[實用新型]晶片下蠟裝置

有效

• 申請號: 202220354086.8
• 申請日: 2022-02-21
• 公開（公告）號: CN216859355U
• 公開（公告）日: 2022-07-01
• 發明（設計）人: 萬建軍;宋亞濱;翟虎;陸繼波;陳橋玉;周文輝;趙亨山;李燕
• 申請（專利權）人: 甘肅旭晶新材料有限公司;北京遠大信達科技有限公司
• 主分類號: B24B41/00
• 分類號: B24B41/00
• 代理公司: 北京英創嘉友知識產權代理事務所(普通合伙) 11447
• 代理人: 秦曉東

1.一種晶片下蠟裝置，其特征在于，包括：

工作臺(11)，包括加熱平臺(111)和收片平臺(113)，所述加熱平臺(111)用于對放置在所述加熱平臺(111)上的陶瓷盤(13)進行加熱，以使貼蠟固定于所述陶瓷盤(13)上的晶片(20)脫蠟；

移動組件(15)，設置在所述工作臺(11)上，所述移動組件(15)上連接有吸盤結構(17)，所述移動組件(15)用于帶動所述吸盤結構(17)動作，以將所述陶瓷盤(13)上脫蠟后的所述晶片(20)轉移至所述收片平臺(113)上。

2.根據權利要求1所述的晶片下蠟裝置，其特征在于，所述移動組件(15)包括：

支架(151)，固定在所述工作臺(11)上，所述支架(151)上設置有導軌(153)；

電動葫蘆(155)，滑動設置在所述導軌(153)上并能夠通過驅動結構驅動所述電動葫蘆(155)沿所述導軌(153)的導向方向運動，所述電動葫蘆(155)的吊索端部連接有所述吸盤結構(17)，所述電動葫蘆(155)用于帶動所述吸盤結構(17)上下移動。

3.根據權利要求2所述的晶片下蠟裝置，其特征在于，所述導軌(153)位于所述加熱平臺(111)和收片平臺(113)上方，并與所述加熱平臺(111)和所述收片平臺(113)平行。

4.根據權利要求2所述的晶片下蠟裝置，其特征在于，所述工作臺(11)還包括控制器(115)，所述控制器(115)分別與所述加熱平臺(111)、所述驅動結構和所述電動葫蘆(155)電性連接。

5.根據權利要求4所述的晶片下蠟裝置，其特征在于，所述工作臺(11)還包括顯示器，所述顯示器分別與所述加熱平臺(111)和所述控制器(115)電性連接，用于顯示所述加熱平臺(111)的加熱溫度。

6.根據權利要求1所述的晶片下蠟裝置，其特征在于，所述吸盤結構(17)包括真空板(171)，所述真空板(171)內部為空腔結構，所述真空板(171)下表面沿周向均布有多個與所述空腔結構連通的氣口，多個所述吸盤(173)對應安裝在所述氣口上，所述真空板(171)上表面設置有與所述空腔結構連通的真空接頭(175)，所述真空接頭(175)用于通過真空管與真空泵連通。

7.根據權利要求1所述的晶片下蠟裝置，其特征在于，所以收片平臺(113)上放置有置盤(19)，所述置盤(19)用于承接脫蠟后的所述晶片(20)。

8.根據權利要求7所述的晶片下蠟裝置，其特征在于，所述置盤(19)上沿徑向方向間隔設置有多個環形溝槽(191)，沿所述環形溝槽(191)的圓周方向均布有多個定位凹槽(193)，所述環形溝槽(191)穿過所述定位凹槽(193)，且所述環形溝槽(191)的深度大于所述定位凹槽(193)的深度，所述定位凹槽(193)用于限制放置在所述定位凹槽(193)內的所述晶片(20)移動。

9.根據權利要求1所述的晶片下蠟裝置，其特征在于，所述加熱平臺(111)和所述收片平臺(113)位于同一水平面。

10.根據權利要求1所述的晶片下蠟裝置，其特征在于，所述加熱平臺(111)為恒溫加熱臺。