[發(fā)明專利]蓋板組件及其制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210027947.6 | 申請日: | 2022-01-11 |
| 公開(公告)號: | CN114360383A | 公開(公告)日: | 2022-04-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 許峰 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G09F9/30 | 分類號: | G09F9/30;G09F9/33;H01L27/32 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 王紅紅 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術(shù)*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蓋板 組件 及其 制作方法 | ||
1.一種蓋板組件,其特征在于,包括:
蓋板基材;
位于所述蓋板基材上的硬化涂層,所述硬化涂層包括第一膜層和位于所述第一膜層上的第二膜層,所述第一膜層的折射率與所述蓋板基材的折射率的差值在預(yù)設(shè)范圍內(nèi);
其中,所述第二膜層中具有多個(gè)開口,在遠(yuǎn)離所述蓋板基材的方向上所述開口在第一方向的尺寸逐漸增大,以使所述第二膜層沿遠(yuǎn)離所述蓋板基材的方向上的折射率逐漸減小,所述第一方向?yàn)榕c所述蓋板基材的主平面平行的方向。
2.如權(quán)利要求1所述的蓋板組件,其特征在于,所述蓋板基材與所述第一膜層的折射率范圍為1.4-1.6。
3.如權(quán)利要求1所述的蓋板組件,其特征在于,所述開口在垂直于所述蓋板基材的主表面的平面上的截面形狀包括圓形、三角形、橢圓形或方形中的任意一種或多種。
4.如權(quán)利要求1所述的蓋板組件,其特征在于,所述開口在所述第一方向上的尺寸不大于1um。
5.如權(quán)利要求1所述的蓋板組件,其特征在于,相鄰的所述多個(gè)開口的中心軸之間的間距不大于1.2um。
6.一種蓋板組件的制作方法,其特征在于,包括:
形成蓋板基材;
在所述蓋板基材上形成硬化涂層,所述硬化涂層包括第一膜層和位于所述第一膜層上的第二膜層,所述蓋板基材的折射率與所述第一膜層的折射率的差值在預(yù)設(shè)范圍內(nèi);
對所述硬化涂層進(jìn)行第一固化處理,以使所述硬化涂層初步固化;
在所述第二膜層中形成多個(gè)開口;
對所述硬化涂層進(jìn)行第二固化處理,以使所述硬化涂層終固化;
其中,在遠(yuǎn)離所述蓋板基材的方向上所述開口在第一方向的尺寸逐漸增大,以使所述第二膜層沿遠(yuǎn)離所述蓋板基材的方向上的折射率逐漸減小,所述第一方向?yàn)榕c所述蓋板基材的主平面平行的方向。
7.如權(quán)利要求6所述的蓋板組件的制作方法,其特征在于,所述在所述硬化涂層中形成多個(gè)開口,具體包括:
對所述硬化涂層進(jìn)行滾壓處理,以在所述硬化涂層中形成多個(gè)開口。
8.如權(quán)利要求6所述的蓋板組件的制作方法,其特征在于,所述第一固化處理包括熱處理或UV固化處理,所述初步固化的步驟包括以使所述硬化涂層的粘度大于20000CPS。
9.如權(quán)利要求6所述的蓋板組件的制作方法,其特征在于,所述第二固化處理包括熱處理或UV固化處理,所述終固化的步驟包括以使所述硬化涂層的固化率大于95%。
10.如權(quán)利要求6所述的蓋板組件的制作方法,其特征在于,所述硬化涂層的材料包括亞克力或硅氧烷。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司,未經(jīng)武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210027947.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





