[發明專利]一種過曝抑制成像的方法在審
| 申請號： | 202211119043.2 | 申請日： | 2022-09-13 |
| 公開（公告）號： | CN115373193A | 公開（公告）日： | 2022-11-22 |
| 發明（設計）人： | 邢強;王爽杰;陸古月;王佳佳;黃媛媛 | 申請（專利權）人： | 南通大學 |
| 主分類號： | G03B15/03 | 分類號： | G03B15/03;F21V23/04;H05B47/11;H04N5/225 |
| 代理公司： | 北京科家知識產權代理事務所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 曹振中 |
| 地址： | 226001 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 抑制 成像 方法 | ||
1.一種過曝抑制成像裝置，包括安裝支架，所述安裝支架中心處設置有安裝槽，所述安裝槽用于放置相機，其特征在于：還包括若干子光源組件，所述子光源組件環繞所述安裝支架設置，所述子光源組件包括光源支臂及子光源，所述光源支臂一端轉動設置在所述安裝支架上，另外一端用于固定所述子光源。
2.根據權利要求1所述的過曝抑制成像裝置，其特征在于：所述安裝支架上設置有若干光強傳感器，所述光強傳感器用于檢測所述安裝支架上各點位光源照明下光源光線經檢測表面反射回來的光強度。
3.根據權利要求2所述的過曝抑制成像裝置，其特征在于：所述子光源組件沿所述安裝支架外周圓周陣列設置。
4.根據權利要求3所述的過曝抑制成像裝置，其特征在于：所述安裝支架的側邊設置有限位板，每側所述限位板成對設置，所述光源支臂的其中一端設置有限位軸，所述限位軸轉動設置在所述限位板上。
5.一種過曝抑制成像裝置的動態照明方法，其特征在于：包含以下步驟：
S1：利用各光源單獨提供照明，根據光強傳感器反饋的反光強度調整各光源照明強度，使各光源下反光強度保持一致后進行預成像；
S2：計算每一位置光源照明下預成像所呈圖像的反光情況，獲得各光源照明效果的先驗信息；
S3：根據先驗信息，選擇不產生高反光問題的光源進行照明；
S4：若單光源可以避免高反光過曝情況時，則選擇響應的光源i進行照明補光；
S5：若各光源單獨照明都無法避免高反光情況，則在兩不同光源(光源m、光源n)獨立照明下分別成像。
6.根據權利要求5所述的過曝抑制成像裝置的動態照明方法，其特征在于：所述S4中的決策公式為：
Size(Ii)＝0,StdDev(Ii)＝min(StdDev(Ij)) (1)；
上述公式中，Ii表示光源i補光時所得圖像；Size(Ii)表示圖像Ii中過曝區域面積，StdDev(Ii)表示圖像Ii的整體標準差。
7.根據權利要求5所述的過曝抑制成像裝置的動態照明方法，其特征在于：所述S5中選取的雙光源m，n的組合照明方案進行補光，決策方程式可以表示為：
LC＝max(kO×OSR(Xm,Xn)+kM×MSR(Xm,Xn)) (2)；
上述公式中，LC(Light Combination)為決策的光源組合，OSR為光斑總體強度，表征兩光源下成像的總體高反光情況，MSR為光斑重合強度表征兩光源下的光斑重合情況，kO與kM分別為決策系統中OSR與MSR權重，ko+kM＝1。
8.根據權利要求7所述的過曝抑制成像裝置的動態照明方法，其特征在于：所述
所述
其中：α和β分別為對兩光斑進行“與操作(Sizeand(Xm,Xn))”和“或操作(Sizeor(Xm,Xn))后”歸一化的總光斑面積以及重合光斑面積，
其中，
kα、kβ分別為光斑總面積懲罰系數與重合光斑面積懲罰系數，懲罰系數越大，則α，β的增大對總體決策結果的衰減作用越強烈，Sizeimg為圖像大小。
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