[發(fā)明專利]一種光學(xué)器件改善led光源均勻度的裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210410051.6 | 申請(qǐng)日: | 2022-04-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114777077A | 公開(公告)日: | 2022-07-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李春順 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 沃田光學(xué)科技(東莞)有限公司 |
| 主分類號(hào): | F21V5/00 | 分類號(hào): | F21V5/00;F21Y115/10 |
| 代理公司: | 廣東知百通專利代理事務(wù)所(普通合伙) 44860 | 代理人: | 陳向敏 |
| 地址: | 523000 廣東省*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光學(xué) 器件 改善 led 光源 均勻 裝置 | ||
本發(fā)明提供了一種光學(xué)器件改善led光源均勻度的裝置,包括光束控制構(gòu)件,光束控制構(gòu)件的表面包括底面、第一頂面、第二頂面和端面,底面的中部向內(nèi)凹陷形成容納腔,在外圍底面的中點(diǎn)做垂直于其的垂線B,在垂線B上任取一點(diǎn)A,點(diǎn)A與外圍底面的距離為R1,與垂線B的距離為R2,入光面與平行于外圍底面平面在點(diǎn)A處形成的交線面積為S1,則R1與R2、S1成反比,第一頂面的中部向外圍底面方向形成凹陷曲面,第一頂面與第二頂面的交線上存在點(diǎn)X1、X2、Y1、Y2,點(diǎn)X1、X2到垂線B的距離相等,點(diǎn)Y1、Y2到垂線B的距離相等,本發(fā)明實(shí)施例一種光學(xué)器件改善led光源均勻度的裝置能夠改善光源的均勻度,使顯示界面更清晰,并使光源不刺眼。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及照明設(shè)備和顯示應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種光學(xué)器件改善led光源均勻度的裝置。
背景技術(shù)
照明裝置被廣泛應(yīng)用于日常生活或者生產(chǎn)活動(dòng)中,尤其是在電視,顯示器,廣告燈等背光源領(lǐng)域,這些領(lǐng)域都需要led燈等作為背光源,但是,在實(shí)際應(yīng)用中,多個(gè)點(diǎn)狀背光源均十分刺眼,對(duì)眼睛的刺激十分厲害,光源發(fā)射的光線比較集中、不夠均勻。
有鑒于此,有必要對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的照明裝置予以改進(jìn),以解決上述問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此,本發(fā)明提出一種光學(xué)器件改善led光源均勻度的裝置,所述光學(xué)器件改善led光源均勻度的裝置能夠改善光源的均勻度,使顯示界面更清晰,使光源不刺眼。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)器件改善led光源均勻度的裝置,包括光束控制構(gòu)件,所述光束控制構(gòu)件的表面包括底面、第一頂面、第二頂面和端面,所述底面由外圍底面和入光面組成,所述底面的中部向內(nèi)凹陷形成容納腔,所述容納腔的腔壁構(gòu)成所述入光面,所述第一頂面、所述第二頂面構(gòu)成出光面,所述第二頂面與所述端面連接,所述端面與所述外圍底面連接,
在所述入光面上任意選取一點(diǎn)記為點(diǎn)A,在所述外圍底面的中點(diǎn)做垂直于所述外圍底面的垂線B,設(shè)所述點(diǎn)A與所述外圍底面所在平面的距離為R1,設(shè)所述點(diǎn)A與所述垂線B的距離為R2,設(shè)所述入光面與平行于所述外圍底面的平面在所述點(diǎn)A處形成的閉合交線的面積為S1,則R1與R2成反比,且R1與S1成反比,
所述第一頂面的中部向所述外圍底面方向凹陷形成凹陷曲面,所述第二頂面與所述外圍底面平行,將所述第一頂面與所述第二頂面的交線記為曲線C,所述曲線C上存在四個(gè)點(diǎn):點(diǎn)X1、點(diǎn)X2、點(diǎn)Y1、點(diǎn)Y2,其中所述點(diǎn)X1、所述點(diǎn)X2到所述垂線B的距離相等,所述點(diǎn)Y1、所述點(diǎn)Y2到所述垂線B的距離相等,并且所述曲線C上存在到所述垂線B的距離不相等的兩個(gè)點(diǎn)。
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