[發明專利]基于SVG的描邊方法、裝置及存儲介質

在審

• 申請號: 202210862927.0
• 申請日: 2022-07-20
• 公開（公告）號: CN115330908A
• 公開（公告）日: 2022-11-11
• 發明（設計）人: 林鳴鶴
• 申請（專利權）人: 廈門稿定股份有限公司;稿定（廈門）科技有限公司
• 主分類號: G06T11/60
• 分類號: G06T11/60;G06T11/40
• 代理公司: 北京慧加倫知識產權代理有限公司 16035
• 代理人: 趙敏岑

1.一種基于SVG的描邊方法，其特征在于，所述方法包括：

獲取待描邊路徑以及目標效果；

在所述待描邊路徑上，以所述目標效果對應的像素寬度的兩倍進行居中描邊，得到待處理內容；

利用所述SVG中的Mask特性，將所述待處理內容中的多余區域進行裁剪處理，得到與所述目標效果對應的路徑描邊。

2.根據權利要求1所述的基于SVG的描邊方法，其特征在于，當所述目標效果為內描邊效果時，所述利用所述SVG中的Mask特性，將所述待處理內容中的多余區域進行裁剪處理，得到與所述目標效果對應的路徑描邊包括：

復制所述待描邊路徑，并將所復制路徑內的區域填充為白色，將填充為白色的區域定義為Mask元素；

按照所述待描邊路徑，將所述Mask元素覆蓋于所述待處理內容之上；

利用所述SVG中的Mask特性，將所述Mask元素沒有覆蓋的所述待處理內容中的多余區域進行裁剪處理，得到所述待描邊路徑的內描邊效果。

3.根據權利要求1所述的基于SVG的描邊方法，其特征在于，當所述目標效果為外描邊效果時，所述利用所述SVG中的Mask特性，將所述待處理內容中的多余區域進行裁剪處理，得到與所述目標效果對應的路徑包括：

復制所述待描邊路徑，并將所復制路徑內的區域定義為裁剪區域；

復制所述待處理內容的邊緣路徑，并將所復制邊緣路徑內的區域填充為白色，將填充為白色的區域定義為保留區域；

按照所述待描邊路徑以及所述邊緣路徑，將所述裁剪區域與所述保留區域組合，得到Mask元素；

按照所述待描邊路徑，將所述Mask元素覆蓋于所述待處理內容之上；

利用所述SVG中的Mask特性，將所述Mask元素中的所述裁剪區域所覆蓋的區域進行裁剪處理，所述保留區域所覆蓋的區域保留，得到所述待描邊路徑的外描邊效果。

4.根據權利要求3所述的基于SVG的描邊方法，其特征在于，所述裁剪區域被填充為黑色或透明。

5.根據權利要求1-4任意一項所述的基于SVG的描邊方法，其特征在于，所述待描邊路徑為閉合路徑。

6.一種基于SVG的描邊裝置，其特征在于，所述裝置包括：

獲取模塊，用于獲取待描邊路徑以及目標效果；

預處理模塊，用于在所述待描邊路徑上，以所述目標效果對應的像素寬度的兩倍進行居中描邊，得到待處理內容；

裁剪模塊，用于利用所述SVG中的Mask特性，將所述待處理內容中的多余區域進行裁剪處理，得到與所述目標效果對應的路徑描邊。

7.根據權利要求6所述的基于SVG的描邊裝置，其特征在于，當所述目標效果為內描邊效果時，所述裁剪模塊還用于：

復制所述待描邊路徑，并將所復制路徑內的區域填充為白色，將填充為白色的區域定義為Mask元素；

按照所述待描邊路徑，將所述Mask元素覆蓋于所述待處理內容之上；

利用所述SVG中的Mask特性，將所述Mask元素沒有覆蓋的所述待處理內容中的多余區域進行裁剪處理，得到所述待描邊路徑的內描邊效果。

8.根據權利要求6所述的基于SVG的描邊裝置，其特征在于，當所述目標效果為外描邊效果時，所述裁剪模塊還用于：

復制所述待描邊路徑，并將所復制路徑內的區域定義為裁剪區域；

復制所述待處理內容的邊緣路徑，并將所復制邊緣路徑內的區域填充為白色，將填充為白色的區域定義為保留區域；

按照所述待描邊路徑以及所述邊緣路徑，將所述裁剪區域與所述保留區域組合，得到Mask元素；

按照所述待描邊路徑，將所述Mask元素覆蓋于所述待處理內容之上；

利用所述SVG中的Mask特性，將所述Mask元素中的所述裁剪區域所覆蓋的區域進行裁剪處理，所述保留區域所覆蓋的區域保留，得到所述待描邊路徑的外描邊效果。

9.根據權利要求8所述的基于SVG的描邊裝置，其特征在于，所述裁剪區域被填充為黑色或透明。

10.一種機器可讀存儲介質，其特征在于，該機器可讀存儲介質上存儲有指令，該指令用于使得機器執行權利要求1-5中任意一項所述的基于SVG的描邊方法。