[發(fā)明專利]一種采用釩酸鉍光電極制氫的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210467810.2 | 申請日: | 2022-04-29 |
| 公開(公告)號: | CN114908357A | 公開(公告)日: | 2022-08-16 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王澤巖;王肇祺;黃柏標;鄭昭科;劉媛媛;王朋;程合鋒;張倩倩;張曉陽 | 申請(專利權)人: | 山東大學 |
| 主分類號: | C25B1/04 | 分類號: | C25B1/04;C25B1/55;C25B11/087;C25B11/077 |
| 代理公司: | 濟南圣達知識產(chǎn)權代理有限公司 37221 | 代理人: | 張曉鵬 |
| 地址: | 250100 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 采用 釩酸鉍光 電極 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種采用BiVO4光電極制氫的方法,包括如下步驟:將乙酰丙酮氧釩、硝酸鉍和有機溶劑混合均勻,得前驅體溶液;將前驅體溶液旋涂或電沉積在FTO導電玻璃上,退火制備得到BiVO4光電極;將羥基酸或其鹽溶于水中,制得溶液,羥基酸為同時含有羥基和羧基的有機化合物;以所述BiVO4光電極為工作電極,以羥基酸或其鹽為電解質(zhì)溶液,采用三電極體系,在光照并外加偏壓的作用下制氫。通過簡單的旋涂?退火或電沉積?退火方法即可得到生長在FTO導電玻璃上的BiVO4光電極材料,該光電極材料擁有納米顆粒組成的多孔結構,具有較好的光電化學制氫活性。
技術領域
本發(fā)明屬于光電化學制氫技術領域,具體涉及一種采用BiVO4光電極制氫的方法。
背景技術
這里的陳述僅提供與本發(fā)明相關的背景技術,而不必然地構成現(xiàn)有技術。
利用光電化學技術制氫是相對理想的方式,主要是因為:(1)光電化學技術基于太陽能和水,而這兩種物質(zhì)都是無污染的可再生資源;(2)光電化學制氫技術相對簡單,可以小規(guī)模生產(chǎn)又可以大規(guī)模生產(chǎn)。但是,發(fā)明人發(fā)現(xiàn),由于現(xiàn)有的光電極實際能量轉化效率低,使其制氫效率和實際應用受到了較大的制約。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術存在的不足,本發(fā)明的目的是提供一種采用BiVO4光電極制氫的方法,可以通過改進BiVO4光電極的光電化學性能進一步提升其制氫效率,降低制氫所需要的能量損耗。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明是通過如下的技術方案來實現(xiàn):
一種采用BiVO4光電極制氫的方法,包括如下步驟:
將乙酰丙酮氧釩、硝酸鉍和有機溶劑混合均勻,得前驅體溶液;
將前驅體溶液旋涂或電沉積在FTO導電玻璃上,退火制備得到BiVO4光電極;
將羥基酸或其鹽溶于水中,制得溶液,羥基酸為同時含有羥基和羧基的有機化合物;
以所述BiVO4光電極為工作電極,以羥基酸或其鹽為電解質(zhì)溶液,采用三電極體系,在光照并外加偏壓的作用下制氫。
上述本發(fā)明的有益效果為:
BiVO4光電極的合成方法簡單,通過簡單的旋涂-退火或電沉積-退火方法即可得到生長在FTO導電玻璃上的BiVO4光電極材料,該光電極材料擁有納米顆粒組成的多孔結構,具有較好的光電化學制氫活性,理論光電流達7.5mA/cm2;通過在水中溶解一定質(zhì)量的羥基酸或羥基酸鹽即可大幅度提升BiVO4光電極材料的光電化學制氫的性能,如,在1.23Vvs.RHE的偏壓下達到15mA/cm2的光電流密度。
附圖說明
構成本發(fā)明的一部分的說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解,本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明,并不構成對本發(fā)明的不當限定。
圖1是本發(fā)明實施例1所得BiVO4光電極的相關測試圖譜,其中,(a)BiVO4光電極的SEM表面圖,(b)BiVO4光電極的SEM截面圖,(c)BiVO4光電極的XRD圖,(d)BiVO4光電極的UV-vis漫反射圖,(e)BiVO4光電極的EDX圖。
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