[發明專利]一種滑珠足療機構

在審

• 申請號: 202211036254.X
• 申請日: 2022-08-28
• 公開（公告）號: CN115154204A
• 公開（公告）日: 2022-10-11
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 葉苘銓
• 主分類號: A61H1/02
• 分類號: A61H1/02;A61H15/00;A63B22/00;A63B23/04;A63B23/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種滑珠足療機構，包括折疊把手桿、主桿，旋轉軸、鎖定螺帽，足療底盤、滑珠，增高底座；折疊把手桿套入主桿內鎖定螺帽固定，主桿底部裝轉向軸、旋轉軸連接足療底盤，滑珠裝在足療底盤內、運動方式雙手握住把手，腳先后走路一樣踏在滑珠上、滑珠滾動腳滑到地面，加速至跑步般的速度、滑珠按摩足底的力度更大，主桿底部套入增高底座足療底盤產生坡度、腿腳滑下地面時腿腳保持直立拉動腿腳部韌帶，底座越高拉伸韌帶的強度越大、滑珠按摩足底，雙腳快步走動健身拉伸韌帶二者的結合、通過全身運動的方式有效達健身和足療鍛煉的目標。

2.根據權利要求1所述的一種滑珠足療機構，其特征在于：折疊把手桿是活動折疊式，折疊把手桿套入主桿內可伸縮，鎖定螺帽固定。

3.根據權利要求1所述的一種滑珠足療機構，其特征在于：主桿底部裝旋轉軸，起旋轉折疊足療底盤。

4.根據權利要求1所述的一種滑珠足療機構，其特征在于：滑珠裝在足療底盤內，滑珠可任意轉動，滑珠外露部份構成一個腳印。

5.根據權利要求1所述的一種滑珠足療機構，其特征在于：主桿底部套入增高底座足療底盤產生坡度，腿腳滑下地面時腿腳保持直立拉動腿腳部韌帶。

6.根據權利要求1所述的一種滑珠足療機構，其特征在于：滑珠滾動按摩足底，速度越快按摩的力度越大。

7.根據權利要求1所述的一種滑珠足療機構，其特征在于：滑珠足療機構主體材料為塑料，金屬。