[發明專利]激光裝置以及控制方法

在審

• 申請號: 202210254284.1
• 申請日: 2022-03-15
• 公開（公告）號: CN115106645A
• 公開（公告）日: 2022-09-27
• 發明（設計）人: 塚本雅裕;佐藤雄二;竹中啟輔;東野律子;東條公資
• 申請（專利權）人: 株式會社島津制作所;國立大學法人大阪大學
• 主分類號: B23K26/06
• 分類號: B23K26/06;B23K26/21;B23K26/38
• 代理公司: 上海立群專利代理事務所(普通合伙) 31291
• 代理人: 楊楷;毛立群

1.一種激光裝置，其特征在于，具備：

多個第1光源，各自輸出用于對對象物進行預加熱的第1激光；

第2光源，輸出用于對所述對象物進行正式加熱的第2激光，

所述對象物中的所述多個第1激光各自的第1照射位置與所述對象物中的所述第2激光的第2照射位置的相對位置關系和所述多個所述第1照射位置各自的位置中的至少1個是能夠變更的。

2.如權利要求1所述的激光裝置，其特征在于，

進一步具備控制裝置，變更所述相對位置關系和所述第1照射位置各自的位置中的至少1個。

3.如權利要求2所述的激光裝置，其特征在于，

進一步具備輸入裝置，受理來自用戶的照射模式的輸入，

所述控制裝置基于所述照射模式來變更所述相對位置關系和所述各自的位置中的至少1個。

4.如權利要求3所述的激光裝置，其特征在于，

所述激光裝置進一步具備光學元件，分割所述第2激光，

所述照射模式包含使所述多個第1激光中的一部分第1激光照射至與被分割的所述第2激光各自的所述第2照射位置對應的位置的模式。

5.如權利要求3或4所述的激光裝置，其特征在于，

所述照射模式包含繼所述多個第1激光中的1個以上的第1激光對所述對象物的照射之后，使所述第2激光照射至被照射了該第1激光的所述第1照射位置的模式。

6.如權利要求1～4的任一項所述的激光裝置，其特征在于，

進一步具備聚光透鏡，將所述多個第1激光聚光并使其照射至所述對象物，

在所述聚光透鏡形成有使所述第2激光透過的透過部，

透過了所述透過部的所述第2激光被照射至所述對象物。

7.如權利要求6所述的激光裝置，其特征在于，

所述透過部為孔部。

8.如權利要求6所述的激光裝置，其特征在于，

所述透過部包含用于使所述第2激光透過的透過涂層。

9.如權利要求1～4的任一項所述的激光裝置，其特征在于，

所述第1光源由半導體激光裝置構成。

10.如權利要求1～4的任一項所述的激光裝置，其特征在于，

所述第2光源由單模光纖激光裝置構成。

11.如權利要求1～4的任一項所述的激光裝置，其特征在于，

所述第1激光為波長400nm以上550nm以下的激光，

所述第2激光為波長900nm以上1100nm以下的激光，

所述對象物由銅、金或鋁構成。

12.一種激光裝置，其特征在于，具備：

第1光源，輸出用于對對象物進行預加熱的第1激光；

第2光源，輸出用于對所述對象物進行正式加熱的第2激光，

所述對象物中的所述第1激光的第1照射位置與所述對象物中的所述第2激光的第2照射位置的相對位置關系是能夠變更的。

13.一種激光裝置，其特征在于，具備：

第1光源，輸出用于對對象物進行預加熱的第1激光；

多個第2光源，各自輸出用于對所述對象物進行正式加熱的第2激光，

所述對象物中的所述第1激光的第1照射位置與所述對象物中的所述多個第2激光各自的第2照射位置的相對位置關系和所述多個所述第2照射位置各自的位置中的至少1個是能夠變更的。