[發明專利]半導體芯片用掩模版傳送裝置及其傳送方法有效
| 申請號: | 202210336511.5 | 申請日: | 2022-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN114408518B | 公開(公告)日: | 2022-08-19 |
| 發明(設計)人: | 謝超;柯漢奇;黃執祥;張道谷 | 申請(專利權)人: | 深圳市龍圖光電有限公司 |
| 主分類號: | B65G43/08 | 分類號: | B65G43/08;B65G47/90;G03F7/20 |
| 代理公司: | 深圳市恒程創新知識產權代理有限公司 44542 | 代理人: | 苗廣冬 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 芯片 模版 傳送 裝置 及其 方法 | ||
本發明公開一種半導體芯片用掩模版傳送裝置及其傳送方法,其中,半導體芯片用掩模版傳送裝置用于自光刻機內取出曝光后的掩模版,并送至后處理設備;包括主體、檢測機構以及傳送機構;主體活動設置,內設有恒溫腔;檢測機構包括感應器,用以檢測主體的位置信息;傳送機構包括控制器以及傳送手臂,傳送手臂活動設于恒溫腔,具有取版狀態和放版狀態,控制器與感應器以及傳送手臂電連接;其中,處于取版狀態時,傳送手臂用以自光刻機內拾取掩模版,并移送至恒溫腔內;處于放版狀態時,傳送手臂用以將恒溫腔內的掩模版移送至后處理設備內;通過該傳送裝置傳送曝光后的掩模版,保證掩模版在移送過程中的清潔度,提高掩模版的質量;同時減少人力成本。
技術領域
本發明涉及半導體加工工藝技術領域,尤其是一種半導體芯片用掩模版傳送裝置及其傳送方法。
背景技術
在半導體加工工藝中,掩模版在經過前處理曝光后,需要移送至后處理的工位上進行顯影;在現有的加工過程中,基本通過人工取放掩模版,由于人工取放和傳遞過程中容易導致掩模版表面被污染,最終形成掩模版缺陷;同時往復的距離移動較為浪費人力。
發明內容
本發明的主要目的是提出一種半導體芯片用掩模版傳送裝置及其傳送方法,旨在解決現有加工過程中,通過人工取放掩模版而導致掩模版表面被污染并形成掩模版缺陷、以及浪費人力的問題。
為實現上述目的,本發明提出一種半導體芯片用掩模版傳送裝置,用于自光刻機內取出曝光后的掩模版,并送至后處理設備,所述半導體芯片用掩模版傳送裝置包括:
主體,活動設置,在其活動行程上,具有用以與所述光刻機對接的取版位置、以及用以與所述后處理設備對接的放版位置,所述主體內設有恒溫腔;
檢測機構,包括感應器,用以檢測所述主體的位置信息;以及,
傳送機構,包括控制器以及傳送手臂,所述傳送手臂活動設于所述恒溫腔,具有取版狀態和放版狀態,所述控制器與所述感應器以及所述傳送手臂電連接;
其中,處于所述取版狀態時,所述傳送手臂用以自所述光刻機內拾取所述掩模版,并移送至所述恒溫腔內;
處于所述放版狀態時,所述傳送手臂用以將所述恒溫腔內的所述掩模版移送至所述后處理設備內。
可選地,所述主體在第一水平方向上的一側設有送版窗口;
所述傳送機構還包括傳送門組件,所述傳送門組件包括傳送門以及驅動器,所述傳送門沿上下向活動設于所述送版窗口,在其活動行程上,具有使所述恒溫腔自所述送版窗口處顯露的打開位置;
其中,所述控制器與所述驅動器電連接,用以在所述感應器檢測所述主體處于所述取版位置或者所述放版位置時,控制所述驅動器驅動所述傳送門活動至所述打開位置。
可選地,所述檢測機構還包括定位組件,所述定位組件設于所述傳送手臂,以在所述傳送手臂處于所述取版狀態和/或所述放版狀態時,用以定位所述光刻機內的所述掩模版的位置和/或所述后處理設備的卡盤夾具的位置。
可選地,所述傳送手臂包括活動設于所述恒溫腔內的調節手臂、以及設于所述調節手臂上的取版手臂,所述取版手臂在第一水平方向上具有背對所述調節手臂的拾取端;
所述定位組件包括設于所述拾取端的紅外測距儀,所述紅外測距儀包括沿第二水平方向并排設置的兩個紅外發射器和紅外接收器。
可選地,所述傳送手臂包括:
調節手臂,包括縱向調節臂、橫向調節臂以及旋轉調節臂,所述縱向調節臂設于所述恒溫腔的底壁,且可沿上下向活動;所述橫向調節臂設于所述縱向調節臂,且可相對所述縱向調節臂上沿第一水平方向活動;旋轉調節臂設于所述橫向調節臂,且可沿所述第一水平方向的軸線轉動;以及,
取版手臂,沿所述第一水平方向活動設于所述旋轉調節臂,用于托舉所述掩模版。
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