[發明專利]光掩膜版的缺陷識別方法、裝置、電子設備及存儲介質在審
| 申請號: | 202211611313.1 | 申請日: | 2022-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN115877654A | 公開(公告)日: | 2023-03-31 |
| 發明(設計)人: | 楊劉標 | 申請(專利權)人: | 杭州富芯半導體有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/84 | 分類號: | G03F1/84;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京樂知新創知識產權代理事務所(普通合伙) 11734 | 代理人: | 周偉 |
| 地址: | 310051 浙江省杭州*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光掩膜版 缺陷 識別 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種光掩膜版的缺陷識別方法,其特征在于,包括:
對目標光掩膜版進行圖案掃描,得到目標光掩膜版上各個目標區域的信號強度;其中所述目標光掩膜版上的圖案是對原光掩膜版上的圖案中對應于曝光單元的不同行或不同列的圖案以不同的曝光能量進行曝光而得到;
基于各個目標區域的信號強度,得到目標光掩膜版的缺陷信息;
基于目標光掩膜版的缺陷信息,得到原光掩模版的缺陷信息。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于各個目標區域的信號強度,得到目標光掩膜版的缺陷信息,包括:
對于所述各目標區域中的任意一個目標區域;
基于所述任意一個目標區域和與其相鄰的至少一個目標區域的信號強度,從所述各個目標區域中,確定出目標光掩膜版的缺陷區域;
將所述缺陷區域作為所述目標光掩膜版的缺陷信息。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于各個目標區域的信號強度,得到目標光掩膜版的缺陷信息,包括:
將各目標區域劃分為多個子區域;
基于第一目標區域的各子區域的信號強度和與第一目標區域相鄰的至少一個第二目標區域的各子區域的信號強度,從各目標區域的各子區域中,確定出目標光掩膜版的缺陷區域;其中所述第一目標區域為所述各目標區域中的任意一個區域;
將所述缺陷區域作為所述目標光掩膜版的缺陷信息。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,所述各目標區域包括第一類區域;
如果第一類區域中存在一子區域的信號強度大于與所述第一類區域相鄰的一第二目標區域的對應子區域的信號強度、且所述子區域的信號強度和所述對應子區域的信號強度之差大于或等于第一強度閾值,則確定所述第一類區域中存在的所述子區域為目標光掩膜版的缺陷區域。
5.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,所述各目標區域包括第二類區域;
如果第二類區域中存在一子區域的信號強度和與所述第二類區域相鄰的兩個或多個第二目標區域中每個第二目標區域的對應子區域的信號強度的差值的絕對值均大于或等于第二強度閾值,則確定所述第二類區域中存在的所述子區域為所述目標光掩膜版的缺陷區域。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于目標光掩膜版的缺陷信息,得到原光掩模版的缺陷信息,包括:
將目標光掩膜版的缺陷信息作為原光掩模版的缺陷信息。
7.一種光掩膜版的缺陷識別裝置,其特征在于,包括:
第一獲得單元,用于對目標光掩膜版進行圖案掃描,得到目標光掩膜版上各個目標區域的信號強度;其中所述目標光掩膜版上的圖案至少是對原光掩膜版上的圖案中對應于曝光單元的不同行的圖案以不同的曝光能量進行曝光而得到;所述目標光掩膜版上的各目標區域與所述曝光單元的各子單元對應,且所述目標光掩膜版上對應于曝光單元的不同行的目標區域的信號強度不同;
第二獲得單元,用于基于各個目標區域的信號強度,得到目標光掩膜版的缺陷信息;
第三獲得單元,用于基于目標光掩膜版的缺陷信息,得到原光掩模版的缺陷信息。
8.根據權利要求7所述的裝置,其特征在于,所述第二獲得單元,用于將各目標區域劃分為多個子區域;
基于第一目標區域的各子區域的信號強度和與第一目標區域相鄰的至少一個第二目標區域的各子區域的信號強度,從各目標區域的各子區域中,確定出目標光掩膜版的缺陷區域;所述第一目標區域為所述各目標區域中的任意一個區域;
將所述缺陷區域作為所述光掩膜版的缺陷信息。
9.一種電子設備,其特征在于,包括:
至少一個處理器;以及
與所述至少一個處理器通信連接的存儲器;其中,
所述存儲器存儲有可被所述至少一個處理器執行的指令,所述指令被所述至少一個處理器執行,以使所述至少一個處理器能夠執行權利要求1-6中任一項所述的方法。
10.一種存儲有計算機指令的非瞬時計算機可讀存儲介質,其特征在于,所述計算機指令用于使所述計算機執行根據權利要求1-6中任一項所述的方法。
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