[發明專利]一種多晶硅和單晶硅粉末中雜質處理設備

在審

• 申請號: 202211703600.5
• 申請日: 2022-12-29
• 公開（公告）號: CN116237298A
• 公開（公告）日: 2023-06-09
• 發明（設計）人: 吳紀清
• 申請（專利權）人: 江蘇美科太陽能科技股份有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;C01B33/037;B08B3/10
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 徐澍

1.一種多晶硅和單晶硅粉末中雜質處理設備，包括一個圓形的殼體（2），殼體（2）頂部敞口密封連接頂蓋（5），其特征是：頂蓋（5）上分別設有伸至殼體（2）內部的進料管（6）、進液管（7）、進氣管（8）和出氣管（9），頂蓋（5）頂部中心固定設置垂直的驅動電機（10），驅動電機（10）的輸出軸向下延伸至殼體（2）內部同軸連接傳動軸（12），傳動軸（12）上固定連接換向傳動器（13），換向傳動器（13）的輸出端是多個與傳動軸（12）相垂直的從動軸（14），每個從動軸（14）都通過各自的傳動齒輪組共同連接傳動軸（12），每個從動軸（14）的輸出端外均同軸心固定套有一個旋轉攪拌輪（15）。

2.根據權利要求1所述的一種多晶硅和單晶硅粉末中雜質處理設備，其特征是：每個旋轉攪拌輪（15）的側壁上開有處理槽（16），處理槽（16）遠離從動軸（14）的入口處設有擋板（18），擋板（18）和處理槽（16）入口之間留有距離，處理槽（16）在靠近從動軸（14）的出口處開有回流道（19），回流道（19）貫通殼體2內部。

3.根據權利要求1所述的一種多晶硅和單晶硅粉末中雜質處理設備，其特征是：沿傳動軸（12）的圓周方向上，均勻布置至少兩個從動軸（14）和相應的兩個旋轉攪拌輪（15）；沿傳動軸（12）的軸向上布置至少兩層從動軸（14）和相應的兩個旋轉攪拌輪（15）。

4.根據權利要求1所述的一種多晶硅和單晶硅粉末中雜質處理設備，其特征是：處理槽（16）的內表面整體固定粘一層磨砂層（17），硅粉末進入處理槽（16）內部時與磨砂層（17）發生摩擦。

5.根據權利要求1所述的一種多晶硅和單晶硅粉末中雜質處理設備，其特征是：處理槽（16）為梯形槽結構，遠離從動軸（14）的入口是梯形的底部，靠近從動軸（14）的出口端為梯形的頂部。

6.根據權利要求1所述的一種多晶硅和單晶硅粉末中雜質處理設備，其特征是：殼體（2）的底部設有出料口（3），出料口（3）處設置出料閥（4）。

7.根據權利要求1所述的一種多晶硅和單晶硅粉末中雜質處理設備，其特征是：硅粉末通過進料管（6）進入殼體（2）內，化學藥劑通過進液管（7）添加入殼體（2）內，通過進氣管（8）向殼體（2）內通入加熱氣體，通過出氣管（9）從殼體（2）內排出雜質氣體。