[發(fā)明專利]一種基于三維點(diǎn)云的圖像生成方法和系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211629805.3 | 申請(qǐng)日: | 2022-12-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN116188891A | 公開(公告)日: | 2023-05-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊星;胡以華;梁振宇;胡睿晗;朱東濤;穆華;王陽陽;高皓琪;許顥礫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國人民解放軍國防科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06V10/774 | 分類號(hào): | G06V10/774;G06V10/764;G06V10/74 |
| 代理公司: | 中國和平利用軍工技術(shù)協(xié)會(huì)專利中心 11215 | 代理人: | 劉光德 |
| 地址: | 410073 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 三維 圖像 生成 方法 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開一種基于三維點(diǎn)云的圖像生成方法和系統(tǒng),涉及三維點(diǎn)云數(shù)據(jù)處理技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明利用樣本點(diǎn)云數(shù)據(jù)訓(xùn)練點(diǎn)云分類模型,使得經(jīng)訓(xùn)練的點(diǎn)云分類模型能夠從表征第一目標(biāo)的原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中識(shí)別出第一目標(biāo);對(duì)原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)的部分?jǐn)?shù)據(jù)點(diǎn)進(jìn)行擾動(dòng)以獲取第一對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù),并計(jì)算經(jīng)訓(xùn)練的點(diǎn)云分類模型將表征第一目標(biāo)的第一對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù)識(shí)別為第二目標(biāo)的分類損失;獲取原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)和第一對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù)之間表征點(diǎn)云泛化距離的第一損失以及表征網(wǎng)格面泛化距離的第二損失,并結(jié)合分類損失確定協(xié)同優(yōu)化損失;通過優(yōu)化協(xié)同優(yōu)化損失確定協(xié)同優(yōu)化損失的最小值,利用協(xié)同優(yōu)化損失的最小值和原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)生成第二對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù),以對(duì)抗來自攻擊方的點(diǎn)云攻擊。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于三維點(diǎn)云數(shù)據(jù)處理技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種基于三維點(diǎn)云的圖像生成方法和系統(tǒng)。
背景技術(shù)
目前,深度學(xué)習(xí)模型研究的深入,使得人臉識(shí)別、目標(biāo)檢測(cè)等基于二維圖像識(shí)別應(yīng)用得到了空前的發(fā)展。可是由于深度學(xué)習(xí)模型是由多層權(quán)重和偏置的數(shù)學(xué)參數(shù)組成的。相對(duì)于二維圖像識(shí)別模型,在360度全向性的角度上考慮,三維點(diǎn)云識(shí)別提供了更加魯棒的人工智能感知工具,廣泛應(yīng)用在雷達(dá)識(shí)別、自動(dòng)駕駛等領(lǐng)域。
針對(duì)三維點(diǎn)云識(shí)別模型脆弱性的研究,相對(duì)于二維圖像識(shí)別模型脆弱性的研究工作相對(duì)較少。本專利針對(duì)三維點(diǎn)云數(shù)據(jù),在對(duì)抗優(yōu)化過程中采用了協(xié)同優(yōu)化的方式進(jìn)行學(xué)習(xí),最終以較少的點(diǎn)云位置的改動(dòng),實(shí)現(xiàn)固定標(biāo)簽的攻擊。
從市場(chǎng)上現(xiàn)有方法來看,通過對(duì)抗優(yōu)化迭代的方式實(shí)現(xiàn)三維點(diǎn)云模型固定標(biāo)簽的攻擊,一般通過獲取待攻擊局部點(diǎn)云和與待攻擊局部點(diǎn)云匹配的待匹配局部點(diǎn)云,計(jì)算待攻擊局部點(diǎn)云內(nèi)每個(gè)點(diǎn)的對(duì)抗攻擊敏感度,并根據(jù)各個(gè)對(duì)抗攻擊敏感度,實(shí)現(xiàn)待攻擊局部點(diǎn)云的擾動(dòng)。
