[發(fā)明專(zhuān)利]聚合性化合物、活性能量射線(xiàn)固化性樹(shù)脂組合物、固化物、抗蝕劑用組合物和抗蝕膜在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202180084130.6 | 申請(qǐng)日: | 2021-11-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN116670184A | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-08-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 今田知之;長(zhǎng)江教夫 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | DIC株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C08F12/34 | 分類(lèi)號(hào): | C08F12/34 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李恩華 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 聚合 化合物 活性 能量 射線(xiàn) 固化 樹(shù)脂 組合 抗蝕劑用 抗蝕膜 | ||
提供:對(duì)微細(xì)空間的浸潤(rùn)性?xún)?yōu)異、且光學(xué)特性、耐蝕刻性、固化性、溶劑溶解性等也優(yōu)異,從而可以用于經(jīng)超微細(xì)化的布線(xiàn)圖案形成的聚合性化合物。具體而言為下述通式(1)所示的聚合性化合物。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及聚合性化合物、活性能量射線(xiàn)固化性樹(shù)脂組合物、固化物、抗蝕劑用組合物和抗蝕膜。
背景技術(shù)
近年來(lái),隨著LSI的高集成化和高速度化,要求其圖案加工越來(lái)越微細(xì)化,在使用了ArF準(zhǔn)分子激光(193nm)的光刻法中,通過(guò)工藝材料的光學(xué)特性的利用、工藝設(shè)備的改良而超越了源自光源波長(zhǎng)的本質(zhì)的分辨率限度。
光致抗蝕劑的領(lǐng)域中,開(kāi)發(fā)出了多種用于形成更微細(xì)的布線(xiàn)圖案的方法,其中之一有多層抗蝕法。多層抗蝕法中,在基板上形成1層或多層的被稱(chēng)為抗蝕劑下層膜、防反射膜等的層后,在其上形成基于通常的光刻法的抗蝕圖案,然后,通過(guò)干式蝕刻將布線(xiàn)圖案加工轉(zhuǎn)印至基板。多層抗蝕法的技術(shù)中重要的構(gòu)件之一為前述抗蝕劑下層膜,對(duì)于該下層膜要求干式耐蝕刻性高、光反射性低等。另外,抗蝕劑下層膜以溶劑稀釋的狀態(tài)被制膜,因此,抗蝕劑下層膜用的樹(shù)脂材料需要可溶于通用有機(jī)溶劑。
另外,近年來(lái)的經(jīng)超微細(xì)化的布線(xiàn)圖案形成大多使用重復(fù)被稱(chēng)為雙重圖案化、多重圖案化的多次曝光和蝕刻的工序,對(duì)于該下層膜,在將前工序中制作的微細(xì)的圖案填孔了的基礎(chǔ)上,還承擔(dān)形成平滑的下一工序制作面的重要的作用。因此,基底材料中使用的抗蝕劑下層膜材料還要求對(duì)微細(xì)空間的高的浸潤(rùn)性。
另外,作為以往的抗蝕劑下層膜用的含酚羥基的化合物,已知有含蒽骨架的化合物(專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專(zhuān)利文獻(xiàn)
專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2010-285403號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問(wèn)題
前述專(zhuān)利文獻(xiàn)1中記載的含蒽骨架的化合物在固化涂膜中的光反射率低,作為防反射膜的特性?xún)?yōu)異,但由于分子尺寸和寬的芳香族電子云所產(chǎn)生的π-π相互作用而對(duì)微細(xì)空間的浸潤(rùn)性低。
本發(fā)明的課題在于,提供:對(duì)微細(xì)空間的浸潤(rùn)性?xún)?yōu)異、且光學(xué)特性、耐蝕刻性、固化性、溶劑溶解性等也優(yōu)異從而可以用于經(jīng)超微細(xì)化的布線(xiàn)圖案形成的聚合性化合物。
另外,本發(fā)明的課題在于,提供:可以用于經(jīng)超微細(xì)化的布線(xiàn)圖案形成的活性能量射線(xiàn)固化性樹(shù)脂組合物。
另外,本發(fā)明的課題在于,提供:可以形成經(jīng)超微細(xì)化的布線(xiàn)圖案的抗蝕劑用組合物。
用于解決問(wèn)題的方案
本發(fā)明為下述通式(1)所示的聚合性化合物。
[上述通式(1)中,X表示具有芳香環(huán)結(jié)構(gòu)和聚合性不飽和基團(tuán)的結(jié)構(gòu)部位。另外,上述通式(1)中的3個(gè)X任選分別為相同結(jié)構(gòu)或不同結(jié)構(gòu)。]
另外,本發(fā)明為一種聚合性化合物,其將三羥基苯與環(huán)氧鹵丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物(A)和含聚合性不飽和基團(tuán)的芳香族化合物(B)作為反應(yīng)原料。
另外,本發(fā)明為一種聚合性化合物,其將三羥基苯與環(huán)氧鹵丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物(A)、含聚合性不飽和基團(tuán)的非芳香族化合物(C)、和連接前述反應(yīng)產(chǎn)物(A)與前述含聚合性不飽和基團(tuán)的非芳香族化合物(C)的芳香族化合物(D)作為反應(yīng)原料。
另外,本發(fā)明為一種活性能量射線(xiàn)固化性樹(shù)脂組合物,其含有:前述聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑、和有機(jī)溶劑。
另外,本發(fā)明為一種抗蝕劑用組合物,其含有前述聚合性化合物。
發(fā)明的效果
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C08F12-02 .僅含1個(gè)不飽和脂族基的單體
C08F12-34 .含兩個(gè)或更多個(gè)不飽和脂族基的單體
C08F12-36 ..二乙烯苯
C08F12-04 ..含1個(gè)環(huán)
C08F12-32 ..含兩個(gè)或更多的環(huán)





