[發明專利]光學組件、控制光學組件的方法以及投射曝光設備

在審

• 申請號: 202180051929.5
• 申請日: 2021-08-02
• 公開（公告）號: CN116209939A
• 公開（公告）日: 2023-06-02
• 發明（設計）人: M·拉布;A·拉巴;J·利珀特;M·曼格
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G02B26/06
• 分類號: G02B26/06
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

1.一種用于半導體光刻的光學組件(20)，包括

光學元件(21)，以及

致動器(26.4)，用于使所述光學元件(21)變形，其中，

所述致動器(26.4)由至少三個截面段(27)構成，并且

具有在不同情況下借助于控制器可控制的至少第一組(31)和第二組(32)的截面段(27)，

其中，所述第一組(31)用于粗略致動，所述第二組(32)用于精細致動，

其中，所述控制器(29)被配置成彼此獨立地控制所述組(31、32)以及共同地控制組(31、32)中的截面段(27)，

其中，所述控制器還被配置成可變地設置每組(31、32)中共同控制的截面段(27)的數量。

2.如權利要求1所述的光學組件(20)，其中，

至少兩個截面段(27)連接至電極(33.1、33.2)，以使得能夠在所述至少兩個截面段(27)中的每一個中產生單獨的電場。

3.如前述權利要求中任一項所述的光學組件(20)，其中，

所述致動器(26.4)被配置成借助于所述致動器(26.4)的橫向收縮使所述光學元件(21)變形。

4.如權利要求1或2所述的光學組件(20)，其中，

所述致動器(26.4)被配置成基于所述致動器(26.4)的縱向膨脹使所述光學元件(21)變形。

5.一種投射曝光設備(1、101)，包括如前述權利要求中任一項所述的光學組件(20)。

6.一種用于控制投射曝光設備(1、101)中的光學組件(20)的方法，其中，所述光學組件包括光學元件(21)和用于使所述光學元件(21)變形的致動器(26.4)，其中所述致動器(26.4)包括在不同情況下借助于控制器可控制的第一組(31)和第二組(32)的截面段(27)，

所述方法包括以下方法步驟:

將所述第二組(32)致動至中間位置，

確定所述光學元件(21)的光學有效表面(23)在特定測量時間與目標值的偏差，

控制所述致動器的所述第一組(31)，以便校正先前確定的偏差，

控制所述第二組(32)，以便校正在所述測量時間之后出現的偏差，而不控制所述第一組(31)。

7.如權利要求6所述的方法，其中，

兩個組(31、32)中的至少一組的截面段(27)的數量是可變的。

8.如權利要求7所述的方法，其中，

所述第一組(31)和所述第二組(32)中的截面段(27)的數量是可變的。

9.如權利要求6至8中任一項所述的方法，其中，

通過沒有反饋變量的控制來控制所述第二組(32)。

10.如權利要求6至9中任一項所述的方法，其中，

所述致動器(26.4)實施為壓電致動器或電致伸縮致動器。