[發明專利]一種周向不均勻、展向拱型穿孔降噪葉片在審
| 申請號: | 202211699047.2 | 申請日: | 2022-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN116221174A | 公開(公告)日: | 2023-06-06 |
| 發明(設計)人: | 肖友洪;盧華兵;原野;楊光輝;許順利;閆瑩 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工程大學 |
| 主分類號: | F04D29/30 | 分類號: | F04D29/30;F04D29/66 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 150001 黑龍江省哈爾濱市南崗區*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 不均勻 穿孔 葉片 | ||
1.一種周向不均勻、展向拱型穿孔降噪葉片,其特征是:包括葉片體,所述葉片體包括前緣、尾緣、壓力面、吸力面,葉片體的前緣一側設置一列拱型穿孔,由壓力面順著氣流方向傾斜至吸力面,葉片體的后緣一側設置三列拱型穿孔,由吸力面順著氣流方向傾斜至壓力面。
2.根據權利要求1所述的一種周向不均勻、展向拱型穿孔降噪葉片,其特征是:葉片體上的穿孔面積占葉片體的1%-2%。
3.根據權利要求1所述的一種周向不均勻、展向拱型穿孔降噪葉片,其特征是:葉片體前緣穿孔位置位于流動分離點之前,穿孔直徑為2-4mm,從上端蓋至下端蓋的穿孔間距均勻分布。
4.根據權利要求1所述的一種周向不均勻、展向拱型穿孔降噪葉片,其特征是:葉片體第一排尾緣穿孔位置位于葉片壓力面漩渦產生之前,三列穿孔間隔均勻,每列穿孔相距為葉片弦長C的8%-10%,穿孔直徑為2-4mm,從上端蓋至下端蓋的穿孔間距均勻分布。
5.根據權利要求1所述的一種周向不均勻、展向拱型穿孔降噪葉片,其特征是:葉片體前緣穿孔偏轉角和尾緣穿孔偏轉角方向相反,且前緣穿孔偏轉角小于尾緣穿孔偏轉角,偏轉角范圍為30°-60°。
6.根據權利要求1所述的一種周向不均勻、展向拱型穿孔降噪葉片,其特征是:葉片穿孔周向型線表達式為:
式中,R為葉片體前緣離圓心的距離,C為葉片弦長,t為變量,取值0-1,a和b為可變參量,對于葉片體前緣穿孔周向型線,a取0.20-0.24,b取0.68-0.86;對于葉片體尾緣第一排穿孔周向型線,a取0.65-0.75,b取0.05-0.19。
7.根據權利要求1所述的一種周向不均勻、展向拱型穿孔降噪葉片,其特征是:葉片穿孔展向型線表達式為:
y=A1+B1x+B2x2+B3x3+B4x4+B5x5+B6x6+B7x7
式中,A1和B1到B7為可變參量,對于葉片前緣穿孔拱型型線,A1取34.20±3.66,B1到B7分別取-3.07±0.88、0.38±0.07、-0.02±6.49e-3、2.90e-4±3.43e-5、-2.41e-6±2.63e-7、7.34e-9±7.72e-10和0;對于葉片尾緣穿孔拱型型線,A1取121.47±3.27,B1到B7分別取-1.78±1.15、0.33±0.13、-0.02±6.49e-3、4.43e-4±1.64e-4、-5.29e-6±2.20e-6、3.02e-8±1.50e-8和-6.57e-11±4.06e-11。
8.根據權利要求1所述的一種周向不均勻、展向拱型穿孔降噪葉片,其特征是:葉片體前緣靠近葉片下端面第一列穿孔位置離葉片前緣的距離L1為葉片弦長C的3%-7%;穿孔之間的間距l1取相應穿孔位置葉高h1的1/n,位于葉片邊緣的穿孔距離葉片邊緣距離為穿孔間距l1的1/2,穿孔數量n取6-12。
9.根據權利要求1所述的一種周向不均勻、展向拱型穿孔降噪葉片,其特征是:葉片體尾緣靠近葉片下端面第一列穿孔位置離葉片前緣的距離L2為葉片弦長C的60%-70%,三列穿孔間距D相同且為葉片弦長C的8%-10%;穿孔之間的間距l2、l3和l4取相應穿孔位置葉高h2、h3和h4的1/n,位于葉片邊緣的穿孔距離葉片邊緣距離為穿孔間距的1/2,穿孔數量n取6-12。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于哈爾濱工程大學,未經哈爾濱工程大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202211699047.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:蒸汽隔離閥
- 下一篇:防止分布式數據庫腦裂的方法、裝置及電子設備





