[發(fā)明專利]微型發(fā)光二極管芯片的轉(zhuǎn)移方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210424167.5 | 申請日: | 2022-04-21 |
| 公開(公告)號: | CN114927456A | 公開(公告)日: | 2022-08-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李文濤 | 申請(專利權(quán))人: | TCL華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L21/67;H01L25/075 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 張惠 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微型 發(fā)光二極管 芯片 轉(zhuǎn)移 方法 | ||
1.一種微型發(fā)光二極管芯片的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述方法包括:
采用感光膠層將微型發(fā)光二極管芯片粘接于透光的過渡基板上,所述微型發(fā)光二極管芯片包括第一連接電極,所述微型發(fā)光二極管芯片的所述第一連接電極位于所述微型發(fā)光二極管芯片遠離所述感光膠層的一側(cè),所述感光膠層包括助焊劑;
提供一驅(qū)動基板,所述驅(qū)動基板包括多個第二連接電極;
將所述過渡基板移動至所述驅(qū)動基板的上方,且將所述微型發(fā)光二極管芯片的所述第一連接電極與所述第二連接電極對位,所述第一連接電極或/和所述第二連接電極上形成有焊接材料;
采用第一激光照射所述過渡基板上的所述感光膠層,以使所述微型發(fā)光二極管芯片從所述感光膠層上脫落,且使所述助焊劑揮發(fā);
采用第二激光照射,以使所述焊接材料熔融,熔融的所述焊接材料在揮發(fā)的所述助焊劑的作用下,連接所述第一連接電極和所述第二連接電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述微型發(fā)光二極管芯片的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述第一激光的波長與所述第二激光的波長相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述微型發(fā)光二極管芯片的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述第一激光的波長大于或等于340納米且小于或等于360納米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述微型發(fā)光二極管芯片的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述第一激光的波長與所述第二激光的波長不同。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述微型發(fā)光二極管芯片的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述焊接材料選自Au、Al、Cu、Sn、In以及Ti中的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述微型發(fā)光二極管芯片的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述焊接材料為In或In合金。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述微型發(fā)光二極管芯片的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述感光膠層在所述第一激光照射之后的粘性,小于所述感光膠層在所述第一激光照射之前的粘性。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述微型發(fā)光二極管芯片的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述感光膠層的制備材料包括聚酰亞胺類膠、丙烯酸酯類膠以及硅膠中的一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述微型發(fā)光二極管芯片的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,所述過渡基板選自石英玻璃基板、藍寶石基板或硅基板中的一種。
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H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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