[實用新型]一種鍍膜腔室清理裝置

有效

• 申請號: 202220340595.5
• 申請日: 2022-02-18
• 公開（公告）號: CN216965470U
• 公開（公告）日: 2022-07-15
• 發明（設計）人: 熊云;李連發;任懷學;王鵬飛;張少華;黃穎;崔平生;余光輝;彭立群;王勇
• 申請（專利權）人: 東莞南玻工程玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司
• 主分類號: B08B1/00
• 分類號: B08B1/00;B08B7/00;B08B13/00;C23C14/56;C23C14/35
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 鐘平

一種鍍膜腔室清理裝置，包括底板、刮板、沾板。刮板設置于底板的上表面，刮板具有遠離底板方向延伸設置的柔性刮邊部件，柔性刮邊部件用于刮落鍍膜腔室頂部的毛刺；沾板設置于底板的上表面，沾板與刮板相隔設置，沾板的上表面具有沾粘層，沾粘層用于沾落鍍膜腔室頂部的柔性垂掛物。本裝置通過將底板放置在傳輸輥上進行移動，使刮板在鍍膜腔室的濺射區域內往復傳輸多次，有效地消除濺射所形成的毛刺，防止毛刺造成玻璃表面放電形成放電紋，同時，沾板還能吸附鍍膜腔室中聚集的毛絮等柔性垂掛物。因此在不影響生產的情況下，裝置便可清理鍍膜腔室頂部的毛刺和柔性垂掛物，其清潔方式便捷，無需其他的專業清潔人員進行清理，降低了清潔成本。

技術領域

本實用新型涉及玻璃鍍膜生產技術領域，特別涉及一種鍍膜腔室清理裝置。

背景技術

真空磁控濺射法是將玻璃方置于真空室中，通入反應氣體，如氬氣、氧氣和氮氣等后來產生分子、原子、離子及電子的濺射。在濺射陰極、陽極間通電時，由于高壓電廠的作用會使得氣體分子電離，帶正電的氬粒子將在電場的加速下，高速向陰極靶材表面撞擊，將靶材表面的金屬離子擊出，以逐漸沉積在玻璃表面形成薄膜。

鍍膜腔室內結構復雜，零部件較多，存在吸附細毛現象，部分靶材粒子會沉積和集聚在這些細毛上，形成尖銳的毛刺。電荷沿著毛刺像下，當有玻璃通過時，產生電弧放電現象，即在玻璃表面形成像閃電一樣的花紋，影響玻璃的鍍膜質量。發生這種情況時，生產線需要停下生產并進行斷電、斷氣，再由專業的設備維修人員打開鍍膜腔室，對其進行清潔，而頻繁的停電、停氣會大大的降低生產效率，導致清潔成本過高。

實用新型內容

本實用新型旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本實用新型提出了一種鍍膜腔室清理裝置，解決了當前對鍍膜腔室進行清理，需進行頻繁的停電、停氣操作，從而導致生產效率低下和清潔成本過高的問題。

根據本實用新型實施例的鍍膜腔室清理裝置，包括：

底板；

刮板，設置于所述底板的上表面，所述刮板具有遠離所述底板方向延伸設置的柔性刮邊部件，所述柔性刮邊部件用于刮落鍍膜腔室頂部的毛刺；

沾板，設置于所述底板的上表面，所述沾板與所述刮板相隔設置，所述沾板的上表面具有沾粘層，所述沾粘層用于沾落所述鍍膜腔室頂部的柔性垂掛物。

根據本實用新型實施例的鍍膜腔室清理裝置，至少具有如下有益效果：通過將底板放置在傳輸輥上進行移動，使底板上的刮板在鍍膜腔室的濺射區域內往復傳輸多次，可有效地消除濺射所形成的毛刺，防止毛刺造成玻璃表面放電形成放電紋，同時，沾板還能吸附鍍膜腔室中聚集的毛絮等柔性垂掛物。因此，對于本實用新型實施例的鍍膜腔室清理裝置，在不影響生產的情況下，便可清理鍍膜腔室頂部的毛刺和柔性垂掛物，其清潔方式便捷，無需其他的專業清潔人員進行清理，降低了清潔成本。

根據本實用新型的實施例，所述鍍膜腔室清理裝置還包括圖像采集單元，所述圖像采集單元用于采集所述鍍膜腔室內的影像數據。

根據本實用新型的實施例，所述鍍膜腔室清理裝置還包括與所述圖像采集單元電性連接的顯示單元，所述顯示單元用于顯示所述圖像采集單元采集的影像數據。

根據本實用新型的實施例，所述圖像采集單元設置有多個，多個所述圖像采集單元用于采集所述鍍膜腔室內不同區域的影像數據。

根據本實用新型的實施例，所述刮板包括：

第一安裝板，設置于所述底板上；

柔性刮邊條，垂直設置于所述第一安裝板上，所述柔性刮邊條的高度不小于所述底板的上表面至所述鍍膜腔室頂部的距離。

根據本實用新型的實施例，所述沾板包括：

第二安裝板，設置于所述底板上并與所述第一安裝板平行；