[發(fā)明專利]一種基于可變背景的流場(chǎng)測(cè)量裝置及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210292219.8 | 申請(qǐng)日: | 2022-03-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114383668B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-05-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊立軍;李敬軒;張玥;梁炫燁 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京航空航天大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01D21/02 | 分類號(hào): | G01D21/02;G06T5/40 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 宋南 |
| 地址: | 100089*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 可變 背景 測(cè)量 裝置 方法 | ||
1.一種基于可變背景的流場(chǎng)測(cè)量裝置,其特征在于,包括:LED平行背光源、液晶面板、相機(jī)、圖像處理模塊和背景圖案生成模塊;
所述LED平行背光源,用于向液晶面板發(fā)射平行光源;
所述背景圖案生成模塊,用于執(zhí)行下述步驟:
步驟S1:獲取相機(jī)分辨率及相機(jī)所拍攝的背景區(qū)域大小;
步驟S2:計(jì)算相機(jī)一個(gè)像素所對(duì)應(yīng)的背景圖案區(qū)域的實(shí)際大小,由此得到像素實(shí)際邊長(zhǎng);
步驟S3:設(shè)定黑色正方形采樣點(diǎn)的邊長(zhǎng)a為像素實(shí)際邊長(zhǎng)的2倍或3倍,采樣半徑R的初始值為邊長(zhǎng)a的1.5倍;
步驟S4:以邊長(zhǎng)a和采樣半徑R為參數(shù),采用泊松圓盤采樣法在白色背景上隨機(jī)生成多個(gè)黑色正方形采樣點(diǎn),作為背景圖案;
步驟S5:生成所述背景圖案的直方圖,由此計(jì)算背景圖案的灰度平均值;
步驟S6:判斷灰度平均值與0.5的差的絕對(duì)值是否大于閾值,如果為是,若灰度平均值大于0.5則減小采樣半徑R,若灰度平均值小于0.5則增加采樣半徑R,進(jìn)入步驟S4;否則,進(jìn)入步驟S7;
步驟S7:以生成的背景圖案作為最優(yōu)背景圖案,將所述最優(yōu)背景圖案發(fā)送至液晶面板;
所述液晶面板,用于顯示最優(yōu)背景圖案;
所述相機(jī),用于對(duì)最優(yōu)背景圖案前未放置待測(cè)流場(chǎng)和最優(yōu)背景圖案前放置待測(cè)流場(chǎng)分別進(jìn)行成像,得到第一圖像和第二圖像;
所述圖像處理模塊,用于對(duì)第一圖像和第二圖像按照預(yù)設(shè)算法進(jìn)行處理,得到待測(cè)流場(chǎng)的密度和溫度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于可變背景的流場(chǎng)測(cè)量裝置,其特征在于,所述LED平行背光源上設(shè)置平行光膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于可變背景的流場(chǎng)測(cè)量裝置,其特征在于,所述LED平行背光源及液晶面板的尺寸根據(jù)待測(cè)流場(chǎng)大小確定。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于可變背景的流場(chǎng)測(cè)量裝置,其特征在于,所述圖像處理模塊具體用于:
獲取第一圖像和第二圖像;
對(duì)第一圖像和第二圖像分別進(jìn)行預(yù)處理;預(yù)處理包括:去除圖像的噪聲干擾和對(duì)圖像的灰度直方圖進(jìn)行平滑處理;
選取互相關(guān)窗口,對(duì)預(yù)處理后的第一圖像和預(yù)處理后的第二圖像進(jìn)行互相關(guān)處理,得到整個(gè)待測(cè)流場(chǎng)區(qū)域背景圖案的每個(gè)像素的偏移量,由此得到整個(gè)待測(cè)流場(chǎng)區(qū)域背景圖案的偏移分布;
根據(jù)整個(gè)待測(cè)流場(chǎng)區(qū)域背景圖案的偏移分布獲得待測(cè)流場(chǎng)相對(duì)折射率分布;
根據(jù)環(huán)境折射率和待測(cè)流場(chǎng)相對(duì)折射率分布,計(jì)算出待測(cè)流場(chǎng)折射率分布;
根據(jù)待測(cè)流場(chǎng)相對(duì)折射率分布,計(jì)算待測(cè)流場(chǎng)密度分布;
根據(jù)待測(cè)流場(chǎng)密度分布,計(jì)算待測(cè)流場(chǎng)溫度分布。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于可變背景的流場(chǎng)測(cè)量裝置,其特征在于,在得到整個(gè)待測(cè)流場(chǎng)區(qū)域背景圖案的每個(gè)像素的偏移量之后包括:
從待測(cè)流場(chǎng)區(qū)域背景圖案中選取需要進(jìn)行參數(shù)處理的關(guān)注區(qū)域或具有軸對(duì)稱性的關(guān)注區(qū)域,所述關(guān)注區(qū)域的行數(shù)為t,列數(shù)為q;
從關(guān)注區(qū)域的第一行開(kāi)始,提取第一行數(shù)據(jù)里偏移量的極大值和極小值所在位置,計(jì)算兩個(gè)位置橫坐標(biāo)平均值,取橫坐標(biāo)平均值的整數(shù)部分作為第一行數(shù)據(jù)的對(duì)稱軸的初始值m;
確定對(duì)稱軸遍歷范圍為[m-b,m+b],其中b為遍歷半徑;
將關(guān)注區(qū)域第一行中的q個(gè)偏移量的絕對(duì)值組成集合B,對(duì)于 [m-b,m+b]區(qū)間內(nèi)每一個(gè)可能的對(duì)稱軸,通過(guò)集合B的數(shù)據(jù)計(jì)算對(duì)稱軸左右兩側(cè)數(shù)據(jù)的互相關(guān)系數(shù),總共得到2b+1個(gè)互相關(guān)系數(shù);
比較2b+1個(gè)互相關(guān)系數(shù)的大小,以最大互相關(guān)系數(shù)對(duì)應(yīng)的對(duì)稱軸坐標(biāo)作為第一行的對(duì)稱軸位置;
按照上述步驟遍歷關(guān)注區(qū)域的其它t-1行,得到t-1行的對(duì)稱軸坐標(biāo);
計(jì)算的平均值,取平均值的整數(shù)部分作為整個(gè)待測(cè)流場(chǎng)區(qū)域?qū)ΨQ軸的橫坐標(biāo)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京航空航天大學(xué),未經(jīng)北京航空航天大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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