[發明專利]一種高銦含量的ITO靶材的制備方法

在審

• 申請號: 202210503537.4
• 申請日: 2022-05-10
• 公開（公告）號: CN114873992A
• 公開（公告）日: 2022-08-09
• 發明（設計）人: 張兵;王志強;曾墩風;馬建保;陶成;徐軍偉
• 申請（專利權）人: 蕪湖映日科技股份有限公司
• 主分類號: C04B35/01
• 分類號: C04B35/01;C04B35/622;C04B35/638;C23C14/08;C23C14/34;C23C14/35
• 代理公司: 南京正聯知識產權代理有限公司 32243
• 代理人: 楊靜

1.一種高銦含量的ITO靶材的制備方法，其特征在于，所述的ITO靶材中氧化銦粉末、氧化錫粉末質量比大于等于97：3，所述氧化銦粉體的比表面積為11-12m²/g，經過混合、球磨、噴霧造粒得到納米級ITO粉體，使用冷等靜壓制成素坯，加工好的素坯放入燒結爐中進行脫脂和常壓燒結，得到的ITO靶材相對密度大于99%，晶粒尺寸5.32-6.84μm；抗彎強度為149-156MPa。

2.根據權利要求所述高銦含量的ITO靶材的制備方法，其特征在于，所述燒結的最高溫度為1600-1650℃。

3.根據權利要求1所述高銦含量的ITO靶材的制備方法，其特征在于，所述氧化銦粉末、氧化錫粉末依次采用粗磨、精磨和納米級砂磨進行處理。

4.根據權利要求3所述高銦含量的ITO靶材的制備方法，其特征在于，所述粗磨工藝為，粗磨鋯珠直徑1-10mm，研磨時間3-20小時，攪拌機速度50-120rpm。

5.根據權利要求3所述高銦含量的ITO靶材的制備方法，其特征在于，所述精磨使用砂磨機，自循環精磨，精磨鋯珠直徑0.8-1.0mm，主機轉速800-1200rpm，供料泵流量800-1000L/min。

6.根據權利要求3所述高銦含量的ITO靶材的制備方法，其特征在于，所納米級砂磨的砂磨機鋯珠直徑0.05-0.1mm，主機轉速1600rpm，供料泵流量500-600L/min。

7.根據權利要求1所述高銦含量的ITO靶材的制備方法，其特征在于，所述燒結工藝如下：（1）以5℃/min的升溫速率升溫至600℃，保溫2h，通入氧氣流量為8L/min；（2）以1.5℃/min的升溫速率升溫至1250℃，保溫8h，通入氧氣流量為12L/min；（3）以0.3℃/min的升溫速率升溫至1650℃，保溫15h，通入氧氣流量為16L/min；（4）以5℃/min的降溫速率降升溫至1250℃，通入氧氣流量為16L/min；（5）隨后停止通氧，自然冷卻至室溫。