[發明專利]涂敷裝置、薄膜的制造系統和薄膜的制造方法在審
| 申請號: | 202180010267.7 | 申請日: | 2021-02-03 |
| 公開(公告)號: | CN115003420A | 公開(公告)日: | 2022-09-02 |
| 發明(設計)人: | 大前通宏;山下裕司;村上正洋 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | B05C1/08 | 分類號: | B05C1/08;B29C48/07 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 薄膜 制造 系統 方法 | ||
棒涂機(3)具備棒(11)和鼓風機(13)。棒(11)對基材(S)涂布涂敷液。棒(11)沿與基材(S)的移動方向(MD)正交的軸向延伸。在棒(11)的移動方向(MD)上的上游側,在棒(11)與基材(S)之間形成有積存有涂敷液的液體積存部(L)。鼓風機(13)對基材(S)中的與液體積存部(L)接觸的接觸部分(P)進行按壓。
技術領域
本發明涉及涂敷裝置、薄膜的制造系統和薄膜的制造方法。
背景技術
以往,作為向樹脂基材的表面涂布涂敷液的涂敷裝置,公知有棒涂機(例如,參照專利文獻1。)。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2019-115878號公報
發明內容
發明要解決的問題
在上述專利文獻1所記載那樣的涂敷裝置中,存在含有氣泡的涂敷液被涂布于基材的情況。
本發明提供能夠對含有氣泡的涂敷液被涂布于基材進行抑制的涂敷裝置、薄膜的制造系統和薄膜的制造方法。
用于解決問題的方案
本發明[1]包含一種涂敷裝置,其中,該涂敷裝置具備:涂敷構件,其用于對基材涂布涂敷液,該涂敷構件沿與所述基材的移動方向正交的軸向延伸,在所述涂敷構件的所述移動方向上的上游側,在該涂敷構件與所述基材之間形成有積存有所述涂敷液的液體積存部;以及按壓裝置,其對所述基材中的與所述液體積存部接觸的接觸部分進行按壓。
根據這樣的結構,在液體積存部內包含有氣泡的情況下,通過按壓裝置按壓接觸部分,能夠自液體積存部擠出氣泡。
由此,能夠抑制含有氣泡的涂敷液被涂布于基材。
本發明[2]包含上述[1]的涂敷裝置,其中,所述按壓裝置通過使氣流作用于所述接觸部分來按壓所述接觸部分。
根據這樣的結構,按壓裝置能夠在不與接觸部分接觸的情況下按壓接觸部分。
由此,能夠抑制基材與按壓構件摩擦,能夠減少因基材受到損傷而導致的外觀不良。
本發明[3]包含上述[2]的涂敷裝置,其中,所述按壓裝置具有向所述接觸部分吹出所述氣流的噴嘴。
本發明[4]包含上述[3]的涂敷裝置,其中,所述噴嘴能夠沿所述軸向移動。
根據這樣的結構,通過在噴嘴吹出氣流的狀態下使噴嘴沿軸向移動,能夠將液體積存部中的氣泡沿軸向擠出。
本發明[5]包含上述[1]~[4]中任一項所述的涂敷裝置,其中,所述涂敷構件是棒。
本發明[6]包含一種薄膜的制造系統,其中,該薄膜的制造系統具備:擠出成型機,其擠出成型基材;涂敷裝置,其是上述[1]~[5]中任一項所述的涂敷裝置,該涂敷裝置對所述基材涂布涂敷液;以及拉伸裝置,其對涂布有所述涂敷液的所述基材進行拉伸。
根據這樣的結構,由于具備上述涂敷裝置,因此能夠抑制含有氣泡的涂敷液被涂布于基材。
其結果,能夠提高薄膜的成品率。
本發明[7]包含一種薄膜的制造方法,其中,該薄膜的制造方法包含:擠出成型工序,在該擠出成型工序中,擠出成型基材;涂布工序,在該涂布工序中,利用上述[1]~[5]中任一項所述的涂敷裝置向通過所述擠出成型工序擠出成型的所述基材涂布所述涂敷液;以及拉伸工序,在該拉伸工序中,對通過所述涂布工序涂布有所述涂敷液的所述基材進行拉伸。
根據這樣的方法,由于能夠利用上述涂敷裝置對基材涂布涂敷液,因此能夠抑制含有氣泡的涂敷液被涂布于基材。
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