[發明專利]一種提高植入天線傳輸能力的阻抗匹配層在審
| 申請號: | 202211234735.1 | 申請日: | 2022-10-10 |
| 公開(公告)號: | CN115528415A | 公開(公告)日: | 2022-12-27 |
| 發明(設計)人: | 許麗潔;祝雷;梁銘鈺 | 申請(專利權)人: | 南京郵電大學 |
| 主分類號: | H01Q1/27 | 分類號: | H01Q1/27;H01Q1/38;H01Q1/52 |
| 代理公司: | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人: | 田凌濤 |
| 地址: | 210003 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 提高 植入 天線 傳輸 能力 阻抗匹配 | ||
1.一種提高植入天線傳輸能力的阻抗匹配層,其特征在于,該阻抗匹配層包括介質基板、預設數量的金屬柱、以及預設數量的矩形金屬貼片;
各金屬柱尺寸、形狀相同,介質基板的厚度大于各金屬柱的高度,各金屬柱以相同間距插入介質基板中,且各金屬柱與介質基板垂直,金屬貼片數量與金屬柱相同,各金屬貼片尺寸、形狀相同,金屬貼片表面面積大于金屬柱上表面面積,各金屬貼片與各金屬柱一一對應,固定放置于金屬柱上表面,金屬貼片表面的中心點與金屬柱上表面的中心點彼此位置對應,且各金屬貼片的表面與介質基板表面位于同一平面,介質基板的表面面積大于所有金屬貼片的表面面積之和。
2.根據權利要求1所述的一種提高植入天線傳輸能力的阻抗匹配層,其特征在于,介質基板為正方形,其邊長為40mm,厚度為7mm。
3.根據權利要求1所述的一種提高植入天線傳輸能力的阻抗匹配層,其特征在于,介質基板介電常數為3.1。
4.根據權利要求1所述的一種提高植入天線傳輸能力的阻抗匹配層,其特征在于,各金屬柱為立方體,尺寸為2mm×2mm×1.2mm。
5.根據權利要求1所述的一種提高植入天線傳輸能力的阻抗匹配層,其特征在于,各金屬貼片的尺寸為6mm×6mm×0.3mm。
6.根據權利要求1所述的一種提高植入天線傳輸能力的阻抗匹配層,其特征在于,以金屬柱、金屬貼片,以及以金屬柱所插入位置為中心,周圍預設面積的介質基板為周期性單元,周期性單元的數量為25個,在介質基板上以5×5的形式周期性排列。
7.根據權利要求6所述的一種提高植入天線傳輸能力的阻抗匹配層,其特征在于,所述周期性單元中預設面積的介質基板的尺寸為6.5mm×6.5mm×7mm。
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