[發(fā)明專利]測(cè)量硅片徑向電阻均勻性的裝置及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211613264.5 | 申請(qǐng)日: | 2022-12-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN116008660A | 公開(公告)日: | 2023-04-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳曦鵬;孫介楠;金花;樸星昱 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安奕斯偉材料科技有限公司;西安奕斯偉硅片技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01R27/02 | 分類號(hào): | G01R27/02 |
| 代理公司: | 西安維英格知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61253 | 代理人: | 沈寒酉;李斌棟 |
| 地址: | 710065 陜西省西安市*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 測(cè)量 硅片 徑向 電阻 均勻 裝置 方法 | ||
1.一種測(cè)量硅片徑向電阻均勻性的裝置,其特征在于,所述裝置包括:
能夠旋轉(zhuǎn)的機(jī)械臂;
設(shè)置于所述機(jī)械臂上的中心探針,所述中心探針用于測(cè)量待測(cè)硅片中心處的電阻;
設(shè)置于所述機(jī)械臂上的至少一個(gè)邊緣探針,所述邊緣探針用于測(cè)量所述待測(cè)硅片邊緣處的電阻;其中,不同的邊緣去除量規(guī)格相對(duì)應(yīng)的所述待測(cè)硅片邊緣上目標(biāo)邊緣測(cè)量點(diǎn)的電阻能夠通過位于所述目標(biāo)邊緣測(cè)量點(diǎn)對(duì)應(yīng)位置處的所述邊緣探針進(jìn)行測(cè)量;
其中,隨著所述機(jī)械臂按照設(shè)定的角度旋轉(zhuǎn),所述邊緣探針能夠依次測(cè)量得到所述不同的邊緣去除量規(guī)格相對(duì)應(yīng)的所述待測(cè)硅片邊緣上多個(gè)所述目標(biāo)邊緣測(cè)量點(diǎn)的電阻;
數(shù)據(jù)處理單元,所述數(shù)據(jù)處理單元用于根據(jù)所述待測(cè)硅片中心的電阻與所述不同的邊緣去除量規(guī)格分別對(duì)應(yīng)的多個(gè)所述目標(biāo)邊緣測(cè)量點(diǎn)的電阻,計(jì)算獲得所述不同的邊緣去除量規(guī)格分別對(duì)應(yīng)的所述待測(cè)硅片的徑向電阻均勻性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述機(jī)械臂每次旋轉(zhuǎn)的設(shè)定的角度為90°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述裝置包括:
長(zhǎng)度不相同的多根機(jī)械臂,多根所述機(jī)械臂相互垂直交叉設(shè)置以形成長(zhǎng)度均不相同的多個(gè)部段;其中,所述中心探針設(shè)置于多根所述機(jī)械臂的交叉連接處,多個(gè)所述邊緣探針分別對(duì)應(yīng)地設(shè)置于多個(gè)所述部段的末端位置處;
其中,基于所述不同的邊緣去除量規(guī)格,多個(gè)所述部段分別依次沿順時(shí)針或逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)所述設(shè)定的角度,以使設(shè)置于多個(gè)所述部段的末端位置處的多個(gè)所述邊緣探針依次分別測(cè)量所述待測(cè)硅片邊緣上多個(gè)所述目標(biāo)邊緣測(cè)量點(diǎn)的電阻。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,每個(gè)所述部段的長(zhǎng)度等于所述待測(cè)硅片的半徑與對(duì)應(yīng)的邊緣去除量的差值。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述裝置包括:
設(shè)置于所述機(jī)械臂上的多個(gè)邊緣探針,所述邊緣探針依次沿所述機(jī)械臂的軸向方向按照設(shè)定的距離布設(shè),以當(dāng)所述機(jī)械臂沿順時(shí)針或逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)設(shè)定的角度時(shí),設(shè)置于所述機(jī)械臂上的多個(gè)所述邊緣探針能夠依次分別測(cè)量所述不同的邊緣去除量規(guī)格對(duì)應(yīng)的所述待測(cè)硅片邊緣上的多個(gè)所述目標(biāo)邊緣測(cè)量點(diǎn)處的電阻。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,所述機(jī)械臂的長(zhǎng)度與所述待測(cè)硅片的半徑相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述裝置包括:
