[發(fā)明專利]一種底部抗反射涂料組合物及其制備方法和微電子結(jié)構(gòu)的形成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210102218.2
• 申請日: 2022-01-27
• 公開（公告）號: CN114517023B
• 公開（公告）日: 2022-12-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 毛鴻超;李禾禾;王靜;肖楠;宋里千
• 申請（專利權(quán)）人: 福建泓光半導(dǎo)體材料有限公司
• 主分類號: C09D5/00
• 分類號: C09D5/00;C09D4/00;C09D7/63;G03F7/004;G03F7/09
• 代理公司: 廈門荔信律和知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35282
• 代理人: 賴秀華

1.一種底部抗反射涂層組合物，其特征在于，所述底部抗反射涂層組合物中含有改性剛性有機籠狀化合物和乙烯基醚類化合物以及有機溶劑，所述改性剛性有機籠狀化合物為將剛性有機籠狀化合物中的部分酚羥基修飾轉(zhuǎn)化為修飾基團所得的化合物，所述修飾基團的通式為-O-R₁，R₁為生色基團、酸不穩(wěn)定基團、酸性基團或非功能性基團；所述剛性有機籠狀化合物為由戊二醛和間苯二酚通過動態(tài)共價化學(xué)法制備得到的含有24個酚羥基、分子側(cè)面含有6個孔洞、具有疏水中空結(jié)構(gòu)且整個分子呈現(xiàn)籠狀結(jié)構(gòu)的化合物；所述乙烯基醚類化合物具有兩個以上乙烯基醚端基；

所述底部抗反射涂層組合物中還含有光酸產(chǎn)生劑、淬滅劑、表面活性劑和其他添加劑中的至少一種；

以所述底部抗反射涂層組合物的總重量為100wt％計，所述改性剛性有機籠狀化合物的含量為0.2～10wt％，所述乙烯基醚類化合物的含量為0.1～10wt％，所述光酸產(chǎn)生劑的含量為0.005～0.1wt％，所述淬滅劑的含量為0.001～0.05wt％，所述表面活性劑的含量為0.01～0.5wt％，所述其他添加劑的含量為0～1wt％，所述有機溶劑的含量為90～99wt％，各組分的總含量為100％。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的底部抗反射涂層組合物，其特征在于，所述剛性有機籠狀化合物按照以下方法制備得到：在非氧化型酸的存在下且在惰性氣體保護下，將間苯二酚與戊二醛按照摩爾比(4～6):1在醇類溶劑中于70～80℃下縮合反應(yīng)40～60h，反應(yīng)完畢后，將所得縮合反應(yīng)溶液進行醇沉析晶，過濾，所得固體產(chǎn)物經(jīng)醚洗后干燥，得到剛性有機籠狀化合物。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的底部抗反射涂層組合物，其特征在于，所述非氧化型酸選自濃鹽酸、對甲基苯磺酸和三氟乙酸中的至少一種。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的底部抗反射涂層組合物，其特征在于，所述醇類溶劑選自乙醇、異丙醇和丁醇中的至少一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的底部抗反射涂層組合物，其特征在于，所述醇沉析晶所采用的溶劑為甲醇。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的底部抗反射涂層組合物，其特征在于，所述醚為乙醚。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的底部抗反射涂層組合物，其特征在于，所述改性剛性有機籠狀化合物為將剛性有機籠狀化合物中的2～22個酚羥基修飾轉(zhuǎn)化為修飾基團所得的化合物。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7任意一項所述的底部抗反射涂層組合物，其特征在于，所述生色基團由式(1)所示的結(jié)構(gòu)表示；所述酸不穩(wěn)定基團由式(2)～(4)所示的結(jié)構(gòu)表示；所述酸性基團為羧基、酚羥基或氟化醇基；所述非功能性基團為C₁～C₁₀的烷基或C₃～C₁₀的環(huán)烷基；

R₂為-(CH₂)_n1-O-或-(CH₂)_n2-，n₁為1～6，n₂為0～6；R₃為-(CH₂)_n3-O-、-O-(CH₂)_n4-或-(CH₂)_n5-，n₃和n₄各自獨立地為1～6，n₅為0～6；R₄為任選經(jīng)取代的C₆～C₂₀芳基。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的底部抗反射涂層組合物，其特征在于，以所述修飾基團的總含量為基準，含生色基團的修飾基團占0～50％，含酸不穩(wěn)定基團的修飾羥基占0～40％，含酸性基團的修飾羥基占0～20％，含非功能性基團的修飾羥基占0～40％。