[實用新型]一種防止液體交叉污染的導(dǎo)電膜生產(chǎn)線有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202120705907.3 | 申請日: | 2021-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN213183753U | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳訓(xùn)練;謝興才 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇軟訊科技有限公司 |
| 主分類號: | H01B13/00 | 分類號: | H01B13/00;H01B5/14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 防止 液體 交叉 污染 導(dǎo)電 生產(chǎn)線 | ||
本實用新型為一種防止液體交叉污染的導(dǎo)電膜生產(chǎn)線,包括若干箱體和設(shè)置在每個所述箱體后端的處理箱,所述箱體依次包括顯影箱、蝕刻箱、鍍銅箱、黑化箱和PMMA箱,所述處理箱內(nèi)設(shè)有上噴管和下噴管,所述上噴管和下噴管分別位于pet薄膜的上方和下方,所述上噴管和下噴管上開設(shè)有若干氣孔,所述氣孔的噴氣方向朝向前端對應(yīng)的所述箱體。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單,將顯影、蝕刻、鍍銅、黑化和PMMA工序集中在了一個生產(chǎn)線上,提高了生產(chǎn)效率;各個分工序完成后,使用氣孔對pet薄膜前工序殘留下來的溶液進行全方位的清洗,避免不同溶液后流造成交叉污染。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及導(dǎo)電膜材料技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種防止液體交叉污染的導(dǎo)電膜生產(chǎn)線。
背景技術(shù)
目前市場上制備液晶顯示器、等離子顯示器、電致發(fā)光顯示器、觸摸屏等透明電極最常用的導(dǎo)電膜材料是ITO(氧化銦錫)。然而,ITO內(nèi)含有約75%的銦金屬,銦是自然界中存儲量最低的稀有金屬之一,其產(chǎn)業(yè)可持續(xù)性存疑,成本較高。此外,ITO材料本身存在有顏色、易碎裂、毒性大、難回收等問題。同時,ITO材料使用蒸鍍工藝,存在設(shè)備成本高、材料浪費大、大尺寸成本壓力大等一系列問題。所以現(xiàn)在市場上出現(xiàn)了柔性金屬網(wǎng)格替代ITO材料方案,
柔性金屬網(wǎng)格(pet+雙層光刻膠+雙層金屬網(wǎng)格+雙層保護層)關(guān)鍵技術(shù)是pet表面涂布(光刻膠+催化劑+保護層)曝光完成后,通過特殊工藝,在pet表面鍍銅,從而形成金屬網(wǎng)格,進而替代ITO工藝,實現(xiàn)電容屏Sensor。現(xiàn)在市場上的顯影、蝕刻、鍍銅、黑化和PMMA這些工序都是單獨進行的,使得薄膜生產(chǎn)效率低;同時,在進行完顯影或蝕刻或鍍銅或黑化或PMMA的工序后,需要對薄膜上殘留下來的液體進行清洗,然后再進入到下一道工序,防止前道工序留下來的液體與后道工序內(nèi)的液體交叉污染。
實用新型內(nèi)容
本實用新型為了解決各個工序完成后,前工序會在pet薄膜上殘留溶液,會流到后工序溶液中造成交叉污染的問題,本實用新型提供了一種防止液體交叉污染的導(dǎo)電膜生產(chǎn)線,包括若干箱體和設(shè)置在每個所述箱體后端的處理箱,所述箱體依次包括顯影箱、蝕刻箱、鍍銅箱、黑化箱和PMMA箱,所述處理箱內(nèi)設(shè)有上噴管和下噴管,所述上噴管和下噴管分別位于pet薄膜的上方和下方,所述上噴管和下噴管上開設(shè)有若干氣孔,所述氣孔的噴氣方向朝向前端對應(yīng)的所述箱體。
作為優(yōu)選,所述處理箱的底部設(shè)有儲存腔,所述儲存腔的一側(cè)開設(shè)有溢流孔,所述溢流孔通過水管與水泵連通,所述水泵將所述儲存腔內(nèi)的液體抽回所述箱體內(nèi)。氣孔噴氣,將pet薄膜上的液體吹落,吹到儲存腔內(nèi),然后流到溢流孔內(nèi),經(jīng)過水泵將儲存腔內(nèi)的液體吸到處理箱對應(yīng)的箱體內(nèi),重復(fù)使用。
進一步地,所述箱體與所述處理箱之間設(shè)有隔板,所述隔板上開設(shè)有槽口。隔板將箱體與處理箱隔開,pet薄膜從槽口穿過到達處理箱內(nèi),然后處理箱內(nèi)的氣孔噴氣,進行將殘留的液體清潔。
作為優(yōu)選,所述箱體內(nèi)的液體與所述槽口齊平。pet薄膜從槽口進入到處理箱,槽口的位置正好與箱體內(nèi)液體齊平,可以對pet薄膜進行工藝處理。
進一步地,為了更好地將殘留的液體從pet薄膜吹落,所述氣孔向所述槽口傾斜噴射。
作為優(yōu)選,所述蝕刻箱與所述鍍銅箱之間設(shè)有檢測平臺,所述檢測平臺下方設(shè)有強光燈源。檢測平臺用于檢測薄膜進行完工藝處理后的情況,提高了產(chǎn)品良率。
進一步地,所述上噴管和下噴管傾斜設(shè)置在所述處理箱內(nèi)。上噴管和下噴管在水平面朝向箱體傾斜設(shè)置,提高了噴射面積,也節(jié)省了處理箱的空間。
有益效果:本實用新型結(jié)構(gòu)簡單,將顯影、蝕刻、鍍銅、黑化和PMMA工序集中在了一個生產(chǎn)線上,提高了生產(chǎn)效率;各個分工序完成后,使用氣孔對pet薄膜前工序殘留下來的溶液進行全方位的清潔,避免不同溶液后流造成交叉污染。
附圖說明
圖1為本實用新型的一個箱體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實用新型整體結(jié)構(gòu)示意圖;
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