[發明專利]一種化學機械拋光系統和拋光方法

在審

• 申請號: 202211523667.0
• 申請日: 2022-12-01
• 公開（公告）號: CN115870874A
• 公開（公告）日: 2023-03-31
• 發明（設計）人: 路新春;許振杰;王國棟;趙德文;王同慶
• 申請（專利權）人: 華海清科股份有限公司
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;B24B37/34;B24B55/06
• 代理公司: 暫無信息
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1.一種化學機械拋光系統，其特征在于，包括：

前置單元；

拋光單元；

清洗單元，設置于前置單元與拋光單元之間；

其中，所述清洗單元包括第一清洗單元和第二清洗單元，所述第一清洗單元和第二清洗單元相對于清洗單元的橫向中心線對稱設置；所述第一清洗單元和第二清洗單元包括后處理模塊、前部傳輸機械手和后部傳輸機械手，所述后處理模塊豎向層疊設置以形成層疊模組；所述第一清洗單元和第二清洗單元分別配置一對層疊模組，其中一個層疊模組與前部傳輸機械手的連線平行于另一個層疊模組與后部傳輸機械手的連線。

2.如權利要求1所述的化學機械拋光系統，其特征在于，所述層疊模組沿清洗單元的橫向和縱向交錯設置。

3.如權利要求1所述的化學機械拋光系統，其特征在于，鄰接于所述前置單元的層疊模組配置有緩存裝置，所述緩存裝置設置于豎向層疊的后處理模塊之間，以緩存前部傳輸機械手和/或后部傳輸機械手轉移的晶圓。

4.如權利要求3所述的化學機械拋光系統，其特征在于，鄰接于所述前置單元的層疊模組為前端層疊模組，鄰接于所述拋光單元的層疊模組為后端層疊模組；所述前部傳輸機械手鄰接于前置單元，所述后部傳輸機械手鄰接于拋光單元；所述前部傳輸機械手與前端層疊模組的連線平行于所述清洗單元的寬度方向。

5.如權利要求4所述的化學機械拋光系統，其特征在于，所述前置單元將待處理的晶圓傳輸至所述緩存裝置，所述后部傳輸機械手抓取緩存裝置的晶圓并傳輸至所述拋光單元。

6.如權利要求4所述的化學機械拋光系統，其特征在于，所述后部傳輸機械手與前端層疊模組的連線垂直于后部傳輸機械手與后端層疊模組的連線。

7.如權利要求1所述的化學機械拋光系統，其特征在于，所述層疊模組至少包括一對后處理模塊，其沿豎直方向層疊設置。

8.如權利要求7所述的化學機械拋光系統，其特征在于，所述后處理模塊包括刷洗模塊、預清洗模塊和干燥模塊，其以水平的方式處理晶圓表面。

9.如權利要求8所述的化學機械拋光系統，其特征在于，所述刷洗模塊鄰接于拋光單元設置，其位于層疊模組的上部和/或下部。

10.如權利要求8所述的化學機械拋光系統，其特征在于，所述預清洗模塊鄰接于前置單元設置，其位于層疊模組的下部。

11.如權利要求8所述的化學機械拋光系統，其特征在于，所述干燥模塊鄰接于前置單元設置，其位于層疊模組的上部。

12.如權利要求1所述的化學機械拋光系統，其特征在于，所述前部傳輸機械手設置于清洗單元架體的側部，所述后部傳輸機械手設置于清洗單元架體的中部，所述前部傳輸機械手和后部傳輸機械手能夠沿豎向移動，以在后處理模塊之間傳輸晶圓。

13.如權利要求8所述的化學機械拋光系統，其特征在于，所述后處理模塊配置有殼體，所述殼體的至少兩個側面配置有出入口，所述前部傳輸機械手和后部傳輸機械手能夠經由所述出入口取放晶圓。

14.如權利要求13所述的化學機械拋光系統，其特征在于，所述出入口與所述前部傳輸機械手和后部傳輸機械手的設置位置相對應，前部傳輸機械手和后部傳輸機械手能夠在層疊模組之間傳輸晶圓。

15.一種化學機械拋光方法，其特征在于，使用權利要求1至14任一項所述的化學機械拋光系統，包括：

S1，前置機械手將前置單元的晶圓傳輸至層疊模組的緩存裝置，后部傳輸機械手將緩存裝置的晶圓傳輸至拋光單元，以在拋光單元實施化學機械拋光；

S2，后部傳輸機械手將完成拋光的晶圓傳輸至清洗單元的層疊模組，以實施晶圓的初始清洗；

S3，前部傳輸機械手或后部傳輸機械手將完成初始清洗的晶圓傳輸至鄰接于前置單元的層疊模組，以實施晶圓干燥；

S4，前置機械手將完成干燥的晶圓傳輸至前置單元。