[發(fā)明專利]一種氨水輔助退膜方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210541743.4 | 申請日: | 2022-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN115003042A | 公開(公告)日: | 2022-09-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鄒佳祁;廖潤秋;羅練軍;王哲毅 | 申請(專利權(quán))人: | 勝宏科技(惠州)股份有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/06 | 分類號: | H05K3/06 |
| 代理公司: | 廣東創(chuàng)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44690 | 代理人: | 潘麗君 |
| 地址: | 516211 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氨水 輔助 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種氨水輔助退膜方法,所述方法為在基板水平通過退膜槽時,氨水在以噴淋方式對板面進(jìn)行噴淋,所述噴淋方向為上下向中間噴射氨水進(jìn)行輔助退膜的方法。具體包括如下步驟,S1:氨水保存,將氨水保存在塑料桶中;S2:通過負(fù)壓機接入導(dǎo)管,將氨水通入退膜槽中,氨水在力的作用下進(jìn)入退膜槽;S3:在基板水平通過退膜槽時,氨水在堿性條件下使得氨水平衡左移釋放出部分氨氣,并在后續(xù)不斷噴進(jìn)的氨水打入擠壓,氨氣不斷產(chǎn)生、不斷擠壓退膜藥水垂直打向板面,氨氣在板面不斷放出的同時沖擊未被腐蝕殘留的退膜藥水,完成退膜。本發(fā)明氨水輔助退膜方法具有退膜干凈、不易被腐蝕和造成殘留等優(yōu)點。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及PCB制作退膜技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種氨水輔助退膜方法。
背景技術(shù)
退膜是在曝光之后,將需要的線路上干膜進(jìn)行固化,然后退化掉沒有固化掉的干膜,再通過蝕刻等技術(shù)將裸露出的銅進(jìn)行咬蝕掉,實現(xiàn)電路制作過程,然而在退膜過程中,由于退膜液呈現(xiàn)堿性,堿性偏弱會導(dǎo)致退膜不干凈進(jìn)而導(dǎo)致蝕刻不盡,如果堿性過強,如pH超過10會導(dǎo)致線路被腐蝕,尤其在IC載板方面,其線寬線距低于50微米,甚至?xí)斐苫瘜W(xué)物質(zhì)殘留,不易被清除。
為解決上述問題,有人提出一種新式無機環(huán)保型退膜液的中國專利申請(申請?zhí)枺?017111658206),其公開了一種包含退膜加速劑的退膜液,其中,退膜加速劑為胺類化合物氨水……等中的一種或兩種以上的混合。該退膜液在退膜使用后在一定程度降低廢液的處理難度,但其退膜仍不干凈,易有殘留。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種具有退膜干凈、不易被腐蝕和造成殘留的氨水輔助退膜方法。
為了實現(xiàn)上述目的,通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)。
一種氨水輔助退膜方法,所述方法為在基板水平通過退膜槽時,氨水在以噴淋方式對板面進(jìn)行噴淋,所述噴淋方向為上下向中間噴射氨水進(jìn)行輔助退膜的方法。本發(fā)明氨水輔助退膜方法中采用的氨水為濃氨水,其在基板水平通過退膜槽時,以噴淋方式對板面上下同步噴淋,使膜加述脫離板面,實現(xiàn)有效輔助退膜。具體地,本發(fā)明采用噴淋方式從板面上下方向向中間噴淋,帶動退膜槽內(nèi)的退膜藥水垂直打向板面,由于本發(fā)明采用的是濃氨水,其在板面噴淋的過程中會不斷地?fù)]發(fā)出氨氣進(jìn)行沖擊未被腐蝕殘留的退膜藥水,且不斷放出的氨氣對固化干膜與未固化干膜的交界處具有垂直切力,其使得固化干膜邊緣更加平整垂直,對于后續(xù)工藝的蝕刻具有很好地促進(jìn)作用,使板面不僅退膜干凈,而且不易被腐蝕和造成殘留。
進(jìn)一步地,所述氨水輔助退膜方法包括如下步驟,
S1:氨水保存,將氨水保存在塑料桶中;由于氨水易揮發(fā)出氨氣,且隨溫度升高和放置時間延長而揮發(fā)率增加,而且會隨濃度的增大揮發(fā)量增加,本發(fā)明中采用的是濃氨水,為減少其保存過程中發(fā)生揮發(fā)現(xiàn)象,將氨水保存在塑料桶中,以減少或避免氨水的揮發(fā)。
S2:通過負(fù)壓機接入導(dǎo)管,將氨水通入退膜槽中,氨水在力的作用下進(jìn)入退膜槽;負(fù)壓機啟動后,氨水在負(fù)壓的作用力下,通過導(dǎo)管進(jìn)入退膜槽中,并通過導(dǎo)管噴淋至板的上下表面,噴淋過程中不斷揮發(fā)出的氨氣,揮發(fā)的氨氣不斷地沖擊板面未被腐蝕殘留的退膜藥水,且不斷放出的氨氣對固化干膜與未固化干膜的交界處具有垂直切力,其使得固化干膜邊緣更加平整垂直,對于后續(xù)工藝的蝕刻具有很好地促進(jìn)作用。
S3:在基板水平通過退膜槽時,氨水在堿性條件下使得氨水平衡左移釋放出部分氨氣,并在后續(xù)不斷噴進(jìn)的氨水打入擠壓,氨氣不斷產(chǎn)生、不斷擠壓退膜藥水垂直打向板面,氨氣在板面不斷放出的同時沖擊未被腐蝕殘留的退膜藥水,完成退膜。
進(jìn)一步地,所述導(dǎo)管包括上導(dǎo)管和下導(dǎo)管,所述上導(dǎo)管和下導(dǎo)管分別位于所述基板的上下方向所在位置,且所述上導(dǎo)管和下導(dǎo)管的相對面均開設(shè)有噴淋孔。采用包括上導(dǎo)管和下導(dǎo)管的導(dǎo)管設(shè)置,上導(dǎo)管和下導(dǎo)管分別位于基板的上下方向,使氨水在不斷地?fù)]發(fā)過程中,揮發(fā)出的氨氣不斷地向基板的上下兩面沖擊,使膜加述脫離板面,實現(xiàn)有效輔助退膜。
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