[發(fā)明專利]一種光學(xué)膜及其制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210012356.1
• 申請(qǐng)日: 2022-01-07
• 公開（公告）號(hào): CN114076996A
• 公開（公告）日: 2022-02-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張永漢;董紅星;樊燕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 寧波惠之星新材料科技有限公司
• 主分類號(hào): G02B1/10
• 分類號(hào): G02B1/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光學(xué)膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

將高折射率涂液涂布于透明基膜的一表面保持常溫0.5~1.5 min，然后在第一溫度下干燥0.5~1min，再在第二溫度下干燥1~2.5 min，后進(jìn)行紫外照射得到高折射率層；其中，所述高折射率涂液中的溶劑包括能夠侵蝕所述透明基膜的第一溶劑，所述第一溶劑占總?cè)軇┑馁|(zhì)量百分?jǐn)?shù)為40 %及以上；第一溫度小于第二溫度，且第一溫度小于溶劑的沸點(diǎn)；

最后在所述高折射率層的表面形成低折射率層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述透明基膜為TAC透明基膜，所述第一溶劑為丁酮、環(huán)己酮、環(huán)戊酮、乙酸乙酯和甲基環(huán)己酮中的至少一種；

或，所述透明基膜為PMMA透明基膜，所述第一溶劑為苯、甲苯和丙酮中的至少一種；

或，所述透明基膜為CPI透明基膜，所述第一溶劑為N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺和N-甲基吡咯烷酮中的至少一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述高折射率涂液的固含量為15~25%，所述高折射率涂液的涂覆量為20~42 g/m²。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述低折射率層的制備方法包括：

將低折射率涂液涂布于所述高折射率層的表面，然后在70~100℃條件下干燥1~3 min，再在氧氣濃度小于500 ppm、光劑量在300~500 mj/cm²的條件下紫外照射，得到低折射率層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述高折射率層與所述透明基膜的折射率差的絕對(duì)值在0.03~0.12范圍內(nèi)，所述高折射率層比所述低折射率層的折射率大0.12~0.25；

所述高折射率涂液中含有折射率調(diào)整液；其中，所述折射率調(diào)整液包括氧化鈦分散液和氧化鋯分散液中的至少一種。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述低折射率涂液的固含量為2~3 %，所述低折射率涂液的涂覆量為3~10 g/m²。

7.根據(jù)權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述高折射率涂液中含有低聚物，所述高折射率涂液中的溶劑還包括能夠溶解所述低聚物的第二溶劑，所述第一溶劑占總?cè)軇┑馁|(zhì)量百分?jǐn)?shù)為40~70 %。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，如果所述第一溶劑包括低沸點(diǎn)溶劑，則所述第二溶劑包括高沸點(diǎn)溶劑；

如果所述第一溶劑包括高沸點(diǎn)溶劑，則所述第二溶劑包括低沸點(diǎn)溶劑。

9.一種光學(xué)膜，其特征在于，由權(quán)利要求1~8任一項(xiàng)所述的制備方法制備得到。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)膜，其特征在于，所述光學(xué)膜的透明基膜的厚度為25~250 μm；高折射率層的厚度為3~5m，低折射率層的厚度為0.09~0.11 m。