[發(fā)明專利]顯示裝置及設置其的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211034095.X | 申請日： | 2022-08-26 |
| 公開（公告）號： | CN116113269A | 公開（公告）日： | 2023-05-12 |
| 發(fā)明（設計）人： | 金善光;康起寧 | 申請（專利權）人： | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號： | H10K59/121 | 分類號： | H10K59/121;H10K71/00;H10K59/123;H10K59/131 |
| 代理公司： | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人： | 韓芳;張曉 |
| 地址： | 韓國京畿*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 顯示裝置 設置 方法 | ||
1.一種顯示裝置，所述顯示裝置包括：
基底，包括：
顯示區(qū)域，其中設置有晶體管；以及
非顯示區(qū)域，與所述顯示區(qū)域相鄰；并且
所述非顯示區(qū)域中設置有：
壩結構，從所述基底突出；以及
阻擋圖案，在所述晶體管與所述壩結構之間從所述基底突出，并且具有底切形狀，
其中，具有所述底切形狀的所述阻擋圖案包括：
蝕刻金屬層，具有寬度；以及
第一上金屬層，在所述蝕刻金屬層上，并且具有比所述蝕刻金屬層的所述寬度大的寬度。
2.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置，其中，
所述晶體管包括：
有源圖案；以及
連接電極，在所述有源圖案上，并且接觸所述有源圖案，并且
所述非顯示區(qū)域中的所述阻擋圖案與所述顯示區(qū)域中的所述連接電極在同一層中。
3.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置，其中，所述蝕刻金屬層和所述第一上金屬層包括金屬。
4.根據(jù)權利要求3所述的顯示裝置，其中，所述蝕刻金屬層包括銅。
5.根據(jù)權利要求3所述的顯示裝置，其中，所述第一上金屬層包括多晶氧化銦錫。
6.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置，其中，所述壩結構包括：
下壩結構，包括第一有機材料；以及
上壩結構，比所述下壩結構遠離所述基底，并且包括第二有機材料。
7.根據(jù)權利要求6所述的顯示裝置，所述顯示裝置還包括：
第一有機結構，在所述第一上金屬層上，并且與所述下壩結構的所述第一有機材料在同一層中；以及
第二有機結構，在所述第一有機結構上，并且與所述上壩結構的所述第二有機材料在同一層中。
8.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置，所述顯示裝置還包括：
下阻擋圖案，在所述阻擋圖案與所述基底之間，并且
所述下阻擋圖案包括：
第一下金屬層，具有寬度；以及
下蝕刻金屬層，在所述第一下金屬層上，并且具有比所述第一上金屬層的所述寬度小的寬度。
9.根據(jù)權利要求8所述的顯示裝置，其中，
所述晶體管包括：
有源圖案；
柵電極，在所述有源圖案上；以及
連接電極，在所述柵電極上，并且接觸所述有源圖案，
所述下阻擋圖案與所述柵電極在同一層中，并且
所述阻擋圖案與所述連接電極在同一層中。
10.根據(jù)權利要求8所述的顯示裝置，其中，所述阻擋圖案的所述蝕刻金屬層和所述下阻擋圖案的所述下蝕刻金屬層均包括銅。
11.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置，其中，所述阻擋圖案還包括在所述第一上金屬層與所述蝕刻金屬層之間的第二上金屬層。
12.根據(jù)權利要求11所述的顯示裝置，其中，所述第二上金屬層包括鈦。
13.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置，其中，在所述非顯示區(qū)域內，所述阻擋圖案設置為多個，包括：
第一阻擋圖案；以及
第二阻擋圖案，在所述第一阻擋圖案與所述壩結構之間。
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