[實(shí)用新型]一種穩(wěn)定型內(nèi)襯結(jié)構(gòu)及鎂電解槽

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202220169198.6
• 申請(qǐng)日: 2022-01-21
• 公開（公告）號(hào): CN217438316U
• 公開（公告）日: 2022-09-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張吉忠;曲濤;孔德全;陳繼斌;楊濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鄭州鎂鈦智能科技有限公司;昆明理工大學(xué);云南途賽工程建設(shè)有限公司;云南熱能工業(yè)爐工程技術(shù)開發(fā)有限公司
• 主分類號(hào): C25C3/04
• 分類號(hào): C25C3/04;C25C7/00;C25C7/02
• 代理公司: 鄭州知一智業(yè)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 41172
• 代理人: 劉彩霞

本實(shí)用新型提供了一種穩(wěn)定型內(nèi)襯結(jié)構(gòu)及鎂電解槽，涉及電解槽技術(shù)領(lǐng)域，包括內(nèi)襯座，內(nèi)襯座的頂面向下凹設(shè)有沿其長度方向延伸的凹槽，位于凹槽兩側(cè)的內(nèi)襯座頂面用以分別放置雙極板，內(nèi)襯座的寬度方向的兩側(cè)側(cè)壁上開設(shè)有連通凹槽的導(dǎo)流槽。本結(jié)構(gòu)可有效提高雙極板內(nèi)襯的使用壽命，提高電解槽的電解過程穩(wěn)定性。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及電解槽技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種穩(wěn)定型內(nèi)襯結(jié)構(gòu)及鎂電解槽。

背景技術(shù)

多極鎂電解槽需要若干石墨極板放置于陰極和陽極之間以增加電解效率。現(xiàn)有多極鎂電解槽采用半硅磚為支墩，雙極板以矩形等靜壓莫來石片為支撐件。

鎂電解過程中，受磁場和流體場的影響，熔融態(tài)氯化鎂沖擊矩形等靜壓莫來石片，造成矩形等靜壓莫來石片斷裂破損，使位于其上的雙極板傾倒，電解極距無規(guī)則變化，導(dǎo)致極間短路或極距加大，使電解出現(xiàn)非工作狀況，電解出現(xiàn)過熱，增加電耗，降低了電解效率，被迫停槽。增加了運(yùn)行成本和生產(chǎn)效益。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供了一種穩(wěn)定型內(nèi)襯結(jié)構(gòu)及鎂電解槽，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的鎂電解槽的雙極板支撐結(jié)構(gòu)件破損失效，造成鎂電解槽壽命縮短的技術(shù)問題。本實(shí)用新型提供的諸多技術(shù)方案中的優(yōu)選技術(shù)方案所能產(chǎn)生的諸多技術(shù)效果（結(jié)構(gòu)簡單、成本低、使用方便）詳見下文闡述。

本實(shí)用新型提供了一種穩(wěn)定型內(nèi)襯結(jié)構(gòu)，包括內(nèi)襯座，內(nèi)襯座的頂面向下凹設(shè)有沿其長度方向延伸的凹槽，位于凹槽兩側(cè)的內(nèi)襯座頂面用以分別放置雙極板，內(nèi)襯座的寬度方向的兩側(cè)側(cè)壁上開設(shè)有連通凹槽的導(dǎo)流槽。

優(yōu)選地，內(nèi)襯座的橫截面呈倒等腰梯形，凹槽的橫截面呈“V”型或梯形，凹槽的兩側(cè)板以凹槽為對(duì)稱面對(duì)稱設(shè)置。

優(yōu)選地，凹槽兩側(cè)的側(cè)板上開設(shè)的導(dǎo)流槽一一對(duì)應(yīng)。

本實(shí)用新型提供了一種穩(wěn)定型鎂電解槽，包括電解槽，還包括安設(shè)于電解槽內(nèi)的陰極板、陽極板、石墨多級(jí)板和內(nèi)襯座，內(nèi)襯座設(shè)置于陽極板的兩側(cè)，陰極板設(shè)置于陽極板的兩側(cè)且內(nèi)襯座位于陰極板和陽極板之間，石墨多級(jí)板設(shè)置于內(nèi)襯座的頂面上。

本實(shí)用新型提供了一種穩(wěn)定型內(nèi)襯結(jié)構(gòu)，與現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別在于，內(nèi)襯座的中部開設(shè)有凹槽，內(nèi)襯座的側(cè)壁開設(shè)有連通凹槽的導(dǎo)流槽，增加了熔融氯化鎂在電解系統(tǒng)磁場和流體場的穩(wěn)定性，可提高電解槽壽命，增加電流效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為內(nèi)襯座的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為鎂電解槽內(nèi)各組件的配合關(guān)系圖。

圖中：1、內(nèi)襯座；2、凹槽；3、導(dǎo)流槽；4、陽極；5、雙極板；6、陰極。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的描述。顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所得到的所有其它實(shí)施方式，都屬于本實(shí)用新型所保護(hù)的范圍。

實(shí)施例一

本實(shí)用新型提供了一種穩(wěn)定型內(nèi)襯結(jié)構(gòu)，包括內(nèi)襯座1，內(nèi)襯座1的頂面向下凹設(shè)有沿其長度方向延伸的凹槽2，位于凹槽2兩側(cè)的內(nèi)襯座1頂面用以分別放置極板，極板之間間隔設(shè)置，內(nèi)襯座1的寬度方向的兩側(cè)側(cè)壁上開設(shè)有連通凹槽2的導(dǎo)流槽3，兩個(gè)側(cè)壁上開設(shè)的導(dǎo)流槽3相互配合，以使溶液能夠從一側(cè)壁上的導(dǎo)流槽3進(jìn)入凹槽2內(nèi)后從另一側(cè)壁上的導(dǎo)流槽3流出，降低溶液對(duì)內(nèi)襯座1的沖擊。