[發(fā)明專利]仿真輔助的量測圖像對準(zhǔn)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202180077526.8
• 申請日: 2021-10-19
• 公開（公告）號: CN116529764A
• 公開（公告）日: 2023-08-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王德勝
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 畢楊

1.一種具有指令的非暫時性計算機可讀介質(zhì)，所述指令在由計算機執(zhí)行時使所述計算機執(zhí)行用于將印刷于襯底上的圖案的經(jīng)測量圖像與設(shè)計布局對準(zhǔn)的方法，所述方法包括：

獲得待印刷于襯底上的圖案的設(shè)計布局和印刷于所述襯底上的所述圖案的經(jīng)測量圖像；

執(zhí)行仿真過程，以針對圖案形成過程的多個過程條件產(chǎn)生所述設(shè)計布局的仿真輪廓；

基于所述仿真輪廓識別一組不利位置；以及

使用除了所述一組不利位置之外的位置來執(zhí)行圖像對準(zhǔn)過程，以將所述經(jīng)測量圖像與所述仿真輪廓的經(jīng)選擇輪廓對準(zhǔn)。

2.如權(quán)利要求1所述的非暫時性計算機可讀介質(zhì)，還包括：

基于所述圖像對準(zhǔn)過程確定與所述經(jīng)測量圖像相關(guān)聯(lián)的參數(shù)，以及

基于所述參數(shù)調(diào)整所述設(shè)計布局、具有所述設(shè)計布局的圖案形成裝置、或所述圖案形成過程中的至少一項。

3.如權(quán)利要求1所述的非暫時性計算機可讀介質(zhì)，其中，執(zhí)行所述仿真過程包括：

針對不同的過程條件產(chǎn)生所述仿真輪廓中的每一個。

4.如權(quán)利要求3所述的非暫時性計算機可讀介質(zhì)，其中，所述過程條件中的每一個包括用于將所述圖案印刷于所述襯底上的設(shè)備的透鏡效應(yīng)和所述襯底上的抗蝕劑的抗蝕劑效應(yīng)中的一項或更多項。

5.如權(quán)利要求1所述的非暫時性計算機可讀介質(zhì)，其中，執(zhí)行所述仿真過程包括：

通過對所述設(shè)計布局執(zhí)行最優(yōu)接近校正過程來獲得掩模設(shè)計布局，以及

基于所述設(shè)計布局和所述掩模設(shè)計布局產(chǎn)生所述仿真輪廓。

6.如權(quán)利要求1所述的非暫時性計算機可讀介質(zhì)，其中，所述經(jīng)選擇輪廓對應(yīng)于標(biāo)稱過程條件。

7.如權(quán)利要求1所述的非暫時性計算機可讀介質(zhì)，其中，識別所述一組不利位置包括：

基于以下各項將所述仿真輪廓上的位置識別為不利位置：(a)所述仿真輪廓上的所述位置與所述經(jīng)測量圖像的輪廓上的對應(yīng)位置之間的偏差超過第一閾值；(b)在所述仿真輪廓上的所述位置處的過程條件變化超過第二閾值；(c)確定所述仿真輪廓在所述仿真輪廓上的所述位置處是不對稱的；或(d)確定所述仿真輪廓中的一個或更多個在所述仿真輪廓上的所述位置處是斷開的。

8.如權(quán)利要求1所述的非暫時性計算機可讀介質(zhì)，其中，所述方法還包括：

基于以下各項識別所述仿真輪廓上的一組有利位置：(a)所述仿真輪廓上的位置與所述經(jīng)測量圖像的輪廓上的對應(yīng)位置之間的偏差滿足第三閾值；(b)在所述仿真輪廓上的所述位置處的過程條件變化滿足第四閾值；或(c)確定所述仿真輪廓在所述仿真輪廓上的所述位置處是對稱的，并且

其中，執(zhí)行所述圖像對準(zhǔn)過程包括：在所述仿真輪廓上的多個位置處，在所述經(jīng)測量圖像與所述經(jīng)選擇輪廓之間執(zhí)行所述圖像對準(zhǔn)過程，其中，所述多個位置包括所述一組有利位置。

9.如權(quán)利要求8所述的非暫時性計算機可讀介質(zhì)，其中，執(zhí)行所述圖像對準(zhǔn)過程包括：

將所述一組不利位置從用于所述圖像對準(zhǔn)過程的所述多個位置中排除。

10.如權(quán)利要求1所述的非暫時性計算機可讀介質(zhì)，還包括：

執(zhí)行測量以獲得所述經(jīng)選擇輪廓與所述經(jīng)測量圖像的輪廓之間的在一組有利位置處的偏差，以及

在所述一組有利位置處，調(diào)整所述經(jīng)選擇輪廓以減小所述偏差，其中，所述調(diào)整產(chǎn)生經(jīng)調(diào)整的經(jīng)選擇輪廓。

11.如權(quán)利要求10所述的非暫時性計算機可讀介質(zhì)，還包括：

在所述一組有利位置處，在所述經(jīng)測量圖像與所述經(jīng)調(diào)整的經(jīng)選擇輪廓之間執(zhí)行所述圖像對準(zhǔn)過程。

12.如權(quán)利要求10所述的非暫時性計算機可讀介質(zhì)，還包括：

執(zhí)行仿真過程，以從所述經(jīng)調(diào)整的經(jīng)選擇輪廓產(chǎn)生預(yù)測的經(jīng)測量圖像，以及

在所述一組有利位置處，在所述經(jīng)測量圖像與所述預(yù)測的經(jīng)測量圖像之間執(zhí)行所述圖像對準(zhǔn)過程。