一固定塊和所述第二固定塊上。
結合第一方面,在一種可能的實施方式中,所述第二惰輪組件包括第二惰輪、第二皮帶、第三固定塊和第四固定塊,所述第三固定塊設于所述過渡室內,所述第四固定塊設于所述第一連接部上,所述第二惰輪設于所述第一連接板上且位于所述第四固定塊遠離所述過渡室開口的一側,所述第二惰輪上繞設所述第二皮帶,所述第二皮帶的兩端分別固定在所述第三固定塊和所述第四固定塊上。
結合第一方面,在一種可能的實施方式中,所述第一滑動組件包括第一導軌和第一滑塊,所述過渡室內固定安裝固定座,所述固定座上安裝所述第一導軌,所述第一導軌上滑動連接所述第一滑塊,所述第一滑塊與所述第一連接板固定連接。
結合第一方面,在一種可能的實施方式中,所述第一滑塊為長條形滑塊,且所述第一滑塊的長度與所述第一連接板的長度相近。
結合第一方面,在一種可能的實施方式中,所述第二滑動組件包括第二導軌和第二滑塊,所述第一連接板頂面固定安裝所述第二導軌,所述第二導軌上滑動連接所述第二滑塊,所述第二滑塊與所述第一連接部固定連接。
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