[發明專利]襯底浮起裝置

在審

• 申請號: 202211048054.6
• 申請日: 2022-08-30
• 公開（公告）號: CN115991392A
• 公開（公告）日: 2023-04-21
• 發明（設計）人: 樸庸碩;樸鎬胤;趙才衍
• 申請（專利權）人: 顯示器生產服務株式會社
• 主分類號: B65G54/00
• 分類號: B65G54/00;B01D29/03
• 代理公司: 北京商專永信知識產權代理事務所(普通合伙) 11400
• 代理人: 江亞男;方挺

本發明提供一種可以防止與輸送中的襯底發生碰撞并且可以均勻地形成施加到浮起的襯底的下表面的流體的壓力的襯底浮起裝置。為此，本發明公開了以下特征，包括：主體，通過下部流入口流入的流體填充其內部空間；浮起板，配置在所述內部空間的上部，并且具有使填充到所述內部空間的流體通過并利用噴射流體的噴射壓力使放置在上側的襯底浮起的多個噴射孔；以及流動引導部件，配置在所述內部空間中，使通過所述下部流入口流入到所述內部空間的流體分散，并使從所述多個噴射孔噴射的流體的噴射壓力均勻。

技術領域

本發明涉及一種襯底處理裝置，具體而言，涉及一種可以防止與輸送中的襯底發生碰撞并且可以均勻地形成施加到浮起的襯底的下表面的流體的壓力的襯底浮起裝置。

背景技術

用于顯示裝置的襯底在放置于包括滾輪的輸送裝置上的狀態下在腔室內部移動或循環的同時經過蒸鍍、烘烤、曝光、顯影、蝕刻等多個處理步驟。

帶有滾輪的襯底輸送裝置在滾輪與襯底直接接觸的狀態下利用摩擦力輸送襯底，而由于滾輪的設置間隔或襯底的自重，襯底在滾輪之間的部分或襯底的邊緣部分處會相對下垂，并且襯底在滾輪部分處會相對升高。

當被輸送的襯底的一部分下垂時，襯底會與滾輪或輸送裝置的支撐框架發生碰撞，從而會損壞襯底。此外，當輸送的襯底的一部分升高時，與在清洗或蝕刻步驟時噴射的清洗液或蝕刻液的碰撞壓力會產生偏差，從而會損壞襯底。

為了解決該問題，提出了一種向襯底的下表面噴射高壓流體而在使襯底浮起的狀態下進行輸送的所謂的非接觸襯底輸送裝置。

圖1是示出現有的襯底浮起裝置的示意圖。

參照圖1，現有的襯底浮起裝置10包括噴射室12，該噴射室12具有配置在襯底的下側的多孔浮起板13。即，從外部流體供給部供給的流體通過下部流入口11填充到噴射室12的內部，填充到噴射室12的流體在通過多孔浮起板13的細微孔14的同時以較強的壓力噴射，可以利用這種流體的噴射壓力而使襯底浮起到多孔浮起板13的上側。

然而，這種現有的襯底浮起裝置在流體通過下部流入口11完全填充到噴射室12的內部之前，通過浮起板13的細微孔14開始噴射流體，因而在從浮起板13的細微14噴射流體的過程中，在襯底的整個下表面上噴射壓力分布(PR)可能會變得不均勻。即，在與下部流入口11鄰接的浮起板13的中央區域會產生相對較強的噴射壓力，并且在與下部流入口11分開的浮起板13的邊緣區域會產生相對較弱的噴射壓力。

這樣，當通過浮起板13的細微孔14的流體的噴射壓力不均勻地分布在襯底的整個下表面上時，被輸送的襯底的水平度會偏移，因而與襯底輸送裝置的碰撞或與清洗液或蝕刻液的碰撞壓力會產生偏差，從而會損壞襯底。

特別是在最近，對較大面積襯底的需求增大，而在這種大面積襯底的情況下，由于上述原因而在襯底的整個下表面上流體噴射壓力分布的偏差會形成得更大。

另外，通過相對較寬地確保填充流體的噴射室12的內部空間，可以使從浮起板13的細微孔14噴射的流體的噴射壓力在某種程度上變得均勻，然而在這種情況下，存在為了使襯底浮起而必須供給相對較多的流體的問題，并且存在必須對噴射室12的內部空間進行追加加工和制造的問題。

作為現有技術文獻，有韓國登記專利公報第0525926號(2005年11月2日公告)。

發明內容

發明所要解決的技術問題

用于解決上述問題的本發明的目的在于提供一種可以在浮起的襯底的整個下表面形成均勻的流體噴射壓力的襯底浮起裝置。

本發明所要解決的問題不限于上述技術問題，本發明所屬領域的技術人員可以通過以下描述明確地理解未提及的其他的技術問題。

用于解決問題的手段