[發(fā)明專(zhuān)利]一種基于離散多光譜的氣體濃度檢測(cè)裝備與方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210125728.1 | 申請(qǐng)日: | 2022-02-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN116625952A | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-08-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 武國(guó)正;唐古拉;李治文;裴悅;楊杰 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 國(guó)科創(chuàng)(北京)信息技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/25 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/25;G01N21/27 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 100070 北京市豐*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 離散 光譜 氣體 濃度 檢測(cè) 裝備 方法 | ||
本發(fā)明提供一種基于離散多光譜的氣體濃度的檢測(cè)裝備及相應(yīng)的檢測(cè)方法,所述檢測(cè)裝備包括檢測(cè)端與反射端,所述檢測(cè)端包括氣體檢測(cè)腔室,該氣體檢測(cè)腔室包括至少兩個(gè)檢測(cè)氣體進(jìn)氣口和至少一個(gè)常規(guī)進(jìn)氣口、至少一個(gè)常規(guī)出氣口,所述氣體檢測(cè)腔室頂部中間區(qū)域設(shè)置光學(xué)檢測(cè)探頭,與光學(xué)檢測(cè)探頭相對(duì)應(yīng)布局光學(xué)檢測(cè)背景底板;氣體檢測(cè)腔室設(shè)置在支撐底座上部,氣體檢測(cè)腔室的端面布局氣體進(jìn)氣口,光學(xué)檢測(cè)探頭的兩端布局常規(guī)進(jìn)氣口和常規(guī)出氣口。所述檢測(cè)設(shè)備經(jīng)過(guò)預(yù)處理及平均后,獲得氣體中相關(guān)參數(shù)的光強(qiáng)數(shù)據(jù),與背景光強(qiáng)數(shù)據(jù)進(jìn)行共同分析后,得出具體濃度值。本發(fā)明所述裝備和方法可大大減少設(shè)備的開(kāi)發(fā)難度和消除相關(guān)冗余信息,為檢測(cè)裝備小型化和便攜化。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種氣體濃度檢測(cè)裝備與方法,屬于環(huán)保檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
在氣體濃度檢測(cè)領(lǐng)域,多采用非分散紅外法、紫外差分吸收光譜法、可調(diào)諧半導(dǎo)體激光法,這幾種方法不僅成本高,且都需要復(fù)雜的光路和控制系統(tǒng),不利于技術(shù)的推廣與應(yīng)用。有研究表明,氣體中中的NO、CH、CO、CO2等多集中在紫外光譜波段(200-400nm),紅外光譜段(3000nm-5000nm)等,利用這幾種氣體的特征吸收波長(zhǎng)搭建檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)而實(shí)現(xiàn)氣體濃度的檢測(cè),可大大減少設(shè)備的開(kāi)發(fā)難度和消除相關(guān)冗余信息,為檢測(cè)裝備小型化和便攜化提供基礎(chǔ)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明以氣體中中的NO、CH、CO、CO2等為檢測(cè)目標(biāo),提出一種基于離散多光譜的氣體濃度檢測(cè)裝備與方法。
本發(fā)明第一方面提供一種基于離散多光譜的氣體濃度檢測(cè)裝備,包括檢測(cè)端與反射端,檢測(cè)端包括氣體檢測(cè)腔室,該氣體檢測(cè)腔室包括至少兩個(gè)檢測(cè)氣體進(jìn)氣口和至少一個(gè)常規(guī)進(jìn)氣口、至少一個(gè)常規(guī)出氣口,所述氣體檢測(cè)腔室頂部中間區(qū)域設(shè)置光學(xué)檢測(cè)探頭。
所述氣體檢測(cè)腔室設(shè)置在支撐底座上部,氣體檢測(cè)腔室的端面布局氣體進(jìn)氣口,光學(xué)檢測(cè)探頭的兩端布局常規(guī)進(jìn)氣口和常規(guī)出氣口。
優(yōu)選地,氣體檢測(cè)腔室的一個(gè)端面中心布局激光光源、另一個(gè)端面開(kāi)對(duì)應(yīng)的光學(xué)出射口,在激光光源下端布局光電檢測(cè)器,用于接收與檢測(cè)激光光源經(jīng)反射端反射的光信號(hào)。
優(yōu)選地,所述氣體檢測(cè)腔室還設(shè)置光學(xué)檢測(cè)背景底板,光學(xué)檢測(cè)背景底板與光學(xué)檢測(cè)探頭相對(duì)應(yīng);
優(yōu)選地,光學(xué)檢測(cè)探頭中間布局光電檢測(cè)器,用于采集經(jīng)過(guò)氣體后的光學(xué)信號(hào);
優(yōu)選地,光電檢測(cè)器周?chē)季止庠茨K;
反射端包括反射端腔室、反射端固定柱、激光光線通過(guò)孔;
優(yōu)選地,反射端腔室一端面中心布局激光光線通過(guò)孔,反射腔底部布局反射端固定底座;
優(yōu)選地,反射腔腔室的另一個(gè)端面布局反射鏡,反射鏡底部布局反射鏡安裝底座;
優(yōu)選地,在檢測(cè)端的光學(xué)檢測(cè)探頭中,為了盡量大范圍地采集檢測(cè)腔室內(nèi)的氣體光學(xué)信號(hào),選擇與所檢測(cè)的氣體濃度中參數(shù)相關(guān)的幾個(gè)特征波長(zhǎng)LED光源,結(jié)合鏡頭尺寸、物距大小、及檢測(cè)腔內(nèi)的氣體截面尺寸大小,共同設(shè)計(jì)適合腔室內(nèi)均勻采集氣體的光學(xué)檢測(cè)探頭。
優(yōu)選地,離散的LED光源與氣體中的某種或幾種氣體的特征吸收波長(zhǎng)相對(duì)應(yīng),檢測(cè)器的主要作用是收集從光學(xué)經(jīng)過(guò)氣體樣品后從背景反射出來(lái)的漫反射光,并匯聚到光強(qiáng)檢測(cè)芯片上。
優(yōu)選地,在光學(xué)檢測(cè)探頭內(nèi)部設(shè)置的光源模塊依次點(diǎn)亮照射氣體檢測(cè)樣品,光源模塊所發(fā)出的光照射氣體樣品后,到達(dá)所述光學(xué)檢測(cè)背景底板,再經(jīng)所述光學(xué)檢測(cè)背景底板反射到檢測(cè)器,所獲得的光強(qiáng)數(shù)據(jù)經(jīng)過(guò)光電檢測(cè)器轉(zhuǎn)換后,用于后期分析。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





