[發(fā)明專利]磁盤驅(qū)動裝置的底板的制造方法、磁盤驅(qū)動裝置的底板以及磁盤驅(qū)動裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210044605.1 | 申請日： | 2012-02-23 |
| 公開（公告）號： | CN102651219A | 公開（公告）日： | 2012-08-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 小林英一;鈴木昭彥;高橋修 | 申請（專利權(quán)）人： | 美蓓亞株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/84 | 分類號： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人： | 金世煜;苗堃 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 磁盤 驅(qū)動 裝置 底板 制造 方法 以及 | ||
1.一種磁盤驅(qū)動裝置用底板的制造方法，其特征在于，具備：
將鋁壓鑄件制基材成形的成形工序；
用樹脂被膜被覆所述基材的涂裝工序；
除去所述樹脂皮膜的一部分和所述基材的表層部而形成露出基材的部分的機械加工工序；
將所述基材浸漬于不含氟化物的前處理液的前處理工序；和
用金屬皮膜被覆所述露出基材的部分的金屬被膜形成工序。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤驅(qū)動裝置用底板的制造方法，其特征在于，所述金屬被膜是通過鍍覆而形成的。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁盤驅(qū)動裝置用底板的制造方法，其特征在于，所述鍍覆為非電解鍍覆。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁盤驅(qū)動裝置用底板的制造方法，其特征在于，所述非電解鍍覆為非電解鍍鎳。
5.一種磁盤驅(qū)動裝置用底板，其特征在于，具備：
鋁壓鑄件制基材；
被覆所述基材的樹脂皮膜；和
金屬皮膜，其覆蓋利用機械加工除去所述樹脂皮膜的一部分和所述基材的表層部而露出基材的部分。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的底板，其特征在于，所述金屬皮膜是通過鍍覆而形成的。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的底板，其特征在于，所述鍍覆為非電解鍍覆。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的底板，其特征在于，所述非電解鍍覆為非電解鍍鎳。
9.一種磁盤驅(qū)動裝置，具備權(quán)利要求5～8中任一項所述的底板。
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