[實用新型]一種磁控濺射設(shè)備腔體密封裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202120805907.0
• 申請日: 2021-04-20
• 公開（公告）號: CN214782107U
• 公開（公告）日: 2021-11-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊武
• 申請（專利權(quán)）人: 楊武
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 無錫蘇元專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32471
• 代理人: 張姝

1.一種磁控濺射設(shè)備腔體密封裝置，包括第一密封框(1)、第二密封框(4)和腔體本體(3)，其特征在于：所述第一密封框(1)上端面的左右兩側(cè)均固定安裝有密封板(101)，所述第一密封框(1)上端面的前后兩端面均固定安裝有第一磁吸邊(102)，所述第一密封框(1)內(nèi)部的底端面開設(shè)有“回”型的凹槽(2)，所述凹槽(2)的內(nèi)部安裝有氣囊(201)，所述腔體本體(3)位于第一密封框(1)和第二密封框(4)之間，所述第二密封框(4)的底端面的左右兩端均開設(shè)有密封卡槽(401)，所述第二密封框(4)內(nèi)部的左側(cè)壁貫穿且固定安裝有第一真空管(402)，所述第二密封框(4)內(nèi)部的后端面固定安裝有真空倉(6)，所述真空倉(6)內(nèi)部的左側(cè)壁貫穿且固定安裝有第二真空管(601)，所述第二真空管(601)遠離真空倉(6)的一端貫穿第二密封框(4)并延伸至第二密封框(4)的外部。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射設(shè)備腔體密封裝置，其特征在于：兩個所述密封板(101)分別與兩個密封卡槽(401)的位置相對，兩個所述密封卡槽(401)的內(nèi)部均固定安裝有呈“U”型狀的密封橡膠墊(4011)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射設(shè)備腔體密封裝置，其特征在于：所述第二密封框(4)底端面的前后兩端均固定安裝有第二磁吸邊(5)，兩個所述第一磁吸邊(102)分別與兩個第二磁吸邊(5)的位置相對。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射設(shè)備腔體密封裝置，其特征在于：所述氣囊(201)外側(cè)壁的頂端連通有通氣管(202)，所述通氣管(202)的另一端貫穿第一密封框(1)的后端面并延伸至第一密封框(1)的后方，所述通氣管(202)的外側(cè)壁安裝有氣閥(203)，所述氣閥(203)位于第一密封框(1)的后方。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射設(shè)備腔體密封裝置，其特征在于：所述真空倉(6)的底端面與凹槽(2)的位置均相對。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射設(shè)備腔體密封裝置，其特征在于：所述真空倉(6)的寬度和長度均大于腔體本體(3)的寬度和長度。