[發(fā)明專利]陣列基板、顯示面板及顯示裝置

在審

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• 申請日: 2022-04-13
• 公開（公告）號: CN114967256A
• 公開（公告）日: 2022-08-30
• 發(fā)明（設計）人: 張立志;黃世帥;胡云欽;鄭浩旋
• 申請（專利權）人: 滁州惠科光電科技有限公司;惠科股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;H01L27/32
• 代理公司: 深圳市威世博知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 陳婷

1.一種陣列基板，包括：

第一金屬層，設有掃描線；

第二金屬層，設有數(shù)據(jù)線，與所述掃描線交叉設置，形成第一交疊區(qū)域，其特征在于，所述掃描線在所述第一交疊區(qū)域的寬度小于所述掃描線的其它區(qū)域的寬度和/或所述數(shù)據(jù)線在所述第一交疊區(qū)域的寬度小于所述數(shù)據(jù)線的其它區(qū)域的寬度；

絕緣層，設置在所述第一金屬層及所述第二金屬層之間。

2.根據(jù)權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一金屬層進一步設有公共電極線，所述公共電極線與所述數(shù)據(jù)線交叉設置，且形成有第二交疊區(qū)域，所述公共電極線在所述第二交疊區(qū)域的寬度小于所述公共電極線的其它區(qū)域的寬度和/或所述數(shù)據(jù)線在所述第二交疊區(qū)域的寬度小于所述數(shù)據(jù)線的其它區(qū)域的寬度。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的陣列基板，其特征在于，所述第二金屬層進一步設有第一漏電極及第一源電極，所述第一漏電極與所述掃描線電連接，所述第一源電極與所述陣列基板的公共電極線連接；

其中，所述第一源電極呈U字型設置，圍繞在所述第一漏電極的外周，以縮小所述第一漏電極的面積。

4.根據(jù)權利要求3所述的陣列基板，其特征在于，進一步包括：

有源層，設置在所述絕緣層與所述第一金屬層之間，所述有源層設有第一漏極區(qū)及第一源極區(qū)，其中，所述第一源極區(qū)呈U字型設置，圍繞在所述第一漏極區(qū)的外周。

5.根據(jù)權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，

所述掃描線的其它區(qū)域的寬度和/或所述數(shù)據(jù)線的其它區(qū)域的寬度為所述第一交疊區(qū)域的寬度的3.5至4.5倍；

所述公共電極線的其它區(qū)域的寬度和/或所述數(shù)據(jù)線的其它區(qū)域的寬度為所述第二交疊區(qū)域的寬度的1.5至2.5倍。

6.一種陣列基板，包括：

第一金屬層，設有掃描線及公共電極線；

第二金屬層，設有數(shù)據(jù)線、第一源電極及第一漏電極，所述數(shù)據(jù)線與所述掃描線交叉設置，其特征在于，所述第一漏電極與所述掃描線連接，所述第一源電極與所述公共電極線連接；

絕緣層，設置在所述第一金屬層及所述第二金屬層之間；

其中，所述第一源電極呈U字型設置，圍繞在所述第一漏電極的外周，以縮小所述第一漏電極的面積。

7.根據(jù)權利要求6所述的陣列基板，其特征在于，進一步包括：

有源層，設置在所述絕緣層與所述第二金屬層之間，所述有源層設有第一漏極區(qū)及第一源極區(qū)，其中，所述第一源極區(qū)呈U字型設置，圍繞在所述第一漏極區(qū)的外周。

8.根據(jù)權利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述公共電極線包括主公共電極線及次公共電極線，所述第二金屬層設有兩個所述第一源電極及兩個所述第一漏電極，一所述第一漏電極與所述掃描線連接，一所述第一源電極與所述主公共電極線連接；另一所述第一漏電極與所述掃描線連接，另一所述第一源電極與所述次公共電極線連接；

所述第一金屬層進一步設有第二源電極及第二漏電極，所述第二源電極與一所述第一源電極連接，第二漏電極與所述主公共電極線及所述次公共電極線連接。

9.一種顯示面板，其特征在于，包括彩膜基板、液晶層和如權利要求1至8任一項所述的陣列基板。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括處理器及權利要求9所述的顯示面板。