[發明專利]一種用于硅片的干燥系統

在審

• 申請號: 202211714553.4
• 申請日: 2022-12-29
• 公開（公告）號: CN116007299A
• 公開（公告）日: 2023-04-25
• 發明（設計）人: 徐永帥;請求不公布姓名
• 申請（專利權）人: 西安奕斯偉材料科技有限公司;西安奕斯偉硅片技術有限公司
• 主分類號: F26B5/00
• 分類號: F26B5/00;F26B21/00;F26B21/14;F26B25/02;F26B25/06
• 代理公司: 西安維英格知識產權代理事務所(普通合伙) 61253
• 代理人: 沈寒酉;歸瑩

1.一種用于硅片的干燥系統，其特征在于，所述干燥系統包括：

慢提拉槽，用于盛放設定溫度的去離子水，以將硅片浸沒在所述去離子水中并緩慢提升以使所述硅片表面脫水，從而去除所述硅片表面殘留的清洗液及金屬離子；

氣體吹掃裝置，用于對從所述慢提拉槽中提拉出的所述硅片表面吹掃氮氣以對所述硅片表面進行干燥處理。

2.根據權利要求1所述的干燥系統，其特征在于，所述氣體吹掃裝置包括：

具有開口的框體；

設置于所述框體內的第一驅動模塊；

與所述第一驅動模塊相連接的第一絲桿；

機械臂，所述機械臂的端部上設置有與所述第一絲桿相匹配的螺母，以當所述第一驅動模塊驅動所述第一絲桿旋轉時，所述第一絲桿的旋轉運動轉換成平移運動從而使得所述機械臂能夠在設定的第一雙排滑軌上以設定的速度沿所述框體的縱向方向往復移動。

3.根據權利要求2所述的干燥系統，其特征在于，所述框體的開口處設置有風琴罩，用于將所述氣體吹掃裝置的內部與外部環境進行隔絕。

4.根據權利要求2所述的干燥系統，其特征在于，所述機械臂上設置有至少一個噴嘴，且所述噴嘴的端部設置有與第二絲桿相匹配的螺母，以當與所述第二絲桿相連接的第二驅動模塊驅動所述第二絲桿旋轉時，所述第二絲桿的旋轉運動轉換成平移運動從而使得所述噴嘴能夠在設定的第二雙排滑軌上沿所述機械臂的縱向方向移動，以使得吹掃氣體均勻地被吹掃至所述硅片表面。

5.根據權利要求4所述的干燥系統，其特征在于，在所述第二絲桿的兩端部分別設置有傳感器，用于實時獲知所述噴嘴的實際位置以使所述噴嘴移動至所述第二絲桿的端部時，所述第二驅動模塊能夠控制改變所述噴嘴的移動方向從而實現所述噴嘴的往復移動。

6.根據權利要求4所述的干燥系統，其特征在于，所述噴嘴呈多孔狀，且孔徑D為1mm～4mm。

7.根據權利要求4所述的干燥系統，其特征在于，所述噴嘴所噴射的氮氣的氣體壓力為4bar～6bar。

8.根據權利要求2所述的干燥系統，其特征在于，所述機械臂的材質為聚氯乙烯或聚丙烯。

9.根據權利要求1所述的干燥系統，其特征在于，所述氣體吹掃裝置中設置有至少一條氣體管路以分別與對應的噴嘴相連接，且每條所述氣體管路上均設置有安全閥及氣體流量計。

10.根據權利要求9所述的干燥系統，其特征在于，所述氣體吹掃裝置中設置有加熱模塊，用于對每條所述氣體管路中的氮氣進行加熱處理。