[發明專利]高通量自動清洗陶瓷超/微濾系統及其清洗方法

在審

• 申請號: 202210302263.2
• 申請日: 2022-03-25
• 公開（公告）號: CN114618306A
• 公開（公告）日: 2022-06-14
• 發明（設計）人: 孫道明;徐健元
• 申請（專利權）人: 納陶新材料技術研究（廣東）有限公司
• 主分類號: B01D61/18
• 分類號: B01D61/18;B01D61/20;B01D65/02
• 代理公司: 上海鍛創知識產權代理有限公司 31448
• 代理人: 陳少凌

本發明提供了陶瓷過濾技術領域一種高通量自動清洗陶瓷超/微濾系統及其清洗方法,包括設備機架、過濾機構、自動清洗機構、液壓閉合機構；過濾機構設置在設備機架中，過濾機構包括多片封裝陶瓷濾膜，封裝陶瓷濾膜包括陶瓷濾膜片和封裝外框，陶瓷濾膜片固定在封裝外框內，多片封裝陶瓷濾膜通過通道對應設置；過濾機構一側設置有開片機構，開片機構包括開片器，開片器在設備機架上移動而依次分開封裝陶瓷濾膜，封裝陶瓷濾膜通過開片器逐片松開至清洗器，過濾機構、自動清洗機構、液壓閉合機構分別通過電控箱控制設置，液壓閉合機構包括活塞桿，活塞桿對應封裝陶瓷濾膜設置。本發明采用跨膜壓差作為判斷標準，當壓差到一定數值，啟動清洗程序。

技術領域

本發明涉及陶瓷過濾技術領域，具體地，涉及一種高通量自動清洗陶瓷超/微濾系統及其清洗方法。

背景技術

膜過濾是一個濃縮過程，將物料進行分離，需要能量的輸入，一般來說，過濾是采用壓力作為分離動力。超微濾的分離有兩種方式，一種是物料供給方向和施壓方向相同(正壓過濾)；另一種是物料供給方向和施壓方向相反(負壓過濾)。相比只能一個大氣壓以下壓力過濾的特點，正壓過濾能提供高的分離驅動力。高精度分離過程中，被分離物料的對膜污堵問題通常需要采用物理清洗和化學清洗來解決。

常規物理清洗主要采用三種方式：(1)在線反沖洗；(2)離線物理清洗；和(3)化學清洗。由于結構原因，在線反沖洗的膜通量恢復效果不佳，沖洗液體剝落力小，污堵層不容易脫落。另外，反沖洗大量用水(或者其他分離液體)，大大降低產水效率。離線物理清洗工作量大，操作復雜，大的分離系統清洗過程涉及吊裝操作。化學清洗中使用了酸與(或)堿形成的清洗廢水需要處理，藥劑的使用和廢水的處理增加運行費用。

目前，正壓過濾方式基本都是采用圓柱形的密封容器中設置過濾膜的結構，膜片的面積受限，清洗過程需要拆卸密封容器，操作比價復雜。陶瓷膜初始通量非常大，但是由于大通量運行由于表面附著物的富集，衰減較快。因此本發明采用跨膜壓差作為判斷標準，當壓差到一定數值，啟動清洗程序。

經現有技術檢索發現，中國實用新型專利公告號為CN209646254U，公開了一種具有固定功能的陶瓷濾膜清潔裝置，包括工作臺、清洗池以及超聲波發生器，所述清洗池位于工作臺內部，所述超聲波發生器安置于清洗池底部，所述工作臺上設有清洗固定機構；所述安裝架體位于工作臺上，且橫跨清洗池，所述伸縮電機固定在安裝架體上，所述支撐桿位于伸縮電機的伸縮端上，所述支撐桿固定在伸縮電機的伸縮端上，所述軸架固定于支撐桿上，且驅動電機也位于其上，所述驅動軸通過聯軸器與驅動電機進行連接，所述物料架位于驅動軸上。該專利技術就存在上述相關問題。

發明內容

針對現有技術中的缺陷，本發明的目的是提供一種高通量自動清洗陶瓷超/微濾系統及其清洗方法。

根據本發明提供的一種高通量自動清洗陶瓷超/微濾系統，包括設備機架、過濾機構、自動清洗機構以及液壓閉合機構；

所述過濾機構設置在所述設備機架中，所述過濾機構包括多片封裝陶瓷濾膜，所述封裝陶瓷濾膜包括陶瓷濾膜片和封裝外框，所述陶瓷濾膜片固定在所述封裝外框內，所述封裝外框上開設有通道，多片所述封裝陶瓷濾膜通過所述通道對應設置；

所述自動清洗機構包括清洗行走架、升降器以及清洗器，所述清洗行走架設置在所述設備機架上，所述清洗器通過所述升降器升降設置在所述清洗行走架上；

所述過濾機構一側設置有開片機構，所述開片機構包括開片器，所述開片器在所述設備機架上移動而依次分開所述封裝陶瓷濾膜，所述封裝陶瓷濾膜通過所述開片器逐片松開至所述清洗器，所述清洗器對應所述封裝陶瓷濾膜設置；

所述過濾機構、所述自動清洗機構、所述液壓閉合機構分別通過電控箱控制設置，所述液壓閉合機構包括活塞桿，所述活塞桿對應所述封裝陶瓷濾膜設置。