此種實(shí)現(xiàn)方式借鑒了點(diǎn)云和Mesh(三維視覺表征的網(wǎng)格面數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu),由節(jié)點(diǎn)、邊、面組成)之間互相轉(zhuǎn)化的機(jī)制,通過直接計(jì)算對(duì)抗生成點(diǎn)云和Mesh與原始點(diǎn)云和Mesh的距離,實(shí)現(xiàn)對(duì)抗樣本的優(yōu)化生成,而沒有考慮計(jì)算匹配度和敏感度的成本問題。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述技術(shù)問題,本發(fā)明提出一種基于三維點(diǎn)云的圖像生成方案。
本發(fā)明第一方面公開了一種基于三維點(diǎn)云的圖像生成方法。所述方法包括:步驟S1、利用樣本點(diǎn)云數(shù)據(jù)訓(xùn)練點(diǎn)云分類模型,經(jīng)訓(xùn)練的點(diǎn)云分類模型從表征第一目標(biāo)的原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中識(shí)別出所述第一目標(biāo);步驟S2、對(duì)所述原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)的部分?jǐn)?shù)據(jù)點(diǎn)進(jìn)行擾動(dòng)以獲取第一對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù),并計(jì)算所述經(jīng)訓(xùn)練的點(diǎn)云分類模型將表征所述第一目標(biāo)的所述第一對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù)識(shí)別為第二目標(biāo)的分類損失;步驟S3、獲取所述原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)和所述第一對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù)之間表征點(diǎn)云泛化距離的第一損失以及表征網(wǎng)格面泛化距離的第二損失,并結(jié)合所述分類損失確定協(xié)同優(yōu)化損失;步驟S4、通過優(yōu)化所述協(xié)同優(yōu)化損失確定所述協(xié)同優(yōu)化損失的最小值,利用所述協(xié)同優(yōu)化損失的最小值和所述原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)生成第二對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù),以對(duì)抗來自攻擊方的點(diǎn)云攻擊;其中,所述協(xié)同優(yōu)化損失的最小值表征對(duì)所述原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行最小擾動(dòng)以獲取所述第二對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù),且所述經(jīng)訓(xùn)練的點(diǎn)云分類模型將表征所述第一目標(biāo)的第二對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù)識(shí)別為所述第二目標(biāo)。
根據(jù)第一方面的方法,在所述步驟S1中,每一組所述樣本點(diǎn)云數(shù)據(jù)均表征一個(gè)目標(biāo),利用多組樣本點(diǎn)云數(shù)據(jù)訓(xùn)練所述點(diǎn)云分類模型,所述經(jīng)訓(xùn)練的點(diǎn)云分類模型對(duì)各個(gè)目標(biāo)的分類準(zhǔn)確率不低于第一閾值,且從表征第一目標(biāo)的原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中識(shí)別出所述第一目標(biāo)。
根據(jù)第一方面的方法,在所述步驟S2中,所述部分?jǐn)?shù)據(jù)點(diǎn)的數(shù)量與所述原始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中全部數(shù)據(jù)點(diǎn)的數(shù)量之間的比值不超過第二閾值,對(duì)所述部分?jǐn)?shù)據(jù)點(diǎn)的坐標(biāo)值在給定范圍內(nèi)進(jìn)行更改,使得得到的所述第一對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù)仍表征所述第一目標(biāo)。
根據(jù)第一方面的方法,在所述步驟S2中,將所述第一對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù)輸入至所述經(jīng)訓(xùn)練的點(diǎn)云分類模型,基于所述經(jīng)訓(xùn)練的點(diǎn)云分類模型對(duì)所述第一對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù)的識(shí)別結(jié)果,計(jì)算將所述第一對(duì)抗點(diǎn)云數(shù)據(jù)識(shí)別為所述第二目標(biāo)的分類損失。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國人民解放軍國防科技大學(xué),未經(jīng)中國人民解放軍國防科技大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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