[發(fā)明專利]石墨壓延用離型膜及其制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210249207.7
• 申請(qǐng)日: 2022-03-14
• 公開（公告）號(hào): CN114561147A
• 公開（公告）日: 2022-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅君龍;趙萬(wàn)里;羅九川;王軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州市奧貝新材料科技有限公司
• 主分類號(hào): C09D183/04
• 分類號(hào): C09D183/04;C09D7/65;C08J7/04;C08J5/18;C08L67/02
• 代理公司: 淮安市科文知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 32223
• 代理人: 廖娜;李鋒

本發(fā)明涉及離型膜技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種石墨壓延用離型膜及其制備方法，包括基材層和粘合在所述基材層表面的離型層，所述離型層的涂布料液由以下重量份的組分配制而成：15~25份二甲基硅油、25~35份剝離力調(diào)節(jié)劑和8~12份甲基硅樹脂混合后，加入45~55份的有機(jī)溶劑充分?jǐn)嚢榉稚ⅲ詈蠹尤?~2份的含氫硅油、2~3份附著劑和2~2.5份鉑金催化助劑整體混合而成。本發(fā)明該離型膜厚度較小，與石墨片的表面親和力較好，一種厚度的離型膜能夠壓制出不同厚度的石墨片，成本低廉，且該離型膜對(duì)石墨片具有適宜的微黏力，將其從石墨片上撕下來(lái)時(shí)不會(huì)損壞石墨片。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及離型膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種石墨壓延用離型膜及其制備方法。

背景技術(shù)

隨著工業(yè)化進(jìn)程的加快，電子產(chǎn)品在要求快速散熱，快速導(dǎo)電的這一方向，能快速導(dǎo)熱成為電子產(chǎn)品硬性需求。近幾年來(lái)，在電子電氣領(lǐng)域，由于集成技術(shù)和組裝技術(shù)的發(fā)展，電子元器件的體積成千成萬(wàn)倍的縮小，則更需要高導(dǎo)熱性能的小體積的材料。特別是在現(xiàn)代化的移動(dòng)通信及5G基站的發(fā)展，對(duì)電子產(chǎn)品及材料超高導(dǎo)熱及導(dǎo)電的要求日益加強(qiáng)。從而引發(fā)在上游中的一些產(chǎn)品供應(yīng)商不斷的開發(fā)及尋求新型材料來(lái)滿足客戶的需求。在電子輔材領(lǐng)域，對(duì)輔材的要求也變得相當(dāng)?shù)木?xì)化。在實(shí)際應(yīng)用中，石墨片是通過(guò)高溫?zé)芇I膜材料制成，因?yàn)镻I材料在碳化過(guò)程中，需要高溫?zé)啤Ｔ诟邷剡^(guò)程中，PI膜會(huì)有一定不規(guī)則的發(fā)泡，使得表面變粗糙化。為了達(dá)到使用的目的，需要對(duì)石墨片進(jìn)行壓光均厚的工藝處理，在此工藝處理中需要用到自帶粘力結(jié)構(gòu)的離型膜產(chǎn)品，因?yàn)楣に嚨男枰x型膜需要跟隨被承托物進(jìn)行有效的壓制，使人工燒制出來(lái)的石墨片表面變得更加平整光滑，厚薄均勻。然后離型膜跟隨石墨片進(jìn)入到客戶端，再根據(jù)不同客戶的需求切割成不同的形狀，在使用時(shí)，將離型膜與撕掉后就可以使用石墨片。

目前市場(chǎng)上應(yīng)用在石墨片上的離型膜與石墨片表面之間的粘結(jié)力或者較高或者較低，粘結(jié)力較大會(huì)導(dǎo)致將離型膜從石墨片上撕掉時(shí)，會(huì)導(dǎo)致石墨片破損，粘結(jié)力較小則會(huì)粘不住石墨片，會(huì)有掉粉現(xiàn)象，在客戶端的使用也會(huì)出現(xiàn)材料不統(tǒng)一等問(wèn)題，容易增加庫(kù)存，在使用起來(lái)后，容易造成石墨的殘留，剝離克重高；其次，目前市場(chǎng)上的離型膜與石墨片表面之間的親和力較差，導(dǎo)致一種厚度的離型膜只能適用于壓制一種厚度的石墨片，而且離型膜上離型層的厚度大都在2-3μm左右，成本較高。

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明目的：針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題，本發(fā)明提供一種石墨壓延用離型膜及其制備方法，該離型膜厚度較小，與石墨片的表面親和力較好，一種厚度的離型膜能夠壓制出不同厚度的石墨片，成本低廉，且該離型膜對(duì)石墨片具有適宜的微黏力，將其從石墨片上撕下來(lái)時(shí)不會(huì)損壞石墨片。

技術(shù)方案：本發(fā)明提供了一種石墨壓延用離型膜，包括基材層和基材層表面的離型層，所述離型層的涂布料液由以下重量份的組分配制而成：15～25份二甲基硅油、25～35份剝離力調(diào)節(jié)劑和8～12份甲基硅樹脂混合后，加入45～55份的有機(jī)溶劑充分?jǐn)嚢榉稚ⅲ詈蠹尤?～2份含氫硅油、3～4份附著助劑和2～2.5份鉑金催化助劑整體混合而成。

優(yōu)選地，所述有機(jī)溶劑為120溶劑油。

本發(fā)明還提供了一種石墨壓延用離型膜的制備方法，包括以下步驟：將所述的離型層的涂布料液通過(guò)網(wǎng)輥涂布到經(jīng)電暈處理、達(dá)因值大于42的基材層表面，所述離型層的涂布料液通過(guò)所述網(wǎng)輥的網(wǎng)格轉(zhuǎn)移到所述基材層的表面，從而形成具有網(wǎng)格的離型層；其中，在將所述網(wǎng)輥的網(wǎng)格轉(zhuǎn)移到所述基材層的表面時(shí)，刮刀的角度為40-43°，橡膠輥(6)的氣壓設(shè)置在3.0～4.0Pa；涂布量為0.6～0.8g/m²；在涂布時(shí)六節(jié)烘箱的烘烤溫度分別為：65～75℃、95～105℃、115～125℃、135～145℃、115～125℃、90～105℃，涂布時(shí)所述基材的傳輸速度為45～55m/min；總涂布的烘烤時(shí)長(zhǎng)為40～50s。

優(yōu)選地，所述基材的厚度為50um～100um。

優(yōu)選地，所述離型層的厚度小于1μm。

優(yōu)選地，所述網(wǎng)輥的網(wǎng)格尺寸為150目。