設(shè)置于所述機(jī)械臂上的一個(gè)邊緣探針,所述邊緣探針能夠沿所述機(jī)械臂的軸向方向移動(dòng),以使所述邊緣探針能夠移動(dòng)至與所述不同的邊緣去除量規(guī)格相對(duì)應(yīng)的所述目標(biāo)邊緣測(cè)量點(diǎn)處,從而當(dāng)所述機(jī)械臂沿順時(shí)針或逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)設(shè)定的角度時(shí)所述邊緣探針能夠測(cè)量所述待測(cè)硅片邊緣上多個(gè)所述目標(biāo)邊緣測(cè)量點(diǎn)處的電阻。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,所述機(jī)械臂的長(zhǎng)度與所述待測(cè)硅片的半徑相同。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括:
旋轉(zhuǎn)單元,所述旋轉(zhuǎn)單元與所述機(jī)械臂相連接,用于控制所述機(jī)械臂按照設(shè)定的角度進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
10.一種測(cè)量硅片徑向電阻均勻性的方法,其特征在于,所述方法能夠應(yīng)用于權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的裝置,所述方法包括:
利用設(shè)置在機(jī)械臂上的中心探針測(cè)量待測(cè)硅片中心處的電阻;
利用設(shè)置在所述機(jī)械臂上的邊緣探針測(cè)量不同的邊緣去除量規(guī)格相對(duì)應(yīng)的所述待測(cè)硅片邊緣上目標(biāo)邊緣測(cè)量點(diǎn)的電阻;
旋轉(zhuǎn)所述機(jī)械臂以使得所述邊緣探針能夠依次測(cè)量得到所述不同的邊緣去除量規(guī)格相對(duì)應(yīng)的所述待測(cè)硅片邊緣上多個(gè)所述目標(biāo)邊緣測(cè)量點(diǎn)的電阻;
根據(jù)所述待測(cè)硅片中心的電阻與所述不同的邊緣去除量規(guī)格分別對(duì)應(yīng)的多個(gè)所述目標(biāo)邊緣測(cè)量點(diǎn)的電阻,計(jì)算獲得所述不同的邊緣去除量規(guī)格分別對(duì)應(yīng)的所述待測(cè)硅片的徑向電阻均勻性。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西安奕斯偉材料科技有限公司;西安奕斯偉硅片技術(shù)有限公司,未經(jīng)西安奕斯偉材料科技有限公司;西安奕斯偉硅片技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202211613264.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01R 測(cè)量電變量;測(cè)量磁變量
G01R27-00 測(cè)量電阻、電抗、阻抗或其派生特性的裝置
G01R27-02 .電阻、電抗、阻抗或其派生的其他兩端特性,例如時(shí)間常數(shù)的實(shí)值或復(fù)值測(cè)量
G01R27-28 .衰減、增益、相移或四端網(wǎng)絡(luò),即雙端對(duì)網(wǎng)絡(luò)的派生特性的測(cè)量;瞬態(tài)響應(yīng)的測(cè)量
G01R27-30 ..具有記錄特性值的設(shè)備,例如通過繪制尼奎斯特
G01R27-32 ..在具有分布參數(shù)的電路中的測(cè)量
G01R27-04 ..在具有分布常數(shù)的電路中的測(cè)量
- 測(cè)量設(shè)備、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量配件和測(cè)量方法
- 測(cè)量尺的測(cè)量組件及測(cè)量尺
- 測(cè)量輔助裝置、測(cè)量裝置和測(cè)量系統(tǒng)
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量容器、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)、測(cè)量程序以及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量電路、測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備





