[發(fā)明專利]離型膜和使用該離型膜制造半導(dǎo)體封裝件的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211261630.5 | 申請日: | 2022-10-14 |
| 公開(公告)號: | CN116061418A | 公開(公告)日: | 2023-05-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉韓率;金沅槿 | 申請(專利權(quán))人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | B29C51/12 | 分類號: | B29C51/12;B29C51/30;H01L21/56 |
| 代理公司: | 北京市立方律師事務(wù)所 11330 | 代理人: | 李娜;王占杰 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 離型膜 使用 制造 半導(dǎo)體 封裝 方法 | ||
1.一種離型膜,所述離型膜包括:
導(dǎo)電聚合物基板層;以及
離型層,所述離型層位于所述導(dǎo)電聚合物基板層的頂表面和底表面上,
其中,每個所述離型層包括氟基聚合物,并且
所述導(dǎo)電聚合物基板層的密度在0.1g/cm3至0.5g/cm3的范圍內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離型膜,其中,
所述導(dǎo)電聚合物基板層的厚度為30μm至200μm,并且
每個所述離型層的厚度為0.1μm至20μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的離型膜,其中,
所述導(dǎo)電聚合物基板層的厚度為40μm至80μm,并且
每個所述離型層的厚度為0.5μm至5μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離型膜,其中,所述離型膜的薄層電阻大于或等于108Ω/sq且小于1010Ω/sq。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離型膜,其中,所述導(dǎo)電聚合物基板層具有紡織織物結(jié)構(gòu)或無紡織物結(jié)構(gòu)中的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離型膜,其中,所述導(dǎo)電聚合物基板層與所述離型層之間的重量比為至多99∶1且至少90∶10。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離型膜,其中,所述導(dǎo)電聚合物基板層包括:
多孔纖維;以及
導(dǎo)電聚合物材料,所述導(dǎo)電聚合物材料涂覆在所述多孔纖維上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的離型膜,其中,所述多孔纖維包括聚萘二甲酸乙二酯、聚酰亞胺、尼龍或聚酯中的至少一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的離型膜,其中,所述導(dǎo)電聚合物材料包括聚(3,4-乙撐二氧噻吩)聚苯乙烯磺酸鹽、聚吡咯、聚噻吩或聚苯胺中的至少一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的離型膜,其中,每個所述離型層包括含氟聚合物或全氟聚合物中的至少一種。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離型膜,其中,所述導(dǎo)電聚合物基板層包括多孔導(dǎo)電纖維。
12.一種離型膜,所述離型膜包括:
導(dǎo)電聚合物基板層;以及
離型層,所述離型層位于所述導(dǎo)電聚合物基板層的頂表面和底表面上,
其中,每個所述離型層包括氟基聚合物,
所述導(dǎo)電聚合物基板層的厚度為40μm至80μm,并且
每個所述離型層的厚度為0.5μm至5μm。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的離型膜,其中,
所述導(dǎo)電聚合物基板層具有第一伸長率,并且
每個所述離型層具有大于所述第一伸長率的第二伸長率。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的離型膜,其中,所述導(dǎo)電聚合物基板層的密度小于每個所述離型層的密度。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的離型膜,其中,
所述導(dǎo)電聚合物基板層包括多孔纖維和涂覆在所述多孔纖維上的導(dǎo)電聚合物材料,
所述多孔纖維包括聚萘二甲酸乙二酯、聚酰亞胺、尼龍或聚酯中的至少一種,
所述導(dǎo)電聚合物材料包括聚(3,4-乙撐二氧噻吩)聚苯乙烯磺酸鹽、聚吡咯、聚噻吩或聚苯胺中的至少一種,并且
每個所述離型層包括乙烯四氟乙烯、聚四氟乙烯或全氟辛酸中的至少一種。
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