[發明專利]一種用于非線性光場調控的準多值化編碼改進方法在審
| 申請號: | 202210379513.2 | 申請日: | 2022-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN114675467A | 公開(公告)日: | 2022-06-28 |
| 發明(設計)人: | 陸蓉兒;張炳林;狄東睿 | 申請(專利權)人: | 南京工業大學 |
| 主分類號: | G02F1/35 | 分類號: | G02F1/35;G02F1/355;G02F1/03;G03H1/04 |
| 代理公司: | 南京正聯知識產權代理有限公司 32243 | 代理人: | 盧霞 |
| 地址: | 211816 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 非線性 調控 準多值化 編碼 改進 方法 | ||
1.一種用于非線性光場調控的準多值化編碼改進方法,其特征在于,在二值化編碼的基礎上分別在一維和二維角度重新設計了光學超晶格結構單元,每個結構單元中用負疇區域的面積占空比來表示干涉光場歸一化振幅Is,則對于一維準多值化編碼方法,結構函數修正為:
其中L表示晶體結構單元的長寬,A表示每個結構單元中負疇區域在x方向所占的寬度,A與光場歸一化振幅之間的關系可以表示為
二維準多值化編碼方法與一維類似,從二維角度對每個結構單元的負疇面積進行了設計,在調整x方向上負疇位置的同時對y方向也進行調整,假設B1表示每個結構單元中負疇區域在x方向所占的寬度,B2表示每個結構單元中負疇區域在y方向所占的寬度,用每個結構單元中負疇的面積B與整個結構單元面積L2的比值去線性對應每個結構單元中心位置Is的歸一化取值,具體表示為從而進一步修正結構函數為:
。
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