[發明專利]顯示基板、其制作方法及顯示裝置在審
| 申請號: | 202210190679.X | 申請日: | 2022-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN114566607A | 公開(公告)日: | 2022-05-31 |
| 發明(設計)人: | 霍堡壘;于池;王楊;高飛飛 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/56;H01L51/00;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京市立方律師事務所 11330 | 代理人: | 張筱寧;王存霞 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示基板,包括攝像區域和正常顯示區域,其特征在于,所述顯示基板包括:
襯底,包括刻蝕區,所述刻蝕區位于所述攝像區域,位于所述刻蝕區的所述襯底的厚度小于位于所述正常顯示區域的所述襯底的厚度;
陽極層,位于所述襯底的一側,包括多個陽極單元;
遮擋層,位于所述陽極層靠近所述襯底的一側,包括輪廓部和位于所述輪廓部內的多個遮擋單元;
所述刻蝕區的邊緣在特定平面的正投影位于所述輪廓部在所述特定平面上的正投影內,每個所述遮擋單元在特定平面的正投影與位于攝像區域的一個所述陽極單元在特定平面的正投影重合,所述特定平面與所述襯底所在平面平行。
2.根據權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,還包括:
陰極層,位于所述陽極層遠離所述襯底的一側,且位于所述攝像區域的陰極層包括多個陰極單元,每個所述陰極單元在所述特定平面上的正投影與一個所述陽極單元在所述特定平面上的正投影重合;
發光層,位于所述陽極層和所述陰極層之間;
透明導電層,位于所述陰極層遠離所述襯底的一側,至少位于攝像區域且與所述陰極層接觸。
3.根據權利要求2所述的顯示基板,其特征在于,所述襯底包括:
第一有機層;
第一無機層,位于所述第一有機層靠近所述陽極層的一側;
第二有機層,位于所述第一無機層靠近所述陽極層的一側;
第二無機層,位于所述第二有機層靠近所述陽極層的一側。
4.根據權利要求3所述的顯示基板,其特征在于,所述遮擋層為單層,位于所述攝像區域的每個所述陽極單元所述特定平面上的正投影位于一個所述遮擋單元在所述特定平面上的正投影內。
5.根據權利要求4所述的顯示基板,其特征在于,
所述遮擋層位于第一有機層與所述第一無機層之間;或者
所述遮擋層位于所述第一無機層與所述第二有機層之間;或者
所述遮擋層位于所述第二有機層和所述第二無機層之間。
6.根據權利要求3所述的顯示基板,其特征在于,所述遮擋層包括:
第一遮擋層,位于第一有機層與所述第二無機層之間,包括所述輪廓部和多個位于所述輪廓部內的第一遮擋單元;
第二遮擋層;位于所述襯底與所述陽極層之間,包括多個第二遮擋單元;
所述第一遮擋單元和所述第二遮擋單元在所述特定平面上的正投影的合集作為所述遮擋單元的正投影。
7.根據權利要求6所述的顯示基板,其特征在于,還包括:
位于所述襯底和所述陽極層之間和所述襯底之間的柵極層、有源層、源漏電極層、無機絕緣層和有機絕緣層,所述柵極層、所述源漏電極層、所述無機絕緣層或所述有機絕緣層復用為所述第二遮擋層。
8.根據權利要求1-7中任一項所述的顯示基板,其特征在于,所述刻蝕區的邊緣卷曲和/或所述刻蝕區的邊緣為鋸齒狀。
9.根據權利要求1-7中任一項所述的顯示基板,其特征在于,所述遮擋層的材料為激光吸收材料。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括:
權利要求1-9中任一項所述的顯示基板;
攝像頭,位于所述攝像區域且位于所述襯底遠離所述陽極層的一側。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





