[發明專利]光學系統及包含其的成像裝置和電子設備

在審

• 申請號: 202210724663.2
• 申請日: 2022-06-24
• 公開（公告）號: CN115016099A
• 公開（公告）日: 2022-09-06
• 發明（設計）人: 郝成龍;譚鳳澤;朱瑞;朱健
• 申請（專利權）人: 深圳邁塔蘭斯科技有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B3/00
• 代理公司: 深圳市深佳知識產權代理事務所(普通合伙) 44285
• 代理人: 夏歡

1.一種光學系統，其特征在于，所述光學系統包括沿物方到像方依次分布的第一透鏡(10)、第二透鏡(20)、第三透鏡(30)、第四透鏡(40)、第五透鏡(50)和第六透鏡(60)；

其中，所述第一透鏡(10)為非球面折射透鏡；所述第二透鏡(20)為超透鏡；其余透鏡均為折射透鏡，并且，第三透鏡(30)、第四透鏡(40)、所述第五透鏡(50)和所述第六透鏡(60)的所有表面中包括至少一個非球面，所述非球面包含一個反曲點；

所述第一透鏡(10)具有正光焦度，并且所述第一透鏡(10)的物側表面為凸面；所述第三透鏡(30)的像側表面為凸面；所述第四透鏡(40)的物側表面為凹面；所述第五透鏡(50)和所述第六透鏡(60)的物側表面的曲率半徑均為負；

所述光學系統至少滿足如下關系：

f/EPD3；

25°≤HFOV≤55°；

0.05mm≤d₂≤2mm；

|f₂|/f≥10；

其中，f為所述光學系統的焦距；EPD為所述光學系統的入瞳直徑；HFOV為所述光學系統的最大視場角的二分之一；d₂為所述第二透鏡(20)的厚度；f₂為所述第二透鏡(20)的焦距。

2.如權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統還滿足關系：

0.35≤R_1o/f₁≤0.58；

其中，R_1o為所述第一透鏡(10)的物側表面的曲率半徑；f₁為所述第一透鏡(10)的焦距。

3.如權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統還滿足：

(V₁+V₄)/2-V₃20；

其中，V₁為所述第一透鏡(10)的阿貝數；V₃為所述第三透鏡(30)的阿貝數；V₄為所述第四透鏡(40)的阿貝數。

4.如權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統還滿足：

0.55ImgH/TTL0.82；

其中，ImgH為所述光學系統的最大成像高度；TTL為所述第一透鏡(10)的物側表面到所述光學系統成像面的距離。

5.如權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統還滿足：所述第四透鏡(40)的像側表面為凹面，并且，

R_4i×R_4o0；

其中，R_4o為所述第四透鏡(40)的物側表面的曲率半徑；R_4i為所述第四透鏡(40)的像側表面的曲率半徑。

6.如權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述第五透鏡(50)的像側表面的曲率半徑均小于零。

7.如權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統還滿足：

0.58≤f₁/f≤0.85；

其中，f₁為所述第一透鏡(10)的焦距；f為所述光學系統的焦距。

8.如權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述第三透鏡(30)、所述第四透鏡(40)、所述第五透鏡(50)和所述第六透鏡(60)中的任意一個或多個為非球面折射透鏡。

9.如權利要求1-8中任一所述的光學系統，其特征在于，所述超透鏡包括基底層(201)和至少一層設置于所述基底層(201)一側的納米結構層(202)；

其中，任一層所述納米結構層(202)包括周期性排列的納米結構(2021)；

所述基底層(201)和所述納米結構層(202)被配置為能夠透過所述光學系統的工作波段的輻射。